CIP-2021 : C23C 16/00 : Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos,

no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).

CIP-2021CC23C23CC23C 16/00[m] › Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto

C23C 16/01 · sobre sustratos temporales, p. ej., sobre sustratos que posteriormente se eliminan por ataque químico.

C23C 16/02 · Pretratamiento del material a revestir (C23C 16/04 tiene prioridad).

C23C 16/04 · Revestimiento de partes determinadas de la superficie, p. ej. por medio de máscaras.

C23C 16/06 · caracterizado por la deposición de un material metálico.

C23C 16/08 · · a partir de haluros metálicos.

C23C 16/10 · · · Deposición solamente de cromo.

C23C 16/12 · · · Deposición solamente de aluminio.

C23C 16/14 · · · Deposición de solo otro elemento metálico.

C23C 16/16 · · a partir de carbonilos metálicos.

C23C 16/18 · · a partir de compuestos organometálicos.

C23C 16/20 · · · Deposición solamente de aluminio.

C23C 16/22 · caracterizado por la deposición de materiales inorgánicos, distintos de los materiales metálicos.

C23C 16/24 · · Deposición solamente de silicio.

C23C 16/26 · · Deposición solamente de carbono.

C23C 16/27 · · · solamente diamante.

C23C 16/28 · · Deposición de solo otro elemento no metálico.

C23C 16/30 · · Deposición de compuestos, de mezclas o de soluciones sólidas, p. ej. boruros, carburos, nitruros.

C23C 16/32 · · · Carburos.

C23C 16/34 · · · Nitruros.

C23C 16/36 · · · Carbo-nitruros.

C23C 16/38 · · · Boruros.

C23C 16/40 · · · Oxidos.

C23C 16/42 · · · Siliciuros.

C23C 16/44 · caracterizado por el proceso de revestimiento (C23C 16/04 tiene prioridad).

C23C 16/442 · · utilizando procesos en lechos fluidizados.

C23C 16/448 · · caracterizado por el proceso utilizado para producir corrientes de gases reactivos, p. ej. por evaporación o sublimación de los materiales precursores.

C23C 16/452 · · · por activación de corriente de gases reactivos antes de la introducción en la cámara de reacción, p. ej. por ionización o por adición de especies reactivas.

C23C 16/453 · · haciendo pasar los gases de reacción a través de quemadores o de antorchas, p. ej. CVD a presión atmosférica (C23C 16/513 tiene prioridad; para la pulverización de material de revestimiento en estado fundido con ayuda de una llama o de un plasma C23C 4/00).

C23C 16/455 · · caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara de reacción.

C23C 16/458 · · caracterizado por el método usado para sujetar los sustratos en la cámara de reacción.

C23C 16/46 · · por la forma de calentar el sustrato (C23C 16/48, C23C 16/50 tienen prioridad).

C23C 16/48 · · por irradiación, p. ej. por fotolisis, radiolisis o radiación corpuscular.

C23C 16/50 · · por medio de descargas eléctricas.

C23C 16/503 · · · utilizando descargas con corriente continua o alterna.

C23C 16/505 · · · utilizando descargas con radiofrecuencia.

C23C 16/507 · · · · utilizando electrodos externos, p. ej. en reactores de tipo túnel.

C23C 16/509 · · · · utilizando electrodos internos.

C23C 16/511 · · · utilizando descargas con microondas.

C23C 16/513 · · · utilizando chorros de plasma.

C23C 16/515 · · · utilizando descargas impulsadas.

C23C 16/517 · · · utilizando una combinación de descargas cubiertas por varios de los grupos C23C 16/503 - C23C 16/515.

C23C 16/52 · · Control o regulación de los procesos de revestimiento.

C23C 16/54 · · Aparatos especialmente adaptados para el revestimiento en continuo.

C23C 16/56 · Tratamiento posterior.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

PROCESO PARA LA FABRICACION DE UNA LAMINA METALIZADA DE FILM-FIBRA PLEXIFILAMENTARIA DE POLIETILENO.

(16/03/1996). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: LEE, CHI-CHANG, JONES, DAVID CHARLES.

ESTA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO PARA LA FABRICACION DE UNA LAMINA ESPECULAR METALIZADA, ALTAMENTE SATINADA, DE FILM-FIBRA PLEXIFILAMENTARIA DE POLIETILENO, CON MUY BAJA EMISION, QUE SE REALIZA MEDIANTE EL PROCESO DE CALDEADO DE UNA LAMINA DE FILM-FIBRA DE POLIETILENO QUE PASA ENTRE UN RODILLO MULLIDO METALICO Y OTRO RODILLO RESISTENTE, PARA FORMAR UNA LAMINA ESPECULAR ALTAMENTE SATINADA, SEGUIDA POR LA METALIZACION AL VACIO DE LA SUPERFICIE ALTAMENTE SATINADA. DICHAS HOJAS METALIZADAS SON UTILES COMO BARRERAS A LA RADIACION O REVESTIMIENTO DE TEJADOS PARA EL AHORRO DE ENERGIA.

DISPOSITIVO DE FABRICACION DE PREFORMAS PARA FIBRAS OPTICAS.

