CIP-2021 : C23C 16/458 : caracterizado por el método usado para sujetar los sustratos en la cámara de reacción.

CIP-2021CC23C23CC23C 16/00C23C 16/458[2] › caracterizado por el método usado para sujetar los sustratos en la cámara de reacción.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto

C QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).

C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).

C23C 16/458 · · caracterizado por el método usado para sujetar los sustratos en la cámara de reacción.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Dispositivo para depositar nanotubos.

(06/05/2020) Dispositivo para depositar estructuras especialmente que contienen carbono, por ejemplo capas en forma de nanotubos o grafeno sobre un sustrato , que es soportado por un soporte de sustrato dispuesto en una carcasa de cámara de proceso y que se extiende en un plano, en el que la carcasa de cámara de proceso posee una estructura simétrica abatible con respecto a un plano y el soporte del sustrato es un cuerpo plano que se extiende en el plano de simetría, cuyos dos lados anchos pueden llevar, respectivamente, un sustrato y frente a cada una de las dos superficies laterales anchas del soporte del sustrato se encuentra una placa de entrada de gas , que presenta orificios de salida de gas , de un órgano de entrada de gas , en el que a través de los…

Disposición, sistema y procedimiento para el procesamiento de cuerpos multicapa.

(04/12/2019). Solicitante/s: (CNBM) Bengbu Design & Research Institute for Glass Industry Co., Ltd. Inventor/es: JOST, STEFAN, PALM,JÖRG, FÜRFANGER,MARTIN.

Disposición de cuerpos multicapa (28a a 28e), que comprende - al menos dos cuerpos multicapa , cada uno de los cuales tiene al menos una superficie a procesar, - al menos un dispositivo (30a a 30g) para el posicionamiento de los cuerpos multicapa , donde el dispositivo (30a a 30g) está diseñado de tal manera que las superficies a procesar en cada caso se encuentren opuestas entre sí, caracterizada por que forman así un espacio de procesamiento casi cerrado (21') dispuesto entre las superficies , en el que tiene lugar el procesamiento, donde casi cerrado describe un espacio de procesamiento que está abierto en el borde y en el que, durante el período del procesamiento de los cuerpos multicapa no se produce prácticamente ningún intercambio de gases entre el espacio de procesamiento y sus alrededores, de modo que no se produce ningún cambio significativo en las condiciones del proceso en el espacio de procesamiento.

PDF original: ES-2774920_T3.pdf

Portasustratos portador de un sustrato en cada uno de sus dos lados anchos que miran uno hacia fuera de otro.

(16/10/2019) Portasustratos para disponerlo en un reactor CVD o PVD , especialmente para la deposición de nanotubos de carbono y grafeno, con una primera superficie de lado ancho para recibir un sustrato a revestir y con una segunda superficie de lado ancho que mira hacia fuera de la primera superficie de lado ancho , en el que la primera superficie de lado ancho y la segunda superficie de lado ancho presentan sendas zonas de alojamiento de sustrato en las que están previstos elementos de inmovilización (14, 14', 15) con los cuales se puede fijar siempre un sustrato o secciones de un sustrato a la superficie de lado ancho , y en el que la zona…

Sistema y método de deposición de vapor.

(04/09/2019) Un sistema de deposición , que comprende: una carcasa del sistema que tiene un armazón de la carcasa, unos paneles de la carcasa soportados por dicho armazón de la carcasa y un interior de la carcasa ; un conjunto de transferencia de utillajes de sujeción que tiene un carril inclinado de transferencia de utillajes de sujeción en general alargado soportado por el armazón del sistema y que se extiende a través del interior de la carcasa; una pluralidad de cámaras de deposición ordenadas de manera secuencial soportadas por el carril de transferencia de utillajes de sujeción en el interior de la carcasa; un controlador que está interconectado…

Accesorios que comprenden medios magnéticos para sostener piezas de trabajo simétricas rotatorias.

(12/03/2019) Un sistema de accesorio que comprende varias partes, siendo al menos una de las partes una pieza de sujeción para sujetar una pieza de trabajo que comprende sustancias ferromagnéticas, comprendiendo dicha pieza de trabajo un cuerpo con dos extremos y exhibiendo a lo largo de un eje giratorio una forma simétrica con una dimensión radial y con superficies que pueden tratarse por medio de un proceso de tratamiento de vacío asistido por plasma, comprendiendo dicha parte de retención medios magnéticos que generan un campo magnético con una fuerza magnética en la dirección del eje rotatorio que es lo suficientemente alta para sostener la pieza de trabajo si la pieza de trabajo se coloca en una…

Dispositivo y procedimiento para la fabricación de capas finas.

