DISPOSITIVOS PARA CONTROLAR LA DIFERENCIA DE FASE EN SISTEMAS DE PROCESAMIENTO DE PLASMA.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN METODO PARA UN SISTEMA DE PROCESAMIENTO DE PLASMA,
PARA MODIFICAR UNA DIFERENCIA DE FASE ENTRE UNA PRIMERA FRECUENCIA DE RADIO (RF) Y UNA SEGUNDA SEÑAL RF. UNA PRIMERA FUENTE DE ENERGIA RF PROPORCIONA LA PRIMERA SEÑAL RF AL PRIMER ELECTRODO, Y UNA SEGUNDA FUENTE DE ENERGIA RF PROPORCIONA UNA SEGUNDA SEÑAL RF A UN SEGUNDO ELECTRODO DE UN SISTEMA DE PROCESAMIENTO DE PLASMA. LA SEGUNDA FUENTE DE ENERGIA RF ESTA ACOPLADA A LA PRIMERA FUENTE DE ENERGIA RF COMO ESCLAVA EN UNA CONFIGURACION AMA-ESCLAVA. EL METODO INCLUYE UN PASO DE DETERMINACION DE UNA DIFERENCIA DE FASE ENTRE LA FASE DE LA PRIMERA SEÑAL RF Y LA DE LA SEGUNDA SEÑAL RF. EL METODO INCLUYE ADEMAS EL PASO DE COMPARAR LA DIFERENCIA DE FASE CON UNA SEÑAL DE PUNTO DE CONTROL DE FASE PARA PRODUCIR COMO SALIDA UNA SEÑAL DE CONTROL DIRIGIDA A LA SEGUNDA FUENTE DE ENERGIA RF, DONDE LA SEGUNDA FUENTE DE ENERGIA RF, EN RESPUESTA A LA SEÑAL DE CONTROL, MODIFICA LA FASE DE LA SEGUNDA SEÑAL RF PARA HACER QUE LA DIFERENCIA DE FASE SE APROXIME A UN VALOR REPRESENTADO POR LA SEÑAL DE PUNTO DE CONTROL DE FASE.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: LAM RESEARCH CORPORATION.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 4650 CUSHING PARKWAY,FREMONT, CA 94538-6470.
Inventor/es: DIBLE, ROBERT, D., BRADLEY, STEPHEN, G., JAFARIAN-TEHRANI, SEYED, JAFAR.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 19 de Marzo de 1997.
Fecha Concesión Europea: 23 de Noviembre de 2005.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01J37/32 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
- H05H1/46 H […] › H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).
Países PCT: Austria, Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Países Bajos, Suecia, Irlanda, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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