FOTOINICADORES DE ESTERES DE OXIMA.

Fotoiniciadores de esteres de oxima, correspondientes a las fórmulas I,

II, III, IV y V, en donde los radicales Ar{sub,1}, Ar{sub,2}, R{sub,1}, R{sub,2}, M{sub,1}, M{sub,2}, y M{sub,3} se corresponden con lo expresado en las reivindicaciones. La invención describe también composiciones fotopolimerizables que contienen (a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable etilénicamente no saturado y (b) como fotoiniciador por lo menos uno de los compuestos de fórmulas I, II, III, IV, y/o V. Se refiere también a un procedimiento para la fotopolimerización de compuestos que contienen enlaces etilénicamente no saturados.
Estos compuestos y sus composiciones son adecuados como fotoiniciadores, en particular, en aplicaciones en resists.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: KLYBECKSTRASSE, 141,BASEL 4057.

Inventor/es: KUNIMOTO, KAZUHIKO, OKA,HIDETAKA, OHWA,MASAKI, TANABE,JUNICHI, KURA,HISATOSHI, BIRBAUM,JAEN-LUC.

Fecha de Solicitud: 13 de Diciembre de 2000.

Fecha de Publicación: 16 de Octubre de 2004.

Fecha de Concesión: 21 de Septiembre de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

C07C251/36 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 251/00 Compuestos que contienen átomos de nitrógeno, unidos por enlaces dobles a una estructura carbonada (compuestos diazo C07C 245/12). › con los átomos de carbono de los grupos oxiimino unidos a átomos de hidrógeno o a átomos de carbono acíclicos.
C07C251/52 C07C 251/00 […] › de radicales hidrocarbonados sustituidos por átomos de halógeno o por grupos nitro o nitroso.
C07C251/54 C07C 251/00 […] › de radicales hidrocarbonados sustituidos por átomos de oxígeno unidos por enlaces sencillos.
C07C323/47 C07C […] › C07C 323/00 Tioles, sulfuros, hidropolisulfuros o polisulfuros sustituidos por halógenos, átomos de oxígeno o de nitrógeno o por átomos de azufre que no forman parte de grupos tio. › a átomos de oxígeno.
C07D333/22 C07 […] › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 333/00 Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de cinco miembros que tienen un átomo de azufre como único heteroátomo del ciclo. › Radicales sustituidos por heteroátomos unidos por un enlace doble, o por dos heteroátomos distintos al halógeno, unidos por un enlace sencillo al mismo átomo de carbono.
C08F2/50 C […] › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08F COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO (producción de mezclas de hidrocarburos líquidos a partir de hidrocarburos de número reducido de átomos de carbono, p. ej. por oligomerización, C10G 50/00; Procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la síntesis de un compuesto químico dado o de una composición dada, o para la separación de isómeros ópticos a partir de una mezcla racémica C12P; polimerización por injerto de monómeros, que contienen uniones insaturadas carbono-carbono, sobre fibras, hilos, hilados, tejidos o artículos fibrosos hechos de estas materias D06M 14/00). › C08F 2/00 Procesos de polimerización. › con agentes sensibilizantes.
G03C9/08 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 9/00 Procesos estereofotográficos o análogos. › que producen imágenes de tres dimensiones.
G03F7/031 G03 […] › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.

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