(06/03/2019) Dispositivo para la fabricación de capas finas sobre substratos, especialmente para la fabricación de células solares, con - un camino de transporte horizontal con rodillos transportadores , que consisten en un material resistente a la temperatura, no metálico, para el transporte de los substratos en servicio continuo, - un dispositivo de revestimiento APCVD dispuesto sobre el camino de transporte para la aplicación de las capas finas mediante un procedimiento APCVD a temperaturas de más de 250°C, - un dispositivo calentador y un dispositivo de sumnistro de gas de purga , que están dispuestos en el área del dispositivo de revestimiento APCVD en el lado del camino de transporte opuesto…

Dispositivo de soporte para sustratos, así como procedimiento para el revestimiento de un sustrato.

(27/02/2019) Dispositivo de soporte para sustratos a revestir que comprende un dispositivo de apoyo para el sustrato a revestir, que presenta una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato , así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera con una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato, así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera, en donde está presente al menos una abertura pasante, que une las dos caras del dispositivo de apoyo , a través de la cual es posible una regulación de la presión de gas que reina en la cara del sustrato , caracterizado por que el dispositivo de apoyo está delimitado por al menos dos elementos de soporte dispuestos de manera enfrentada, en donde los elementos de soporte están formados…

Dispositivo de sujeción para el tratamiento de superficies de cuchillas de barras.

(25/09/2018). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: VOGEL,REMO, STEWART,ROBERT EUGENE, LAFORCE,PHILLIP J.

Dispositivo de sujeción con cuchillas de barras para la fijación de cuchillas de barras para el recubrimiento de sus aristas cortantes, estando configurada la fijación de tal modo que varias cuchillas de barras pueden colocarse en fila de modo que sus superficies cortantes y puntas presenten la misma orientación, y el dispositivo de sujeción comprende un blindaje, que protege las superficies cortantes al menos parcialmente del recubrimiento, caracterizado por que en el caso de las cuchillas de barras colocadas en fila de la manera descrita el borde1 superior del blindaje supera en altura las puntas de cuchilla en un modo que no sobresale ninguna punta de cuchilla, estando distanciado el blindaje de las superficies cortantes.

PDF original: ES-2683231_T3.pdf

Aparato de deposición química de vapor asistida por plasma de microondas.

(27/09/2017). Solicitante/s: IIA Technologies Pte. Ltd. Inventor/es: MISRA,DEVI SHANKER.

Un aparato para cultivar diamantes, comprendiendo el aparato: una o más cámaras , estando cada cámara en conexión fluida con una o más otras cámaras , comprendiendo cada cámara uno o más conjuntos de plataforma de sustrato dentro de la cámara para soportar una plataforma de sustrato , en donde el conjunto de plataforma de sustrato comprende una placa , dicha plataforma de sustrato y un reflector periférico ; estando soportados la plataforma de sustrato y el reflector periférico en la parte superior de la placa , caracterizado por que las cámaras están dispuestas en serie con tubos de flujo de gas entre cada cámara, o las cámaras están dispuestas en una red de manera que cada cámara está conectada a una cámara adyacente, para permitir el flujo de gas entre las cámaras.

PDF original: ES-2652129_T3.pdf

NANOTUBOS DE CARBONO DE PARED MULTIPLE (MWCNT) PARA ADSORCION DE HIDROGENO, METODO DE OBTENCION Y METODO DE PURIFICACION.

(14/09/2017). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE CHILE. Inventor/es: MOSQUERA VARGAS,Edgar Eduardo, MOREL ESCOBAR,Mauricio, CARVAJAL HERRERA,Nicolas Antonio, TAMAYO CALDERON,Rocio Maria, CABRERA PAPAMIJA,Gerardo.

La presente invención se refiere a nanotubos de carbono de pared múltiple (MWCNT de sus siglas en inglés, Multi-Wall Carbon Nanotubes) para adsorción de hidrógeno molecular, método de obtención de los nanotubos por técnica de deposición química en fase vapor asistida por aerosol (AACVD, de sus siglas en inglés, Aerosol Assisted Chemical Vapor Deposition) utilizando como catalizador mineral magnetita con una pureza >85%, y método de purificación de dichos nanotubos obtenidos para incrementar su capacidad de adsorción de hidrógeno.

