PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA REGULAR LA CONCENTRACION DE SUSTANCIAS EN ELECTROLITOS.

Procedimiento para regular la concentración de iones metálicos en un electrolito empleado para la deposición de metal,

el cual contiene adicionalmente compuestos de un sistema redox reversible electroquímicamente, cuya forma oxidada permite disolver el metal en un generador de iones, a través del cual se hace pasar el electrolito, de manera que los compuestos quedan reducidos, en la forma oxidada, mientras que los compuestos formados en la forma reducida vuelven a ser oxidados al efecto en los ánodos insolubles, y el metal, a partir del electrolito, que se halla por lo menos en un recipiente de galvanizado de una instalación de galvanización, es aportado sobre el material a tratar mediante el empleo de ánodos insolubles, caracterizado por el hecho de que a) por lo menos parte del líquido electrolito contenido en la instalación galvánica (13) se hace pasar a través de una o más células electrolíticas auxiliares (6) que tiene por lo menos un ánodo insoluble (8) y por lo menos un cátodo (7); y b)se establece un flujo de corriente eléctrica entre los ánodos (8) y los cátodos (7) de las células auxiliares (6) con un valor tan alto que la densidad de corriente en la superficie de los ánodos es por lo menos igual a 6 A/dm2, mientras la densidad de la corriente en la superficie de los cátodos es como

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: ERASMUSSTRASSE 20,10553 BERLIN.

Inventor/es: KOPP, LORENZ, WICHTER, RALF-PETER, GEISLER, JENS-ERIC, MAURER, MANFRED.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 19 de Agosto de 1998.

Fecha Concesión Europea: 20 de Marzo de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D1/00 QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › Galvanoplastia.

Países PCT: Austria, Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Países Bajos, Suecia, Oficina Europea de Patentes.

Patentes similares o relacionadas:

Procedimiento de duplicación de una textura de patrón nanoescalado sobre la superficie de un objeto por impresión y electroconformación, del 25 de Febrero de 2019, de SAMWON ACT CO., LTD: Procedimiento de duplicación de una textura de patrón nanoescalado de una superficie de un objeto por electroconformación utilizando un molde de impresión, que comprende: […]

Un soporte, y un procedimiento para juntar un primer y segundo sustrato, del 6 de Septiembre de 2017, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Un soporte para aguantar un electrodo maestro o un sustrato durante un proceso de ECPR, comprendiendo dicho soporte una superficie de interacción distal […]

Nivelación de un electrodo maestro y un sustrato en ECPR y un mandril adaptado para el mismo, del 30 de Agosto de 2017, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Un mandril para sujetar un sustrato o electrodo maestro en un proceso de replicación electroquímica de patrones (ECPR), contando dicho mandril con un extremo […]

Dispositivo sistema y procedimiento para su utilización en máquinas para la replicación electroquímica de patrones, del 19 de Abril de 2017, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Dispositivo para la replicación electroquímica de patrones, ECPR, caracterizado porque comprende: una base ; un mandril inferior en una […]

Llenado de una cámara de impresión y mandril correspondiente, del 7 de Septiembre de 2016, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Un mandril para sujetar un sustrato o electrodo maestro en un proceso de ECPR, comprendiendo dicho mandril una superficie de interacción para sujetar […]

Imagen de 'Funda para uso sobre componentes de perfil aerodinámico'Funda para uso sobre componentes de perfil aerodinámico, del 27 de Mayo de 2015, de HAMILTON SUNDSTRAND CORPORATION: Un artículo para proteger un perfil aerodinámico , que comprende: una doble funda que tiene un lado externo y un lado interno que forma una cavidad […]

AGENTES DE DUCTILIDAD PARA ALEACIONES DE NIQUEL TUNGSTENO., del 16 de Diciembre de 2004, de ENTHONE-OMI, INC.: Un baño de electrolito acuoso para electrodepositar una aleación de ion metálico-tungsteno, caracterizado porque comprende: una cantidad eficaz de iones […]

BAÑO ALCALINO DE ZINC Y NIQUEL., del 16 de Marzo de 2004, de WALTER HILLEBRAND GMBH & CO.: Baño de galvanización alcalina para aplicar revestimientos de cinc-níquel con un ánodo , un cátodo y un catolito alcalino en el que se emplean aminas como formadores […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .