Procedimiento para definir y reproducir estructuras en materiales conductores.

Un procedimiento de reproducción de un patrón electromecánico para la producción de micro o nanoestructuras de un material electroconductor en un sustrato (9),

a través del cual se reproduce un patrón de grabado, definido por un material con un patrón aislante eléctricamente, comprendiendo dicho procedimiento el uso de un proceso electroquímico para transferir dicho patrón en el sustrato (9), dicho proceso electroquímico que comprende la disolución de un material en una superficie anódica y la deposición del material en una superficie catódica

caracterizado por

colocar un electrodo maestro (8) que comprende una paca de contraelectrodo (1) y una capa aislante de patrón (3) del material aislante del patrón, en estrecha colaboración con el sustrato (9) de forma que el patrón queda definido por el uso del electrodo maestro (8), y

dicha disolución y deposición de material se realiza en las celdas locales de grabado (12, 14) que se forma en las cavidades, delimitado por la capa aislante de patrón (3) del electrodo maestro (8) y el sustrato (9),

siendo el sustrato (9) dicha superficie anódica y siendo el electrodo maestro (8) dicha superficie catódica y siendo las celdas locales de grabado dichas cavidades (12).

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E10182946.

Solicitante: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST).

Inventor/es: FREDENBERG,MIKAEL, WIWEN-NILSSON,PETER, MÉLLER,PATRIK.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D5/02 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 5/00 Revestimientos electrolíticos caracterizados por el proceso; Pretratamiento o tratamiento posterior de las piezas. › Deposiciones de áreas superficiales seleccionadas.
  • C25D5/22 C25D 5/00 […] › Deposiciones combinado con tratamiento mecánico durante la deposición.
  • C25D7/00 C25D […] › Deposiciones de metales por vía electrolítica caracterizadas por el objeto revestido.
  • C25D7/12 C25D […] › C25D 7/00 Deposiciones de metales por vía electrolítica caracterizadas por el objeto revestido. › Semiconductores.
  • C25F3/14 C25 […] › C25F PROCESOS PARA LA ELIMINACION ELECTROLITICA DE MATERIA EN OBJETOS; SUS APARATOS (tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla por procesos electroquímicos C02F 1/46; protección anódica o catódica C23F 13/00). › C25F 3/00 Grabado o pulido electrolítico. › Localmente.
  • H05K3/07 SECCION H — ELECTRICIDAD.H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05K CIRCUITOS IMPRESOS; ENVOLTURAS O DETALLES DE REALIZACION DE APARATOS ELECTRICOS; FABRICACION DE CONJUNTOS DE COMPONENTES ELECTRICOS (detalles de instrumentos o detalles comparables de otros aparatos no previstos en otro lugar G12B; circuitos de película delgada o de película gruesa H01L 27/01, H01L 27/13; medios no impresos para realizar conexiones con o entre circuitos impresos H01R; envolturas o detalles de realización de tipos particulares de aparatos, ver las subclases apropiadas; procedimientos que sólo comprenden una técnica prevista en otro lugar, p. ej. calefacción, pulverización, ver la subclase apropiada). › H05K 3/00 Aparatos o procedimientos para la fabricación de circuitos impresos (producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, materiales a este efecto o sus originales, aparellajes especialmente adaptados a este efecto, en general G03F; que implican la fabricación de dispositivos semiconductores H01L). › Eliminación por vía electrolítica.
  • H05K3/20 H05K 3/00 […] › por aplicación de un diseño de conductor prefabricado.

PDF original: ES-2645700_T3.pdf

 

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