CIP-2021 : G03F 7/40 : Tratamiento tras la eliminación según la imagen, p. ej. esmaltado.
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/40 · · Tratamiento tras la eliminación según la imagen, p. ej. esmaltado.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Proceso de elaboración de placas con polímeros líquidos.
(03/06/2020) Un método para fabricar un elemento de impresión en relieve en un proceso de elaboración de placas de fotopolímero líquido, en donde una capa de fotopolímero líquido se aplica sobre una película de recubrimiento colocada sobre un negativo sobre una platina de vidrio y se aplica una lámina de respaldo sobre la capa de fotopolímero líquido, el método comprende las etapas de:
a) exponer selectivamente la capa de fotopolímero líquido a radiación actínica a través del negativo para reticular y curar las porciones de la capa de fotopolímero líquido y crear la imagen en relieve en la misma, en donde las porciones de la capa de fotopolímero líquido no están reticuladas y se curan;
b) regenerar las partes no curadas de la capa de fotopolímero líquido para su reutilización en el proceso de elaboración…
Método y aparato para procesamiento térmico de elementos de impresión fotosensibles.
(06/02/2019) Un aparato para formar una estructura en relieve sobre un elemento de impresión fotosensible, donde el elemento de impresión fotosensible incluye un sustrato flexible y al menos una capa de material fotosensible sobre el sustrato flexible, incluyendo el aparato:
(i) un recinto;
(ii) un medio de transporte incluyendo un bucle continuo, sobre el que se puede soportar un elemento de impresión fotosensible;
(iii) un rodillo calentable montado en el recinto;
(iv) un material absorbente que cubre al menos una parte del rodillo calentable, donde el material absorbente es capaz de absorber material licuado o ablandado…
Método para producir una placa de impresión flexográfica.
(09/05/2018). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, YAWATA,YUKIMI, YOSHIOKA,DAIKI.
Un método para producir una placa de impresión flexográfica a partir una placa original de impresión flexográfica provista de una capa de resina fotosensible que comprende una composición de resina fotosensible que contiene al menos (A) un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable y (C) un iniciador de fotopolimerización, donde el método comprende un paso de exposición principal, un paso de revelado y un paso de post-exposición, caracterizado por que una disolución de tratamiento que contiene una primera silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 1000 g/mol o menor y una segunda silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 3000 g/mol o mayor en una proporción en masa de desde 2,5:1 hasta 1:6 se pone en contacto con toda la superficie de la placa de impresión flexográfica.
PDF original: ES-2672001_T3.pdf
Método para fabricar placa de impresión flexográfica y placa de impresión flexográfica.
(11/04/2018). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: MOTOI, KEIICHI, YOSHIMOTO,KAZUYA.
Un método para la fabricación de una placa de impresión flexográfica, que se caracteriza por que se prepara, un líquido que contiene un compuesto de silicona modificado con amino para entrar en contacto con una placa de impresión flexográfica que contiene un látex que tiene un grado de gelificación de no menos del 50% en masa, en donde se utiliza un compuesto de silicona modificado con amino que tiene un equivalente de grupos amino de no menos de 500 g/mol.
PDF original: ES-2665942_T3.pdf
Miembro con trozo cóncavo y método para fabricar el mismo.
(04/04/2018) Un método para fabricar un miembro con trozos rebajados, el miembro con trozos rebajados incluye:
un área de impresión en la que se forma un gran número de trozos rebajados sobre una superficie de la misma; y
un área de no impresión en la que los trozos rebajados no se forman sobre la superficie de la misma,
la superficie es llevada hasta el contacto con un material viscoso de modo que el material viscoso se acumula en los trozos rebajados,
el exceso de material viscoso es raspado de la superficie al provocar que una cuchilla raspadora empuje horizontalmente sobre la superficie y mover relativamente la cuchilla raspadora, el método comprende las etapas de:
fabricar un miembro de base que tiene el área de impresión en la que se forma el gran número de trozos rebajados sobre la superficie y el área de no impresión…
Procedimiento para la cocción de placas de impresión revestidas.
(30/08/2017) Procedimiento para la cocción de un revestimiento de un soporte de placa de impresión, en el que la placa de impresión como material de soporte presenta aluminio o una aleación de aluminio, y en el que la placa de impresión se calienta a una temperatura de cocción, se mantiene a esa temperatura durante un tiempo predefinido y posteriormente se enfría, caracterizado por que en un intervalo de temperaturas de entre 150 °C y la temperatura de cocción, preferentemente de entre 100 °C y la temperatura de cocción, las diferencias de temperatura de la temperatura del metal de la placa de impresión, medidas a lo largo de una línea en la dirección longitudinal de la placa de impresión durante el calentamiento y durante el enfriamiento, alcanzan como máximo 40 °C sobre una longitud de…
Placas de impresión sensibles a IR revelables en prensa que utilizan resinas ligantes que tienen segmentos de óxido de polietileno.