(01/01/1993). Solicitante/s: ETAT FRANCAIS REPRESENTE PAR LE MINISTRE DES POSTES, TELECOMMUNICATIONS ET DE L'ESPACE. Inventor/es: CHOLLET, PATRICK, SAADA, SERGE, MOISAN, MONIQUE, PAVY, DOMINIQUE, DAVOUST, MARIE-EVE.

SE PONE EN MARCHA LA TECNICA DE DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR USANDO UN PLASMA MANTENIDO POR ONDAS DE SUPERFICIE EN UN TUBO DESTINADO A LA OBTENCION DE UNA PREFORMA Y COMPRENDE MEDIOS DE FOTODETECCION SENSIBLES A LA LUZ EMITIDA POR LA ZONA DE DEPOSITO DEL REVESTIMIENTO VIDRIADO RESULTANDO DE LA REACCION ENTRE COMPUESTOS GASEOSOS ADECUADOS, Y APTOS PARA PROPORCIONAR INFORMACIONES RELATIVAS A LA ZONA DE EMISION DE ESTA LUZ, Y MEDIOS DE REGULACION DEL DESPLAZAMIENTO DE LA ZONA DE DEPOSITO, SIENDO EL DESPLAZAMIENTO TAL QUE EL ESPESOR DEL REVESTIMIENTO SEA UNIFORME EN EL TUBO, PIDIENDO ESTOS MEDIOS DE REGULACION LA POTENCIA DEL GENERADOR DE MICROONDAS DEL DISPOSITIVO EN FUNCION DE DICHAS INFORMACIONES. APLICACION AL CAMPO DE LAS TELECOMUNICACIONES.

VIGA DISTRIBUIDORA PARA DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO SOBRE VIDRIO.

(16/07/1989). Ver ilustración. Solicitante/s: LIBBEY-OWENS-FORD CO.. Inventor/es: GREENBERG, WILLIAM M., BAUMAN, RANDALL L., MAAS, DENNIS G.

UNA VIGA DISTRIBUIDORA PARA DEPOSITAR MATERIAL DE REVESTIMIENTO SOBRE LA SUPERFICIE DE UNA LAMINA DE VIDRIO INCLUYE UNA CAMARA IMPELENTE DIVIDIDA POR UN TABIQUE PARA SEPARAR DIFERENTES GASES DE REVESTIMIENTO. SALIDAS PARA LOS GASES ESTAN CONECTADAS A UNA ENTRADA A UNA CAMARA DE MEZCLADO PARA SEPARAR Y DIRIGIR DE NUEVO EL FLUJO DE LOS GASES A FIN DE MEZCLARLO A FONDO EN FORMA DE UN MATERIAL DE REVESTIMIENTO. UN DEFLECTOR DE DEDO QUE TIENE DOS GRUPOS DE ELEMENTOS DE DEDO EXTERNOS SE EXTIENDE A TRAVES DE LA ANCHURA DE LA CAMARA DE MEZCLADO. CADA ELEMENTO DE DEDO TIENE UN EXTREMO MAS PROXIMO DE LA SALIDA DE LA CAMARA IMPELENTE QUE DE UN EXTREMO OPUESTO. LA CAMARA IMPELENTE ESTA RODEADA POR UN CONDUCTO DE FLUIDO DE ENFRIAMIENTO, Y ESTAN PREVISTOS ELEMENTOS DE CALENTAMIENTO PARA CONTROL DE LA TEMPERATURA.

"UN METODO DE FABRICACION DE UNA PILA SOLAR".

(16/12/1983). Solicitante/s: WESTINGHOUSE ELECTRIC CORPORATION.

METODO DE FABRICACION DE UNA PILA SOLAR. SE FORMA UNA CAPA DE UN METAL M SEGUN LA REACCION (I) EN DONDE M SE SELECCIONA DEL GRUPO CONSTITUIDO POR ELEMENTOS DE LOS GRUPOS III, IV Y V DE LA TABLA PERIODICA, CADA X SE SELECCIONA INDEPENDIENTEMENTE DEL GRUPO CONSTITUIDO POR CLORO, BROMO Y YODO, R SE SELECCIONA DEL GRUPO CONSTITUIDO POR HIDROGENO Y LOS ELEMENTOS DE LOS GRUPOS I Y II DE LA TABLA PERIODICA HASTA NUMERO ATOMICO 30, N ES LA VALENCIA DE M Y M ES N/VALENCIA DE R, CALENTANDO UN SUSTRATO HASTA UNA TEMPERATURA ALTA PARA VAPORIZAR EL MRXN/M, SIENDO CALENTADO DICHO MR SOBRE UNA CARA DEL SUSTRATO, QUE ES PERMEABLE A DICHO MR LO SUFICIENTE PARA QUE ESTE SE DIFUNDA A TRAVES DE DICHO SUSTRATO, QUE ES INERTE PARA LOS REACTIVOS, Y SEPARANDO DICHO SUSTRATO INERTE DE DICHO MXN, PARA POR ULTIMO CALENTAR ESTE SOBRE LA OTRA CARA DE DICHO SUSTRATO LO SUFICIENTE PARA VAPORIZARLO.

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