APARATO DE VACIO Y METODO.

Una cámara de vacío y una cámara de esclusa de carga a través de las cuales se mueven unos artículos hacia dentro y hacia fuera de la cámara de vacío para su procesamiento,

que comprende: un alojamiento (11) que circunda un compartimiento que incluye una abertura (29) a través de su pared superior, por la cual se mueven los artículos, una superficie (35) de soporte de artículos situada dentro del compartimiento y que se mueve entre unas posiciones primera y segunda, en donde, cuando ésta está en su primera posición, el soporte de artículos para cubrir y sellar dicha abertura (29), hace contacto con un lado inferior de la pared superior alrededor de la abertura (29) de tal modo que unos artículos (51) se muevan a través de la abertura entre el exterior del alojamiento y dicha superficie; y en donde la segunda posición de la superficie de soporte se retira hacia abajo dentro del compartimiento a cierta distancia de dicha pared superior, una tapa (31) dispuesta en el exterior del compartimiento y que se mueve entre al menos unas posiciones primera y segunda, en donde, cuando ésta está en su primera posición, dicha tapa (31), para cubrir y sellar dicha abertura (29), hace contacto con un lado superior de la pared superior alrededor de la abertura (29), y en donde la segunda posición de la tapa se retira a cierta distancia de la pared superior de tal manera que se hagan pasar artículos a través de la abertura (29), al menos una bomba (19) de vacío conectable (1) para reducir la presión dentro de la cámara de vacío que se forma dentro del compartimiento cuando la superficie (35) de soporte de artículos o la tapa (31) están en sus primeras posiciones, y (2) para reducir la presión dentro de la cámara de esclusa de carga que se forma dentro del compartimiento cuando tanto la superficie (35) de soporte de artículos como la tapa (31) están en sus dichas primeras posiciones, y un mecanismo de transporte (53) dentro del alojamiento (11) que mueve artículos (51) entre la superficie de soporte (35) de artículos cuando esa superficie de soporte está en su dicha segunda posición y un lugar de procesamiento retirado de la segunda posición de la superficie de soporte dentro de la cámara de vacío, caracterizada porque los artículos tienen la configuración de segmentos (107-111) en forma de cuña de un portador (45, 51) de pastillas convexo circular.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: THE BOC GROUP, INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 575 MOUNTAIN AVENUE,MURRAY HILL, NEW PROVIDENCE.

Inventor/es: RAMSAY,BRUCE GORDON.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 2 de Octubre de 2001.

Fecha Concesión Europea: 1 de Abril de 2009.

Clasificación PCT:

  • H01L21/00 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas.
  • H01L21/68 H01L […] › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › para el posicionado, orientación o alineación.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania.

APARATO DE VACIO Y METODO.

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