CIP-2021 : G03F 7/004 : Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).

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G FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

G03F 7/004 · Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

FOTOCATALIZADOR ANIONICO.

(16/04/2006). Solicitante/s: DSM N.V.. Inventor/es: JANSEN, JOHAN, FRANZ, GRADUS, ANTONIUS, STANSSENS, DIRK, ARMAND, WIM.

LA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION QUE COMPRENDE MATERIAL POLIMERIZABLE Y UN FOTOCATALIZADOR ANIONICO. DICHO FOTOCATALIZADOR ES UN COMPUESTO FOTOLABIL, CAPAZ DE LIBERAR UNA BASE FUERTE CON UN PK A 12. DICHO CATALIZADOR SE PUEDE REP RESENTAR MEDIANTE LA FORMULA ESTRUCTURAL Z - A, DONDE Z ES UN GRUPO FOTOLABIL Y A ES UNA BASE FUERT, POR EJEMPLO, UN COMPUESTO QUE CONTIENE NITROGENO COMO, POR EJEMPLO, UNA AMINA SECUNDARIA, UNA GUANIDINA O AMIDINA, Y Z ESTA UNIDO COVALENTEMENTE A A.

MONOACILALQUILFOSFINAS ORGANOMETALICAS.

(16/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: HUG, GEBHARD, WOLF, JEAN-PIERRE.

Monoacilalquilfosfinas organometálicas. Son compuestos correspondientes a las fórmulas I, II o III, en donde los radicales Ar, M, R6, Ax, Y1, Z1, y los radicales subordinados correspondientes se describen en la descripción y en las reivindicaciones. Se describen también procesos para la preparación de estos compuestos. Los compuestos I se usan como materiales de partida para la preparación de mono- o bisacilfosfinas, óxidos de mono- o bisacilfosfinas, o sulfuros de mono- bisacilfosfinas. Los compuestos II y III se usan como iniciadores de fotopolimerización de compuestos monoméricos no volátiles, y compuestos oligoméricos o poliméricos que tengan al menos un doble enlace etilénico insaturado.

REVESTIMIENTOS DE POLIMEROS DE ABSORCION DEL INFRARROJO PROXIMO TERMICAMENTE REACTIVOS, METODOS DE PREPARACION Y METODOS DE USO.

(01/03/2005) Un polímero de absorción del infrarrojo próximo que comprende las siguientes unidades repetidas: **(Fórmula)** en la que E representa el segmento de absorción del infrarrojo próximo, que exhibe bandas de absorción fuertes entre 780 y 1200 nm; F representa el segmento de procesamiento, que proporciona excelentes propiedades peliculígenas y solubilidad en soluciones acuosas que tienen un pH entre 2, 0 y 14, 0; G representa el segmento térmicamente reactivo, que sufre reacciones químicas o físicas localizadas, con o sin catalizadores, durante la exposición localizada a luz lasérica del infrarrojo próximo de modo que dicho polímero…

METODO PARA FORMAR PLANCHAS DE IMPRESION LITOGRAFICA.

(16/05/2004) UN PROCEDIMIENTO PARA FORMAR DIRECTAMENTE IMAGENES SOBRE UNA SUPERFICIE DE IMPRESION LITOGRAFICA UTILIZANDO RADIACION INFRARROJA, SIN EL REQUERIMIENTO DE PRE- O POST-EXPOSICION A LUZ ULTRAVIOLETA, O A UN TRATAMIENTO TERMICO, USA UNA PLACA DE IMPRESION QUE CONTIENE UN SOPORTE, CON UNA SUPERFICIE HIDROFILICA SOBREREVESTIDA CON UNA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES. LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES CONTIENE POR LO MENOS UN POLIMERO CON GRUPOS UNIDOS QUE CUELGAN, QUE SON HIDROXI, ACIDO CARBOXILICO, TERT BUTIL - OXICARBONILO, SULFONAMIDA, AMIDA, NITRILO, UREA, O SUS COMBINACIONES, ADEMAS DE UN COMPUESTO ABSORBENTE DE INFRARROJOS. LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES PUEDE CONTENER UN SEGUNDO POLIMERO…

COMPOSICNES FOTORRESISTENTES DE ALTA RESOLUCION.

