Dispositivo de administración de aerosol.

Un dispositivo (10) de administración de aerosol, que comprende:

una carcasa que incorpora una embocadura; y

una disposición (12) de vías de flujo en comunicación de fluido con la embocadura, incorporando ladisposición (12) de vías de flujo una válvula (20, 100) de umbral, en el que la válvula (20, 100) de umbralestá configurada para abrirse en un primer nivel de vacío y para cerrarse en un segundo nivel de vacío;en el que la carcasa incluye una zona que está adaptada para contener un polvo en comunicación de fluidocon la disposición (12) de vías de flujo, en el que el aire aspirado a través de la embocadura abre la válvula(20, 100) de umbral una vez que es sobrepasado el primer nivel de vacío y permanece abierta hasta que elvacío cae por debajo del segundo nivel de vacío, y en el que el primer nivel de vacío se sitúa en el intervalode aproximadamente 20 cm de H2O a aproximadamente 50 cm de H2O, y en el segundo nivel de vacío sesitúa en el intervalo de aproximadamente 0 cm de H2O a aproximadamente 12 cm de H2O, y en el que ladisposición (12) de vías de flujo comprende también una válvula (26, 32) de regulación del flujo y en el queel caudal del aire aspirado a través de la embocadura es regulado por la válvula (26, 32) de regulación delflujo para permanecer dentro de un determinado intervalo mientras la válvula (20, 100) de umbral estáabierta.

Dispositivo de administración de aerosol

Antecedentes de la invención La presente invención se refiere, en general, al campo de la administración de fármacos y, en particular, a la administración de formulaciones farmacéuticas a los pulmones. Más concretamente, la invención se refiere a la distribución de aerosol de formulaciones farmacéuticas utilizando los flujos de aire creados por la inhalación del paciente, y a la regulación de dichos flujos de aire de forma que la formulación farmacéutica se suministre al paciente dentro de un rango de caudales deseado.

La eficaz administración de fármacos a un paciente es un aspecto esencial en cualquier tratamiento farmacológico satisfactorio, y se ha propuesto una diversidad de técnicas de administración de fármacos. Por ejemplo, un procedimiento adecuado es la administración oral de píldoras, cápsulas, elixires y similares. Sin embargo, la administración oral puede en algunos casos no resultar deseable dado que muchos fármacos se degradan en el tracto digestivo antes de que puedan ser absorbidos. Otra técnica es la inyección subcutánea. Un inconveniente de este sistema es su escasa aceptación por parte del paciente. Otras vías alternativas de administración que han sido propuestas incluyen administración transdérmica, intrasanal, intrarrectal, intravaginal y pulmonar.

De particular interés para la invención son las técnicas de administración pulmonar que se basan en la inhalación de una formulación farmacéutica por el paciente para que el fármaco activo dentro de la dispersión pueda alcanzar las regiones distales (alveolares del pulmón) . Se ha propuesto una diversidad de sistemas de administración de aerosol para dispersar formulaciones farmacéuticas. Por ejemplo, las patentes estadounidenses Nos. 5, 785, 049 y 5, 740, 794, describen unos dispositivos ejemplares de dispersión de polvo que utilizan un gas comprimido para distribuir en forma de aerosol un polvo. Otros tipos de sistemas de distribución de aerosol incluyen los MDI (los cuales típicamente incorporan un fármaco que es almacenado dentro de un propulsor) , nebulizadores (los cuales distribuyen en forma de aerosol líquidos que utilizan gas comprimido, generalmente aire) , y similares.

Otra técnica de interés para la invención es el uso de gases inspirados para dispersar la formulación farmacéutica. De esta manera, el paciente puede proporcionar la energía necesaria para distribuir en forma de aerosol la formulación mediante la inhalación del propio paciente. Esto asegura que la generación de aerosol y la formulación resultan adecuadamente sincronizadas. La utilización de los gases inspirados del paciente puede ser problemática en varios aspectos. Por ejemplo, para algunas formulaciones farmacéuticas, como por ejemplo la insulina, puede ser deseable limitar el caudal de inhalación dentro de ciertos límites. Por ejemplo, el documento PCT/US 99/04654, depositado el 11 de marzo de 1999, proporciona la administración pulmonar de insulina a unas tasas inferiores a 17 litros por minuto. En otro ejemplo, la Solicitud de Patente estadounidense en tramitación con el número de Serie 09/414, 384 describe unas técnicas de administración pulmonar en las que se proporciona una elevada resistencia al flujo durante un periodo inicial seguido de un periodo de resistencia al flujo menor.