(22/06/2016) Una placa de impresión litográfica de trabajo negativo que comprende (a) un sustrato y (b) aplicada al sustrato una capa de trabajo negativo que comprende
una composición polimerizable que comprende
(i) un compuesto polimerizable, y
(ii) un agente ligante polimérico;
en donde el agente ligante polimérico comprende segmentos de óxido de polietileno y se selecciona de por lo menos un copolímero de injerto que comprende un polímero de cadena principal y cadenas laterales de óxido de polietileno, un copolímero en bloque que tiene por lo menos un bloque de óxido de polietileno y por lo menos un bloque de óxido de no polietileno, y una combinación de los mismos;
…
Composición de resina fotosensible, placa de impresión flexográfica y procedimiento para producir una placa de impresión flexográfica.
(09/03/2016). Solicitante/s: Asahi Kasei E-Materials Corporation. Inventor/es: YOSHIDA, MASAHIRO, TABATA, SHUSAKU.
Composición de resina fotosensible, que comprende:
100 partes en masa de un prepolímero de poliuretano que tiene un grupo etilénicamente insaturado y que tiene una proporción de segmentos de polietileno comprendida entre el 5% y el 25% en masa;
de 10 partes a 150 partes en masa de un componente etilénicamente insaturado, con respecto a 100 partes en masa del prepolímero de poliuretano; y
de 0,01 a 10 partes en masa de un iniciador de fotopolimerización, con respecto a 100 partes en masa del prepolímero de poliuretano,
en la que dicho componente etilénicamente insaturado comprende de 0,1 a 10 partes en masa de uno o más compuestos etilénicamente insaturados polifuncionales, que tienen 6 o más grupos (met)acriloílo en una molécula de los mismos, con respecto a 100 partes en masa de dicho prepolímero de poliuretano.
PDF original: ES-2565021_T3.pdf
PROCEDIMIENTO DE CONFORMACIÓN DE MANGUITOS DE IMPRESIÓN FOTOSENSIBLES.
(16/04/2012) Un procedimiento de realización de un manguito de impresión cilíndrico hueco, comprendiendo el procedimiento:
a) proporcionar un elemento de impresión fotosensible que comprende:
i) una capa de soporte cilíndrica hueca, comprendiendo la capa de soporte cilíndrica hueca un compuesto de absorción de radiación actínica que se distribuye uniformemente a través de su totalidad;
ii) al menos una capa de material fotopolimerizable que se deposita sobre la capa de soporte cilíndrica hueca; y
iii) una capa de enmascarado fotográfico encima de la al menos una capa de material fotopolimerizable que absorbe la radiación a una longitud de onda que se usa para polimerizar la capa de material fotopolimerizable;
b) retirar partes de la capa de enmascarado fotográfico…
PROCEDIMIENTO PARA LA CONFECCION AUTOMATICA DE RODILLOS DE IMPRESION.
(01/09/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: PHOTOMECA S.A. / EGG. Inventor/es: FERRANTE, MARIO.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE CLICHES DE FOTOPOLIMEROS PREVIAMENTE EXPUESTOS A RADIACION UVA Y MONTADOS SOBRE CILINDROS DE IMPRESION, CONJUNTO (CLICHES FOTOPOLIMEROS DE IMPRESION PARA LA IMPRESION EN FLEXOGRAFIA Y EN OFFSET EN SECO, CARACTERIZADO PORQUE TODAS LAS ETAPAS DEL PROCEDIMIENTO DE LOS MANGUITOS DE IMPRESION SON AUTOMATICAS. LA INVENCION SE REFIERE TAMBIEN A UN DISPOSITIVO PARA LA FABRICACION DE CLICHES DE FOTOPOLIMEROS MONTADOS SOBRE CILINDROS, DEFINIDOS POR MANGUITOS DE IMPRESION, PARA LA IMPRESION EN FLEXOGRAFIA Y OFFSET EN SECO, CARACTERIZADO PORQUE LLEVA ESENCIALMENTE LOS SIGUIENTES PUESTOS, DISPUESTOS UNO TRAS OTRO EN LINEA: ALMACENAMIENTO QUE RECIBE MANGUITOS DE IMPRESION PREVIAMENTE EXPUESTOS A RADIACION UVA; ; ADO : IMPRESION TERMINADOS.
PROCESO DE LITOGRABADO SOBRE SUSTRATO SEMICONDUCTOR, EN PARTICULAR PARA EL TRATAMIENTO LOCALIZADO EN UN SALIENTE.