(01/04/2004). Solicitante/s: SHIPLEY COMPANY INC.. Inventor/es: DANIELS, BRIAN KENNETH, MADOUX, DAVID CHARLES, TEMPLETON, MICHAEL KARPOVICH, TREFONAS III, PETER, WOODBREY, JAMES CALVIN, ZAMPANI, ANTHONY.

ESTA INVENCION ESTA DIRIGIDA A NUEVOS PROCEDIMENTOS Y COMPOSICIONES FOTORRESISTENTES QUE TIENEN RESINAS ALCALI-SOLUBLES DE ALTA RESOLUCION, COMPONENTES FOTOACTIVOS DE ALTA RESOLUCION CON VARIOS GRUPOS DE DIAZOQUINONA POR MOLECULA, Y DISOLVENTES QUE TIENEN UN ALTO PODER DE DISOLUCION, MEJOR SEGURIDAD, FOTOVELOCIDAD MEJORADA, CONTRASTE MAS ALTO Y GROSOR DE PELICULA FUNDIDA EQUIVALENTE A PARTIR DE FORMULACIONES DE SOLIDOS DE PORCENTAJE INFERIOR.

ALQUILSULFONILOXIMAS PARA FOTORESISTS DE LINEA I DE ALTA RESOLUCION, DE ALTA SENSIBILIDAD.

(16/11/2003) LA PRESENTE INVENCION DESCRIBE EL USO DE LOS COMPUESTOS DE SULFONATO ALKILO OXIME QUE CORRESPONDE A LA FORMULA DONDE RREPRESENTA EL NAFTILO O . R0 REPRESENTA O UN GRUPO R1 -X, O SEA R2 , MIENTRAS QUE X REPRESENTA UN ENLACE DIRECTO, UN ATOMO DE OXIGENO O UN ATOMO DE AZUFRE. R1 REPRESENTA EL HIDROGENO, ALKILO C1-C4 O UN GRUPO FENIL QUE OCASIONALMENTE PUEDE SUSTITUIRSE MEDIANTE UN SUSTITUYENTE EN EL GRUPO QUE COMPRENDE EL CLORO, EL BROMO, EL ALKILO C1-C4 Y ALQUILOXI C1-C4 . R2 REPRESENTA EL OXIGENO O EL ALKILO C1-C4 , MIENTRAS QUE R3 REPRESENTA UN ALKILO C1-C12 DE CADENA DERECHA O RETICULADA QUE PUEDE, A VECES SUSTITUIRSE PORUNO O VARIOS ATOMOS HALOGENOS. ESTOS COMPUESTOS SE UTILIZAN EN CALIDAD DE GENERADORDE ACIDO FOTOSENSIBLE EN UNA FOTORESINA QUIMICAMENTE AMPLIFICADA. ESTA FOTORESINA, QUE PUEDE DESARROLLARSE EN UN MEDIO ALCALINO ES SENSIBLE A LAS RADIACIONES…

DERIVADOS DE OXIMA Y SU USO COMO ACIDOS LATENTES.

(16/10/2003) Los compuestos de la fórmula I, II y III, en donde R{sub,1} por ejemplo es hidrógeno, alquilo C{sub,1}-C{sub,12}, cicloalquilo C{sub,3}-C{sub,30}, alquenilo C{sub,2}-C{sub,12}, cicloalquenilo C{sub,4}-C{sub,8}, fenilo, el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido, naftilo, antracilo o fenantrilo, no sustituido o sustituido, radical heteroarilo el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido; en donde todos los radicales R{sub,1} a excepción del hidrógeno, pueden ser sustituidos adicionalmente por un grupo que presente un enlace - O-C- ó un enlace -O-Si- el cual se escinde bajo la acción…

FTALOCIANINAS SUSTITUIDAS.