Otro problema en la utilización de gases inspirados del paciente es que el caudal de inspiración puede variar drásticamente de una persona a otra. Por ejemplo, hay personas que pueden inhalar para producir unos caudales que oscilan entre aproximadamente 5 litros por minuto y aproximadamente 35 litros por minuto, o incluso superiores. Dicha variabilidad puede afectar la capacidad de la formulación para ser dispersada dentro de un flujo gaseoso, la capacidad para desaglomerar una formulación en polvo, y / o la capacidad de la formulación distribuida en aerosol para alcanzar en la medida suficiente las regiones alveolares del pulmón. Las Solicitudes de Patente estadounidenses en tramitación Nos. 09/312, 434, depositada el 14 de mayo de 1999 y 09/583, 312, depositada el 30 de mayo de 2000 y las Publicaciones PCT Nos. WO 99/62495 y WO 01/00263 describen diversas técnicas para regular los caudales de inspiración.

La presente invención está relacionada con otras técnicas para la regulación del flujo de gases inspirados que pueden ser utilizadas en el momento de la dispersión de la formulación farmacéutica. En un aspecto, la invención está relacionada con diversas válvulas que pueden ser utilizadas para regular el flujo de dichos gases.

Sumario de la invención La invención, según se reivindica en las reivindicaciones adjuntas, proporciona unas técnicas para la regulación de los flujos de gas, especialmente los utilizados para distribuir en forma de aerosol polvos, así como dispositivos de inhalación y componentes de dichos dispositivos que facilitan la regulación de flujos de gas. Los flujos de gas son regulados utilizando una disposición de vías de flujo que incorpora una válvula de regulación del flujo y una válvula de umbral. La válvula de umbral está configurada para abrirse en un primer nivel de vacío y para cerrarse en un segundo nivel de vacío inferior al primer nivel de vacío. Un vacío es producido dentro de la disposición de vías del flujo, vacío suficiente para abrir la válvula de umbral y para permitir que un gas salga de la disposición de vías de flujo con un caudal determinado. Este vacío puede convenientemente ser producido por inhalación del paciente. Una vez que se abre la válvula de umbral el caudal se mantiene dentro de un intervalo específico hasta que la válvula de umbral se reajusta hasta un vacío menor que el requerido para abrir la válvula de umbral. Mediante la colocación de una cantidad de polvo en comunicación de fluido con la disposición de vías de flujo, la apertura abrupta de la válvula de umbral crea un flujo de gas suficiente para la distribución de aerosol del polvo. Así mismo, la válvula de

regulación del flujo regula el caudal para que se sitúe dentro de un intervalo determinado mientras que la válvula de umbral permanece abierta. Mediante la utilización de la válvula de umbral con el segundo nivel de vacío reajustado menor, el paciente puede reducir el vacío por debajo del vacío de apertura de la válvula de umbral pero puede seguir produciendo suficiente vacío para mantener abierta la válvula y mantener el caudal dentro del intervalo deseado. Si se produce un vacío excesivo, la válvula de regulación del flujo es utilizada para incrementar la resistencia al flujo y de esta forma mantener un caudal constante o casi constante a través de la disposición de vías de flujo.

En un aspecto, la disposición de vías de flujo presenta una configuración en serie -paralelo con una primera vía de flujo que se divide en una segunda vía de flujo y en una tercera vía de flujo. Así mismo, la válvula de umbral está en la primera vía de flujo, la válvula de regulación del flujo está en la segunda vía de flujo, y el polvo está acoplado a la tercera vía de flujo. Con dicha configuración, la válvula de regulación del flujo se cierra a una tasa superior para proporcionar una resistencia al flujo incrementada cuando el vacío aumenta, esto es, la válvula de regulación del flujo presenta una relación área del orificio / vacío marcadamente no lineal, para mantener el intervalo del flujo total dentro del intervalo deseado.

