COMPUESTO FENOXIFOSFACENO RETICULADOS, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION, COMPOSICIONES DE RESINA IGNIFUGAS Y RESINAS MOLDEADAS IGNIFUGAS.

Compuesto fenoxifosfaceno reticulado, caracterizado porque: al menos un compuesto fosfaceno seleccionado de entre el grupo formado por un compuesto fosfaceno cíclico representado por la fórmula (1) **(fórmula)** en la cual m es un número entero entre 3 a 25 y Ph es un grupo fenilo,

y un compuesto fosfaceno de cadena lineal o ramificada representado por la fórmula (2) **(fórmula)** en la cual X1 representa un grupo -N = P(OPh)3 o un grupo -N=P(O)OPh, Y representa un grupo -P(OPh)4 o un grupo -P(O)(OPh)2, y n es un número entero entre 3 a 10.000 y Ph es tal como se ha definido anteriormente, se reticula con al menos un grupo reticulante seleccionado de entre el grupo formado por un grupo o-fenileno, un grupo m-fenileno, un grupo p-fenileno y un grupo bisfenileno representado por la fórmula (3) **(fórmula)** en la cual A es -C(CH3)2-, -SO2-, -S- u -O- y z es 0ó1; (a) cada de los grupos reticulantes se interpone entre los dos átomos de oxígeno que quedan después de la eliminación de los grupos fenilo del compuesto fosfaceno; (b) la cantidad de grupos fenilo en el compuesto reticulado es del 50% al 99, 9% en base a la cantidad total de los grupos fenilo existentes en dicho compuesto fosfaceno representado por la fórmula (1) o dicho compuesto fosfaceno representado por la fórmula (2); y (c) el compuesto fenoxifosfaceno reticulado no tiene grupos hidroxilo libres en la molécula.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: OTSUKA CHEMICAL COMPANY, LIMITED.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 2-27, OTEDORI 3-CHOME, CHUO-KU,OSAKA-SHI, OSAKA 540-0021.

Inventor/es: NAKACHO, Y., TOKUSHIMA LAB. OF OTSUKA CHEMICAL CO., YABUHARA, T., TOKUSHIMA LAB. OF OTSUKA CHEMICAL CO, TADA, YUJI, TOKUSHIMA LAB. OF OTSUKA CHEMICAL CO., NISHIOKA, Y., TOKUSHIMA LAB. OF OTSUKACHEMICAL CO.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 5 de Agosto de 1999.

Fecha Concesión Europea: 26 de Mayo de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C07F9/06 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C07 QUIMICA ORGANICA.C07F COMPUESTOS ACICLICOS, CARBOCICLICOS O HETEROCICLICOS QUE CONTIENEN ELEMENTOS DISTINTOS DEL CARBONO, HIDROGENO, HALOGENOS, OXIGENO, NITROGENO, AZUFRE, SELENIO O TELURO (porfirinas que contienen metal C07D 487/22; compuestos macromoleculares C08). › C07F 9/00 Compuestos que contienen elementos de los grupos 5 o 15 del sistema periódico. › sin enlaces P — C.
  • C07F9/08 C07F 9/00 […] › Esteres de oxiácidos de fósforo.
  • C07F9/6581 C07F 9/00 […] › que tienen átomos de fósforo y de nitrógeno, con o sin átomos de oxígeno o de azufre, como heteroátomos del ciclo.
  • C08J5/00 C […] › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES.C08J PRODUCCION; PROCESOS GENERALES PARA FORMAR MEZCLAS; TRATAMIENTO POSTERIOR NO CUBIERTO POR LAS SUBCLASES C08B, C08C, C08F, C08G o C08H (trabajo, p. ej. conformado, de plásticos B29). › Fabricación de artículos o modelado de materiales que contienen sustancias macromoleculares (fabricación de membranas semipermeables B01D 67/00 - B01D 71/00).
  • C08K5/00 C08 […] › C08K UTILIZACION DE SUSTANCIAS INORGANICAS U ORGANICAS NO MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE LA COMPOSICION (colorantes, pinturas, pulimentos, resinas naturales, adhesivos C09). › Utilización de ingredientes orgánicos.
  • C08K5/5399 C08K […] › C08K 5/00 Utilización de ingredientes orgánicos. › Fósforo unido a nitrógeno.
  • C08L101/00 C08 […] › C08L COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES (composiciones basadas en monómeros polimerizables C08F, C08G; pinturas, tintas, barnices, colorantes, pulimentos, adhesivos C09; filamentos o fibras artificiales D01F; composiciones para el tratamiento de textiles D06). › Composiciones de compuestos macromoleculares no específicos.
  • C08L85/02 C08L […] › C08L 85/00 Composiciones de compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman un enlace que contiene átomos diferentes al silicio, azufre, nitrógeno, oxígeno y carbono en la cadena principal; Composiciones de los derivados de tales polímeros. › que contienen fósforo.
  • C09K21/12 C […] › C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.C09K SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE SUSTANCIAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.C09K 21/00 Sustancias ignífugas. › que contienen fósforo.
  • C09K21/14 C09K 21/00 […] › Sustancias macromoleculares.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

COMPUESTO FENOXIFOSFACENO RETICULADOS, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION, COMPOSICIONES DE RESINA IGNIFUGAS Y RESINAS MOLDEADAS IGNIFUGAS.

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