(16/09/1998). Solicitante/s: ALCATEL ALSTHOM COMPAGNIE GENERALE D'ELECTRICITE. Inventor/es: POINGT, FRANCIS, LIEVIN, JEAN-LOUIS, GAUMONT-GOARIN, ELISABETH.
PROCESO DE TRATAMIENTO LOCALIZADO EN UN SALIENTE, EN PARTICULAR DE LITOGRABADO SOBRE SUSTRATO SEMICONDUCTOR. SEGUN ESTE PROCESO SE LLEVA UNA RESINA DE PROTECCION UTILIZADA PARA EL LITOGRABADO A FLUIR BAJO EL EFECTO DE SU TENSION SUPERFICIAL PARA AUMENTAR SU ESPESOR ALREDEDOR DE UN SALIENTE SOBRE LA QUE SE DEBE FORMAR UNA VENTANA . LA INVENCION SE APLICA EN PARTICULAR A LA FABRICACION DE LOS LASERES SEMICONDUCTORES.
SISTEMA DEEP-UV-RESIST RESISTENTE A TRATAMIENTO QUIMICO.
(16/09/1997). Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SEZI, RECAI, DR., SEBALD, MICHAEL, DR. RER. NAT., LEUSCHNER, RAINER, DR. RER. NAT., BIRKLE, SIEGFRIED, DR. RER. NAT., AHNE, HELLMUT, DR..
SE PROPONE UN SISTEMA FOTORRESISTENTE FACILMENTE ESTRUCTURABLE, EN ESPECIAL PARA EL MARGEN UV PROFUNDO, EN EL QUE EN LAS ESTRUCTURAS FOTORRESISTENTES OBTENIDAS POR LITOGRAFIA SE GENERA, POR TRATAMIENTO CON UN REACTIVO, UNA MAYOR RESISTENCIA A UN PLASMA HALOGENADO. EL REACTIVO POSEE PREDOMINANTEMENTE UNA ESTRUCTURA AROMATICA Y POSEE GRUPOS REACTIVOS, QUE SE PRESTAN, INCLUSO EN CONDICIONES NORMALES, A LA REACCION QUIMICA CON OTROS GRUPOS REACTIVOS DEL SISTEMA FOTORRESISTENTE. ESTE POOSEE EN ESPECIAL GRUPOS ANHIDRIDO O EPOXIDO Y SE PRESTA PARA LA ESTRUCTURACION EN LUZ UV PROFUNDA.
PROCEDIMIENTO DE FOTOESTRUCTURACION.
(16/09/1997). Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SEBALD, MICHAEL, DR. RER. NAT., LEUSCHNER, RAINER, DR. RER. NAT., BIRKLE, SIEGFRIED, DR. RER. NAT., AHNE, HELLMUT, DR., SEZI, RECAI, DR.-ING.
SE PROPONE UN PROCEDIMIENTO SIMPLE PARA LA VARIACION DEL ANCHO DE ESTRUCTURAS FOTORESISTENTES MEDIANTE UN TRATAMIENTO DE TALES ESTRUCTURAS DEL TIPO NORMAL CON UN AGENTE QUE CONTIENE UNA COMPONENTE DE ENSANCHAMIENTO Y QUE SE COMBINA CON GRUPOS FUNCIONALES DE LA ESTRUCTURA FOTORESISTENTE. COMO CONSECUENCIA DE ESTA COMBINACION, CRECE EL VOLUMEN DE LA ESTRUCTURA. EL TRATAMIENTO DE ENSANCHAMIENTO SE REALIZA PREFERENTEMENTE CON UNA SOLUCION Y A TEMPERATURAS AMBIENTES, MANEJANDOSE LA AMPLITUD DEL CRECIMIENTO DE VOLUMEN MEDIANTE LA VARIACION DE VARIOS PARAMETROS DIFERENTES.
PROCEDIMIENTO DE FOTOESTRUCTURACION.
(16/07/1997). Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BIRKLE, SIEGFRIED, LEUSCHNER, RAINER, KUHN, EBERHARD, BECK, JURGEN, DIPL.-CHEM., SEBALD, MICHAEL, DR., SEZI, RECAI, DR., AHNE, HELLMUT, DR..
