Dispositivo sistema y procedimiento para su utilización en máquinas para la replicación electroquímica de patrones.

Dispositivo para la replicación electroquímica de patrones, ECPR,

caracterizado porque comprende: una base (16, 210, 311); un mandril inferior en una platina X-Y-Zeta (15, 26), estando dicho mandril inferior configurado para sostener un electrodo maestro (14, 25, 38) o un sustrato (19, 24, 34); y una platina Z (111, 211, 310) con un mandril superior (110, 212, 312) fijado a la misma, estando dicho mandril superior configurado para sostener un electrodo maestro (14, 25, 38) cuando el mandril inferior está configurado para sostener un sustrato (19, 24, 34), o un sustrato (19, 24, 34) cuando el mandril inferior está configurado para sostener un electrodo maestro (14, 25, 38); un sistema de monitorización del desplazamiento para medir el desplazamiento del electrodo maestro (14, 25, 38) con respecto al sustrato (19, 24, 34), en el que dicho sistema de monitorización del desplazamiento comprende un sensor de posición (22, 28, 32, 36, 41, 43, 48, 410, 51, 54) y un marco de referencia (11, 18, 21, 29, 31, 37, 42, 49, 55), en el que el sensor de posición (22, 28, 32, 36, 41, 43, 48, 410, 51, 54) está fijado a un marco de medición (47, 53), estando dicho marco de medición (47, 53) fijado a la platina Z (11, 211, 310) o al mandril superior (110, 212, 312), y mide una distancia desde el electrodo maestro (14, 25, 38) o el sustrato (19, 24, 34) hasta el marco de referencia (11, 18, 21, 29, 31, 37, 42, 49, 55) en el plano x-y.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2011/061996.

Solicitante: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST).

Inventor/es: MÖLLER,PATRIK, FREDENBERG,MIKAEL, LINDGREN,LENNART, SVENSSON,STEFAN, CHAUVET,JEAN-MICHEL, SANTOS,ANTONIO, UTTERBÄCK,TOMAS, ROSÉN,DANIEL, WIWEN-NILSSON,PETER, CAVAZZA,GILBERT, RAYNAUD,NICOLAS.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D1/00 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › Galvanoplastia.

PDF original: ES-2634088_T3.pdf

 

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