(01/07/2003) Compuesto de la fórmula**(Fórmula)** en la que M significa un metal, oxometal, halogenometal o hidroximetal divalentes o 2 átomos de hidrógeno, A significa un resto**(Fórmula)** o **(Fórmula)** que puede estar sin sustituir o sustituido por fenoxi, naftoxi, feniltio o naftiltio, X es un heteroátomo elegido entre N, O y S, teniendo en cuenta que cuando X es O o S, m es el número 0 y cuando X es N, entonces m es el número 1, Y significa cualquier sustituyente inerte frente a los reactivos alquilantes, Z significa hidrógeno, Z’ o COOB, Z’ significa (alquileno C2-C12)-N(COOB)2, (alquileno C2-C12)-NHCOOB, (alquileno C2-C12)-OCOOB o (alquileno C2-C12)-SCOOB, x es un número de 1 a 4 e “y” es un número de 0 a 15, la suma de x e “y” es igual a 16 como máximo y eventualmente, en cada caso, varios restos X, Y, Z y/o Z’ pueden ser idénticos o distintos, y B es un…

"SULFONILOXIMAS PARA FOTORRESISTORES DE LINEA I DE ALTA SENSIBILIDAD YALTOS ESPESORES DE RESISTENCIA".

(01/02/2002). Solicitante/s: CIBA SPECIALITY CHEMICALS HOLDING INC. Inventor/es: DE LEO, CHRISTOPH, ASAKURA,TOSHIGAKE, BLEIER,HARTMURT.

Sulfoniloximas para fotorresistores de línea I de alta sensibilidad y altos espesores de resistencia. La invención describe una composición que puede activarse por la luz, que comprende a) un compuesto que puede reticularse con la acción de un ácido; b) un compuesto que cambia sus solubilidad bajo la acción de un ácido; y c) como fotoiniciador un compuesto que genera un ácido sulfónico bajo la exposición de luz de longitud de onda de 240 a 390 nm, y con un coeficiente de extinción {ep} inferior a la línea i(365 nm). Estas composiciones son especialmente apropiadas para la preparación de fotorresistores negativos y positivos, placas de impresión, materiales de registro de imagen o filtros de color.

ESTABILIZACION DE COMPOSICIONES LIQUIDAS ENDURECIBLES POR RADIACIONES, CONTRA UNA INDESEABLE PREMATURA POLIMERIZACION.

(16/12/2001). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., STEINMANN, BETTINA, HOFMANN, MANFRED.

SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA ESTABILIZAR UNA COMPOSICION LIQUIDA ENDURECIBLE POR RADIACION, CONTENIENDO UN COMPUESTO CATIONICAMENTE POLIMERIZABLE, Y UN FOTOINICIADOR PARA LA POLIMERIZACION CATIONICA, CONTRA UN INICIO TEMPRANO DE LA POLIMERIZACION, HACIENDO ENTRAR EN CONTACTO UN INTERCAMBIADOR BASICO DE IONES CON LA COMPOSICION AL MENOS TEMPORALMENTE. PREFERIBLEMENT EL INTERCAMBIADOR DE IONES NO DEBE ESTAR EN CONTACTO POR LO MENOS CON LA PARTE DE LA COMPOSICION QUE SEA SENSIBLE A LAS RADIACIONES ANTES DEL COMIENZO DEL ENDURECIMIENTO POR RADIACION. EL PROCEDIMIENTO ESTA ESPECIALMENTE INDICADO PARA LA ESTABILIZACION DE BAÑOS DE ESTEREOLITOGRAFIA QUE HAN SIDO MUY UTILIZADOS, PARA EVITAR UN AUMENTO NO DESEADO DE LA VISCOSIDAD.