Soporte para revestimiento de cabezal de taladro.

(08/03/2017) Soporte para sustentar taladros en una instalación de revestimiento, con una primera pared perforada con primeros orificios y una segunda pared perforada, separada con respecto a la primera pared, con segundos orificios o hendiduras, que están armonizados con respecto a los primeros orificios, de manera tal que los taladros pueden introducirse de manera correspondiente en los primeros orificios y los mismos taladros puedan introducirse simultáneamente en los segundos orificios o hendiduras comprendiendo el soporte por lo menos una tercera pared separada con respecto a la segunda pared, que es adecuada para…

Carro con carrusel para instalaciones de tratamiento al vacío.

(22/12/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Trübbach. Inventor/es: GWEHENBERGER,JUERGEN.

Instalación de tratamiento al vacío con una cámara de vacío y un carro de carrusel con un carrusel , donde la cámara de vacío presenta una compuerta y un propulsor del carrusel, caracterizada por que el propulsor del carrusel es un propulsor periférico, que se ha previsto en la cámara de vacío en la pared de la cámara de vacío y/o en la proximidad de la pared opuesta a la compuerta de la cámara de vacío.

PDF original: ES-2554683_T3.pdf

Procedimiento y dispositivo para el revestimiento en continuo de sustratos.

(09/12/2015) Procedimiento para el revestimiento en continuo de sustratos, en el que en un dispositivo de revestimiento los sustratos son transportados a través de un espacio de deposición que está limitado por dos soportes de sustrato (1, 1') así como por un suelo y una tapa , en donde el suelo presenta un dispositivo para guiar los soportes de sustrato (1, 1'), y los sustratos son transportados sobre los soportes de sustrato (1, 1') a través del dispositivo de revestimiento, durante el transporte se realiza el revestimiento en continuo de los sustratos, y en donde la tapa está fijada a los soportes de sustrato (1, 1') y de esta manera se transporta junto con los soportes (1, 1') de sustrato mediante el dispositivo de revestimiento.

Instalación de recubrimiento en vacío en-línea.

(20/05/2015) Instalación de recubrimiento en vacío en-línea con una cámara de recubrimiento en vacío con al menos una unidad de recubrimiento así como con un carro desplazable a través de la cámara de recubrimiento en vacío para el alojamiento de sustratos en forma de tubo giratorios alrededor de su eje longitudinal, caracterizada por un árbol dentado giratorio instalado fijo estacionario y conectado con un accionamiento giratorio y por medio de una rueda dentada que se puede llevar a engrane con el árbol dentado y que está alojada de forma giratoria en el carro , cuya rueda dentada es desplazable cargada por resorte en contra de la dirección de la marcha del carro longitudinalmente en una extensión predeterminada.

Reactor de CVD para la deposición de capas a partir de una mezcla de gas de reacción sobre piezas de trabajo.

(25/03/2015) Reactor de CVD para la deposición de capas a partir de un gas de reacción sobre piezas de trabajo, que comprende: - una cámara de reactor alargada, que discurre en vertical, que está delimitada por una pared de reactor calentada al menos parcialmente y un fondo de reactor, - un conducto de entrada para la entrada del gas de reacción en la cámara de reactor, que en la zona del fondo de reactor entra en la cámara de reactor, - un conducto de salida para la salida del gas de reacción usado de la cámara de reacción, que en la zona del fondo de reactor sale de la cámara de reactor, -…

Manipulador para el posicionamiento dinámico de un sustrato, procedimiento de recubrimiento así como utilización de un manipulador.

(28/05/2014) Manipulador de componentes para el posicionamiento dinámico de un sustrato que debe tratarse en un proceso de tratamiento térmico, en el que el manipulador de componentes comprende un eje de accionamiento principal giratorio alrededor de un eje de giro principal , un elemento de acoplamiento y un soporte del sustrato , que se puede conectar con el elemento de acoplamiento , caracterizado porque el elemento de acoplamiento es un elemento de acoplamiento cerámico y un segmento de conexión del soporte del sustrato está dispuesto de manera que se puede conectar por medio de una conexión giratoria de enchufe de forma fija contra tracción…

Soporte de recipientes.

