DISPOSITIVO DE ANALISIS ELEMENTAL POR ESPECTROMETRIA DE EMISION OPTICA DE PLASMA PRODUCIDO POR LASER.
Dispositivo de análisis elemental por espectrometría de emisión óptica de plasma producido por láser,
estando caracterizado este dispositivo porque comprende:
- una fuente (6) de láser pulsado,
- un diafragma (8) dispuesto para seleccionar una parte del haz de láser emitido por la fuente y, eventualmente, delimitar la forma del impacto del haz de láser en un objeto (2) a analizar, no estando enfocado este haz de láser en el plano del diafragma,
- unos primeros medios ópticos (10) dispuestos para proyectar en el infinito la imagen del diafragma,
- unos segundos medios ópticos (12) dispuestos para recibir la imagen del diafragma proyectada en el infinito por los primeros medios ópticos y para enfocarla en el objeto a analizar de forma que se produce un plasma (28) en la superficie de este objeto, estando dispuesto el conjunto formado por el diafragma (8) y los primeros (10) y segundos (12) medios ópticos de manera que:
la imagen del diafragma enfocada en el objeto alcanza la dimensión deseada en este objeto, correspondiendo esta dimensión a la resolución espacial buscada, y
el punto focal del haz de láser, después de atravesar el diafragma y los primeros y segundos medios ópticos, está fuera del plano de imagen del diafragma,
- unos medios (16, 18) de análisis de un espectro de la radiación luminosa emitida por el plasma, por mediación de una fibra óptica (14) de la cual un extremo está colocado cerca del plasma y de la cual el otro extremo está unido a los medios de análisis, y
- unos medios (20) de determinación, a partir de este análisis de espectro, de la composición elemental del objeto,
- unos medios de desplazamiento del objeto en un plano perpendicular al eje óptico del haz de excitación después de cada impulso de láser
Tipo: Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: W0003056FR.
Solicitante: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
COMPAGNIE GENERALE DES MATIERES NUCLEAIRES.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: 31-33, RUE DE LA FEDERATION,75752 PARIS CEDEX 15.
Inventor/es: MAUCHIEN, PATRICK, LACOUR,JEAN-LUC RESIDENCE LE CLOS D'ALENCON, WAGNER,JEAN-FRANCOIS, DETALLE,VINCENT.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 17 de Junio de 2009.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G01N21/71F
Clasificación PCT:
- G01N21/71 FISICA. › G01 METROLOGIA; ENSAYOS. › G01N INVESTIGACION O ANALISIS DE MATERIALES POR DETERMINACION DE SUS PROPIEDADES QUIMICAS O FISICAS (procedimientos de medida, de investigación o de análisis diferentes de los ensayos inmunológicos, en los que intervienen enzimas o microorganismos C12M, C12Q). › G01N 21/00 Investigación o análisis de los materiales por la utilización de medios ópticos, es decir, utilizando rayos infrarrojos, visibles o ultravioletas (G01N 3/00 - G01N 19/00 tienen prioridad). › excitado térmicamente.
Clasificación antigua:
- G01N21/71 G01N 21/00 […] › excitado térmicamente.
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