UN PROCEDIMIENTO PARA ESTRUCTURACION EN EL CAMPO SUBMICRON ESTA CARACTERIZADO POR LOS SIGUIENTES PASOS: SE REUNE UNA CAPA FOTORESISTENTE DE UN COMPONENTE DE POLIMERO CON GRUPOS FUNCIONALES QUE ESTAN CAPACITADOS PARA UNA REACCION CON AMINAS PRIMARIAS O SECUNDARIAS Y GRUPOS IMIDOS QUE BLOQUEAN EL NITROGENO, DE UN FOTOINICIADOR LIBERADO POR LA EXPOSICION DE UN ACIDO Y DE UN DISOLVENTE APROPIADO; ENTE SE SECA; LA CAPA FOTORESISTENTE EXPUESTA SE SOMETE A UN TRATAMIENTO DE TEMPERATURA ; ESTRUCTURA FOTORESISTENTE; RATA CON UN AGENTE QUIMICO QUE CONTENGA UN AMINO PRIMARIO O SECUNDARIO; EN EL REVELADO SE GRADUA UN NIVEL DE OSCURIDAD DEFINITIVO EN UN CAMPO ENTRE 20 Y 100 NM.
MEJORAS EN RELACION A COMPUESTOS POLIMERICOS.
(16/11/1994). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: ETHERINGTON, TERENCE, KOLODZIEJCZYK, VICTOR.
SE PRESENTAN COMPUESTOS POLIMERICOS QUE COMPRENDEN GRUPOS DE LA FORMULA (I) UNIDOS A ATOMOS DE CARBONO DE UN POLIMERO QUE CONTENGA HIDROXIL Y OPCIONALMENTE GRUPOS EPOXIDOS EN LOS QUE X SEA LA FORMULA (II). LOS COMPUESTOS SE PRODUCEN POR REAACCION DE UN POLIMERO INICIADOR, QUE CONTIENE GRUPOS DE HIDROXIDO Y OPCIONALMENTE GRUPOS EPOXIDOS CON UN REAGENTE QUE CONTENGA UN GRUPO DE ANHIDRIDO CICLICO Y ADEMAS UN GRUPO FUNCIONAL CAPAZ DE REACCIONAR CON LOS GRUPOS HIDROXILES Y / O EPOXIDOS PREFERENCIALMENTE CON EL GRUPO DE ANHIDRIDO. LOS COMPUESTOS SON UTILES COMO RESINAS DE SOPORTE PARA LOS COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACCION EN LA PRODUCCION DE PLANCHAS DE IMPRESION.
TRATAMIENTO DE MIEMBROS SENSIBLES A LA RADIACION.
(16/12/1993). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: STYAN, PAUL ANTHONY, RIGBY, STEPHEN DAVID.
EN UN PROCESO DE TRATAMIENTO DE UN MIEMBRO SENSIBLE A LA RADIACION, QUE INCLUYE UNA EXPOSICION A LA RADIACION ADECUADA A LA IMAGEN, DESARROLLO Y QUEMADO DEL MIEMBRO, DESPUES DEL DESARROLLO Y ANTES DEL QUEMADO, SE APLICA AL MIEMBRO UNA SOLUCION ACUOSA QUE INCLUYE ETIL-HEXIL-SULFATO.
PROCESO PARA DESHILVANAR LAMINAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICA FOTOPOLIMERICO.
(01/02/1993). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: GIBSON, JOSEPH WHITTON, JR.
UN PROCESO MEJORADO PARA DESHILVANAR OPORTUNAS IMAGENES EXPUESTAS Y LAMINAS DE IMPRESION RELIEVE FLEXOGRAFICO FOTOPOLIMERICO REVELADO EN SOLVENTE EN DONDE UN SOLVENTE ORGANICO APROTICO ES APLICADO A LA SUPERFICIE DE LA LAMINA DE IMPRESION ANTERIOR A LA IRRADIACION CON LONGITUDES DE ONDA DEL RANGO DE 200 A 300 NM.
PERFECCIONAMIENTOS EN APARATOS PARA TRATAR LA SUPERFICIE DE OBJETOS CILINDRICOS EN UN NUMERO DE ETAPAS EN SECUENCIA.
(01/11/1980). Solicitante/s: UNIROYAL LIMITED.
DISPOSITIVO PARA TRATAR LA SUPERFICIE DE OBJETOS CILINDRICOS EN ETAPAS SUCESIVAS. CONSTA DE UN RECINTO, MEDIOS DE MONTAJE EN EL RECINTO PARA ACOPLAMIENTO DESMONTABLE EN LOS EXTREMOS OPUESTOS DE UN OBJETO CILINDRICO, MEDIOS DE TRANSMISION PARA PRODUCIR LA ROTACION DE LOS MEDIOS DE MONTAJE PARA GIRO SOBRE SU EJE GEOMETRICO, PLURALIDAD DE DISPOSITIVO DE TRATAMIENTO DIRIGIDOS HACIA EL LUGAR QUE OCUPA EL OBJETO MONTADO Y MEDIOS QUE CONTROLAN EL FUNCIONAMIENTO DE LOS DISPOSITIVOS DE TRATAMIENTO EN ETAPAS SUCESIVAS.