CAPA FOTOPROTECTORA EN SECO QUE OPERA EN POSITIVO DE ALTA RESOLUCION.

(16/01/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: KOES, THOMAS A., BELTRAMO, GRIEG B.

COMPOSICION DE UNA CAPA PROTECTORA DE LA LUZ QUE ACTUA DE POSITIVO (P.EJ. UNA PELICULA SECA EN MONOCAPA) QUE ES DESPRENDIBLE EN SOLUCION ACUOSA ALCALINA, COMPUESTA DE UN GENERADOR FOTOACIDO Y UN SISTEMA AGLUTINANTE DE RESINA TRANSPARENTE AL UV, QUE PERMITE UN FOTOBLANQUEADO EFICIENTE DEL COMPONENTE FOTOACTIVO. UNA RESINA CELULOSICA CON UN GRUPO FUNCIONAL ACIDO PUEDE SER LA UNICA RESINA AGLUTINANTE, AUNQUE OPCIONALMENTE PUEDE USARSE UNA RESINA ACRILICA ACIDA. EL RECUBRIMIENTO SECO ES FLEXIBLE Y PUEDE USARSE COMO CAPA DE PROTECCION EN PROCESOS DE AGUAFUERTE Y PLAQUEADO.

METODO DE GRABADO CON MASCARA PORTADORA DE IMAGEN Y PELICULA ESTRATIFICADA FOTOSENSIBLE PARA DICHA MASCARA PORTADORA DE IMAGEN.

(16/11/2000) METODO DE GRABADO CON FILTRO DE IMAGEN Y PELICULA LAMINAR FOTOSENSIBLE PARA DICHO FILTRO DE IMAGEN. UNA PELICULA LAMINAR FOTOSENSIBLE QUE COMPRENDE UNA LAMINA DE SOPORTE , UNA CAPA DE SUJECION DEL FILTRO DE IMAGEN PEGADA A LA LAMINA DE SOPORTE Y UNA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA SOLUBLE AL AGUA DISPUESTA EN LA CAPA DE SUJECION DEL FILTRO DE IMAGEN , SIENDO DICHA CAPA RETICULABLE POR LA LUZ. UN METODO DE GRABADO QUE COMPRENDE LAS FASES DE (A) IRRADIACION DE LA PELICULA LAMINAR CON LUZ DE DECORACION PARA FORMAR EN LA MISMA UN AREA RETICULABLE CORRESPONDIENTE AL MODELO DE LA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA , (B) TRATAMIENTO DE LA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA RESULTANTE CON AGUA PARA DISOLVER UN AREA NO RETICULABLE Y DESARROLLAR UN FILTRO DE IMAGEN QUE COMPRENDA EL AREA RETICULABLE…

PASTA FOTOSENSIBLE, VISUALIZADOR A BASE DE PLASMA Y PROCEDIMIENTOS PARA SU FABRICACION.

(16/08/2000). Solicitante/s: TORAY INDUSTRIES, INC.. Inventor/es: IGUCHI, YUICHIRO, MASAKI, TAKAKI, IWANAGA, KEIJI.

SE SUMINISTRA UNA PASTA FOTOSENSIBLE QUE PERMITE LA FORMACION DE IMAGENES CON UNA ALTA RELACION DE ASPECTO Y UNA ALTA EXACTITUD ASI COMO UNA PANTALLA DE PLASMA QUE COMPRENDE LA PASTA FOTOSENSIBLE, LA PASTA FOTOSENSIBLE COMPRENDE, COMO COMPONENTES ESENCIALES, PARTICULAS INORGANICAS Y UN COMPONENTE ORGANICO QUE CONTIENE UN COMPUESTO FOTOSENSIBLE SIENDO LA DIFERENCIA ENTRE EL INDICE REFRACTIVO MEDIO DEL COMPONENTE ORGANICO Y EL INDICE REFRACTIVO MEDIO DE LAS PARTICULAS INORGANICAS DE 0.1 O INFERIOR.

