PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE DERIVADOS DE TRION-BIS (OXIMETER) ASI COMO DERIVADOS DE TRION-MONO- Y DE TRION-BIS (OXIMETER) OBTENIDOS CON EL MISMO.

Procedimiento para la obtención de derivados de trion-bis(oximéter) de la fórmula I,

**(Fórmula)** en la que los substituyentes tienen el siguiente significado: R1, R3 significan alquilo con 1 a 6 átomos de carbono insubstituido, parcial o completamente halogenado o cicloalquilo con 3 a 6 átomos de carbono; R2, R4 significan alquilo con 1 a 4 átomos de carbono insubstituido o metilo substituido con 2 a 4 átomos de carbono, por alquinilo con 2 a 4 átomos de carbono o por fenilo y X significa oxígeno o -N-OH, caracterizado porque 1) se hace reaccionar una diona de la fórmula II, **(Fórmula)** en la que los substituyentes R1, R2 y R3 tienen el significado anteriormente indicado, con un alcohol o con un diol en presencia de un ácido para dar el cetal de la fórmula III, **(Fórmula)** en la que los substituyentes R5 y R6 significan alquilo con 1 a 6 átomos de carbono, bencilo o halógenoalquilo con 1 a 3 átomos de carbono o R5 y R6 forman, junto con el átomo de carbono y con los dos átomos de oxígeno de la función cetal un anillo A**(Fórmula)** en la que los substituyentes y el índice n tienen el significado siguiente: R7, R8, R11, R12 significan hidrógeno, halógeno, alquilo con 1 a 4 átomos de carbono, halógenoalquilo con 1 a 3 átomos de carbono, alcoximetilo con 1 a 4 átomos de carbono, alquenilo con 2 a 4 átomos de carbono, alquinilo con 2 a 4 átomos de carbono o fenilo, pudiendo estar substituido este último por nitro o por halógeno; R9, R10 tienen uno de los significados indicados para R7, R8, R11 o R12 así como R9 y R10 significan, conjuntamente, un grupo exo-metileno o un grupo carbonilo y n significa 0, 1 o 2, 2) el cetal III, obtenido de este modo a) se transforma con una alcoxiamina de la fórmula R4O-NH2, donde R4 tiene el significado anteriormente indicado o con una de sus sales de adición con ácido, o b) con hidroxilamina o con su sal de adición de ácido y a continuación alquilación con un agente de alquilación R4-L1, donde R4 tiene el significado anteriormente indicado y L1 significa un grupo disociable, intercambiable de manera nucleófila, en el bisoximétercetal IV, **(Fórmula)** en la que los substituyentes R1 hasta R6 tienen el significado anteriormente indicado, y 3) el bisoximétercetal IV, obtenido de este modo, se hidroliza en presencia de ácidos a) para dar la bisoximétercetona Ia, **(Fórmula)** b) se amina con hidroxilamina o con su sal de adición de ácido para dar la bisoximéteroxima Ib, **(Fórmula)**

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: BASF AKTIENGESELLSCHAFT.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: ,67056 LUDWIGSHAFEN.

Inventor/es: GROTE, THOMAS, GYPSER, ANDREAS, KEIL, MICHAEL, RACK, MICHAEL, MAYER, HORST, SAUTER, HUBERT, GITZ, ROLAND, WOLF, BERND, STEINMETZ, ADRIAN.

Fecha de Publicación: 1 de Julio de 2003.

Fecha Solicitud PCT: 16 de Septiembre de 1999.

Fecha Concesión Europea: 11 de Diciembre de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

C07C249/08 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 249/00 Preparación de compuestos que contienen átomos de nitrógeno, unidos por enlaces dobles a una estructura carbonada (compuestos diazo C07C 245/12). › por reacción de hidroxilaminas con compuestos carbonilo.
C07C251/34 C07C […] › C07C 251/00 Compuestos que contienen átomos de nitrógeno, unidos por enlaces dobles a una estructura carbonada (compuestos diazo C07C 245/12). › con átomos de oxígeno de grupos oxiimino unidos a átomos de hidrógeno o a átomos de carbono de radicales hidrocarbonados insustituidos.
C07C251/60 C07C 251/00 […] › de radicales hidrocarbonados sustituidos por grupos carboxilo.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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