El primer nivel de vacío se sitúa en el intervalo de aproximadamente 20 cm de H2O a aproximadamente 50 cm de H2O, de modo más preferente de aproximadamente 25 cm de H2O a aproximadamente 40 cm de H2O y, de modo más preferente de aproximadamente 35 cm de H2O, y el segundo nivel de vacío se sitúa en el intervalo de aproximadamente 0 cm de H2O a aproximadamente 12 cm de H2O y, de modo más preferente, de aproximadamente 0 cm de H2O a aproximadamente 8 cm de H2O. El caudal puede ser regulado para situarse dentro del intervalo de aproximadamente 10 litros / min a aproximadamente 20 litros / min, y, de modo más preferente, de aproximadamente 12 litros / min a aproximadamente 16 litros / min para un amplio intervalo de niveles de vacío entre aproximadamente 15 cm de H2O y aproximadamente 80 cm de H2O.

En una configuración específica, la válvula de regulación del flujo comprende al menos una pared deformable y una superficie opuesta. La pared deformable se desplaza hacia la pared opuesta cuando el vacío corriente abajo de la válvula de regulación del flujo aumenta, incrementando con ello la resistencia al flujo para regular el caudal. Por ejemplo, en una forma de realización, la válvula de regulación del flujo comprende un cuerpo de la válvula que presenta un extremo... [Seguir leyendo]

1. Un dispositivo (10) de administración de aerosol, que comprende:

una carcasa que incorpora una embocadura; y

una disposición (12) de vías de flujo en comunicación de fluido con la embocadura, incorporando la disposición (12) de vías de flujo una válvula (20, 100) de umbral, en el que la válvula (20, 100) de umbral está configurada para abrirse en un primer nivel de vacío y para cerrarse en un segundo nivel de vacío;

en el que la carcasa incluye una zona que está adaptada para contener un polvo en comunicación de fluido con la disposición (12) de vías de flujo, en el que el aire aspirado a través de la embocadura abre la válvula (20, 100) de umbral una vez que es sobrepasado el primer nivel de vacío y permanece abierta hasta que el vacío cae por debajo del segundo nivel de vacío, y en el que el primer nivel de vacío se sitúa en el intervalo de aproximadamente 20 cm de H2O a aproximadamente 50 cm de H2O, y en el segundo nivel de vacío se sitúa en el intervalo de aproximadamente 0 cm de H2O a aproximadamente 12 cm de H2O, y en el que la disposición (12) de vías de flujo comprende también una válvula (26, 32) de regulación del flujo y en el que el caudal del aire aspirado a través de la embocadura es regulado por la válvula (26, 32) de regulación del flujo para permanecer dentro de un determinado intervalo mientras la válvula (20, 100) de umbral está abierta.

2. Un dispositivo de acuerdo con la reivindicación 1, en el que el intervalo determinado del caudal es de aproximadamente 12 litros / min a aproximadamente 16 litros / min para vacíos de aproximadamente 15 cm de H2O a aproximadamente 80 cm de H2O.

3. Un dispositivo de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la válvula (26, 32) de regulación del flujo comprende al menos una pared deformable y una superficie opuesta, en la que la pared deformable se desplaza hacia la superficie opuesta cuando el vacío corriente abajo de la válvula (26, 32) de regulación del flujo aumenta para regular el caudal.

4. Un dispositivo de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la disposición (12) de vías de flujo presenta una primera vía (18) de flujo que se divide en una segunda vía (22) de flujo y en una tercera vía (24) de flujo, en el que la válvula (20, 100) de umbral está en la primera vía (18) de flujo, la válvula (26, 32) de regulación del flujo está en la segunda vía (22) del flujo, y el polvo está acoplado a la tercera vía (24) del flujo.

5. Un dispositivo de acuerdo con la reivindicación 4, en el que la segunda vía (22) de flujo y la tercera vía (24) de flujo se combinan con una cuarta vía (30) de flujo que está conectada a la embocadura.

6. Un dispositivo de acuerdo con la reivindicación 1, en el que el segundo nivel de vacío es inferior a aproximadamente 8 cm de H2O.

7. Un dispositivo de acuerdo con la reivindicación 1, que comprende también un receptáculo (28) que está contenido dentro de la zona, presentando el receptáculo (28) una cámara que está adaptada para contener el polvo.