EMULSION FOTORRESISTENTE IONOMERICA, ESTABLE Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y USO DE LA MISMA.

(16/07/2000). Solicitante/s: MACDERMID, INCORPORATED. Inventor/es: HALLOCK, JOHN SCOTT, EBNER, CYNTHIA LOUISE, BECKNELL, ALLAN, FREDERICK, HART, DANIEL, JOSEPH.

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.

COMPOSICIONES FOTORESISTENTES EN EMULSION ACUOSA QUE CONTIENEN AGENTES TENSIOACTIVOS FLUOROCARBONADOS NO IONICOS.

(01/07/1999). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: BARR, ROBERT K.

UNA COMPOSICION FLOTANTE CON LA QUE SE PUEDEN FORMAR IMAGENES POR VIA FOTOMECANICA O SUSTANCIA PROTECTORA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN POLIMERO AGLUTINANTE DE LATEX QUE POSEE UNA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO SUFICIENTE COMO PARA HACER QUE SE PUEDA REVELAR EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, UNA FRACCION MONOMERICA FOTOPOLIMERIZABLE, UN SISTEMA QUIMICO FOTOINICIADOR Y UN SURFACTANTE QUE ES UN ADUCTO DE OXIETILENO FLUORALIFATICO.

COMPUESTOS DE ENGRUDO MEJORADOS.

(01/07/1995). Solicitante/s: JOHNSON MATTHEY PUBLIC LIMITED COMPANY. Inventor/es: SHORTHOUSE, GARY PAUL.

UN ENGRUDO DIELECTRICO DE PELICULA GRUESA PARA DAR UNAS LINEAS Y CAPAS FINAS, COMPRENDE UN BOROSILICATO DE BAJA PERMISIVIDAD O UN MATERIAL DIELECTRICO DE ALUMINOBOROSILICATO DE UN TAMAÑO DE PARTICULAS MENOR DE 5 (MU)M, JUNTO CON UN MEDIO. EL MATERIAL-DIELECTRICO SE SINTERIZA DESDE LOS 600 C A 1.100 C Y SE FABRICA PREFERENTEMENTE MEDIANTE TECNICAS SOL-GEL. PUEDEN COMBINARSE TEMPERATURAS RELATIVAMENTE BAJAS DE SINTERIZACION CON UNA BAJA PERMISIVIDAD.

COMPOSICION DE RESINA CURABLE CON UNA RADIACION ENERGETICA QUE CONTIENE UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO CON UNA CADENA PRINCIPAL QUE TIENE UN GRUPO DICICLO PENTENILO.

(16/12/1994). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

LA COMPOSICION COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR UN INERTO CON UNA CADENA PRINCIPAL QUE CONTIENE UN GRUPO DERIVADO DE DICICLO PENTENILO CON UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL CON UN PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UN MONOMERO CON UN ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE, Y (IV) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION CAPAZ DE GENERARA RADICALES LIBRES CON IRRADIACION DE UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION PUEDE SER CURADA ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DESEADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

COMPOSICION DE RESINA CURABLE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA QUE CONTIENE UNA RESINA EPOXI SEMIESTERIFICADA Y UN MONOMERO CON ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

ESTA COMPOSICION MEJORADA COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO CON UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO (PMPN) DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO (PMPP) DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL CON PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UNA RESINA EPOXI SEMIESTERIFICADA, (IV) UN MONOMERO QUE TIENE UN ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE, Y (V) UN INICIADOR DE POLIMERIZACION CAPAZ DE GENERAR UN ACIDO LEWIS POR IRRADIACION DE UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION PUEDE SER CURADA ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DETERMINADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

MEJORAS EN O EN RELACION CON PRECURSORES DE PLACAS DE IMPRESION.

(01/11/1993). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY (A DELAWARE CORPORATION). Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, POTTS, RODNEY MARTIN, FLETCHER, KEITH MALCOLM, ETHERINGTON, TERRENCE.