(11/12/2013) Un soporte de recipientes portátil para un sistema de procesamiento de recipientes y que está adaptado para sostener unrecipiente mientras se reviste la superficie interior del recipiente y se inspecciona en busca de defectos y mientras setransporta el recipiente desde una primera estación de procesamiento hasta una segunda estación de procesamiento delsistema de procesamiento de recipientes, comprendiendo el soporte de recipientes: un puerto de recipientes configurado para asentar una abertura del recipiente y para procesar la superficie interior delrecipiente asentado a través del puerto de recipientes en la primera estación de procesamiento…

DISPOSITIVO PORTAPIEZA.

(27/06/2011) Dispositivo portapieza con al menos un portapieza que comprende un bastidor giratorio montado en un chasis básico giratorio sobre un eje de accionamiento , y una pieza de accionamiento también giratoria sobre el eje de accionamiento respecto del bastidor giratorio y una pluralidad de soportes portapieza distanciados del eje de accionamiento y montados giratorios en el bastidor giratorio sobre ejes de soporte paralelos a dicho eje de accionamiento , y con al menos una pieza de transmisión rígida para el giro de los soportes portapieza respecto del bastidor giratorio , pieza de transmisión que engrana en forma giratoria, por un lado, con la pieza de accionamiento sobre un punto de salida distanciado en una excentricidad (E) del eje de accionamiento…

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO DE INFILTRACIÓN DE UNA ESTRUCTURA DE MATERIAL POROSO MEDIANTE DEPÓSITO QUÍMICO EN FASE VAPOR.

(25/04/2011) Procedimiento de infiltración de una estructura de material poroso, mediante depósito químico en fase vapor, que comprende dos caras opuestas, estando la primera cara expuesta a un flujo gaseoso , estando la segunda cara , al menos en parte, libre de cualquier contacto, que se caracteriza porque se dispone un soporte perforado con canales paralelos y dotado de un cono de activación de proceso a la salida de estructura de material poroso con relación al flujo gaseoso, estando esta estructura apoyada sobre, o suspendida por encima de, este soporte

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA RECUBRIR AL MENOS UNA GOMA DE LIMPIAPARABRISAS.

(01/04/2007). Solicitante/s: ROBERT BOSCH GMBH. Inventor/es: WEBER, THOMAS, BURGER, KURT, SCHNEIDER, GUENTER, BURGHOFF, KLAUS, FORGET-FUNK, JEANNE.

Procedimiento para recubrir goma de limpiaparabrisas de un material elastomérico, en el que primero se limpia y activa la superficie del material elastomérico mediante un plasma, y en el que después un material de recubrimiento se pasa en un proceso CVD a un estado en forma de plasma y forma al menos una capa protectora sobre la superficie del material , aplicándose sobre la región del material alejada de la capa protectora una tensión de alta frecuencia a través de un electrodo , caracterizado porque el material se corta antes de su introducción en una cámara de tratamiento a partir de una banda perfilada, a una longitud lista para usarse, para formar diferentes gomas de limpiaparabrisas, se dispone encima de una placa de electrodos y se expone a una corriente de plasma.

APARATO DE ROTACION PLANETARIA IMPULSADO POR GAS Y METODOS PARA FORMAR CAPAS DE CARBURO DE SILICIO.

(16/10/2006). Solicitante/s: CREE, INC.. Inventor/es: PAISLEY, MICHAEL, JAMES, SUMAKERIS, JOSEPH, JOHN.

Aparato de rotación impulsado por gas para su uso con un flujo de gas impulsor, comprendiendo el aparato: a) un elemento de base que tiene una superficie (151A) superior; b) un plato principal que recubre la superficie superior del elemento de base; y c) un plato satélite que recubre el plato principal; d) en el que el aparato está adaptado para dirigir el flujo de gas impulsor entre la superficie (151A) superior del elemento de base y el plato principal, de tal manera que el plato principal se haga rotar con respecto al elemento de base mediante el flujo del gas impulsor; y dirigir al menos una parte del flujo de gas impulsor desde entre la superficie superior del elemento de base y el plato principal hasta entre el plato principal y el plato satélite, de tal manera que el plato satélite se haga rotar con respecto al plato principal mediante al menos una parte del flujo de gas impulsor.

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