UN PRECURSOR DE PLACAS DE IMPRESION COMPRENDE UN SUSTRATO REVESTIDO CON UNA COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE UN FOTOINICIADOR Y UN ACRILATO O METACRILATO DE URETANO FOTOPOLIMERIZABLE. EL ACRILATO O METACRILATO DE URETANO SE OBTIENE POR ACRILACION O METACRILACION PARCIAL DE UN POLIOL TETRAFUNCIONAL Y LOS GRUPOS HIDROXILO QUE QUEDAN DEL POLIOL SE HACEN REACCIONAR CON UN DI O POLIISOCIANATO.

COMPOSICION RESINA CURABLE CON UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA QUE CONTIENE AL MENOS UN COMPONENTE QUE TENGA UNO O MAS GRUPOS EPOXI EN LA MOLECULA.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

UNA COMPOSICION DE RESINA QUE PARA DE ENERGIA ACTIVA MEJORADA QUE COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO DE INJERTO QUE TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO DE NUMERO DE 5,000 O MAS Y UN PESO MOLECULAR MEDIO DE PESO DE 50,000 O MENOS; (II) UN POLIMERO LINEAL QUE TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO DE NUMERO 5,000 O MAS Y UN PESO MOLECULAR MEDIO DE PESO 350,000 O MENOS Y QUE TIENE UNA TEMPERATURA DE TRANSMISION DE CRISTAL DE 60 C O MAS; (III) UNA RESINA EPOXI QUE CONTIENE AL MENOS UN COMPONENTE QUE TENGA UNO O MAS GRUPOS EPOXI EN UNA MOLECULA; (IV) UN INICIADOR DE POLIMERIZACION CAPAZ DE GENERAR UN CUADRO LEWIS POR IRRADIACION DE UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA. LA COMPRESION DE RESINA PUEDE SER CONVENIENTEMENRE CURADA CON UN RAYUO DE ENERGIA ACTIVA TAL COMO UN RAYO ULTRAVIOLETA O HAZ ELECTRONICO Y ES CAPAZ DE SER LAMINADO EN UN MODELO DESEADO SOBRE UNA LAMINA CUBIERTA DE COBRE PPARA USAR COMO UNA TABLA IMPRIMIDA O EN UNA LAMINA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

COMPOSICION DE RESINA CURABLE POR RADIACION ENERGETICA ACTIVA QUE CONTIENE RESINA EPOXI Y MONOMERO CON ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

LA COMPOSICION COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO QUE TIENE UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO DE 50000 O MENOR (II) UN POLIMERO LINEAL QUE TIENE UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR (III) UNA RESINA EPOXI QUE CONTIENE, AL MENOS, UN COMPUESTO QUE TIENE UNO O MAS GRUPOS EPOXI EN MASA MOLECULA (IV) UN MONOMERO CON UN ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE Y (V) UN INICIADOR DE LEWIS POR IRRADIACIONM CON RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION DE RESINA PUEDE SE CURADA CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DIBUJO DESEADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METYAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

COMPOSICION CURABLE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA QUE CONTIENE POLIURETANO FOTOPOLIMERIZABLE.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

COMPOSICION MEJORADA COMPRENDE (I) UN COPOLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO CON UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO (PMPN) DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO (PMPP) DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL CON UN PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UN POLIURETANO ESTERIFICADO OBTENIDO A PARTIR DE UN OLIGOESTERDIOL O A PARTIR DE UN OLIGOESTERDIOL Y DE UN ISOCIANATO DIHIDRICO QUE TIENE UN EXTREMO TERMINAL DE LA CADENA MOLECULAR ESTERIFICADO CON ACIDO ACRILICO, Y (IV) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION. LA COMPOSICION PUEDE CURARSE ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DETERMINADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

COMPOSICION CURABLE CON UNA RADIACION ENERGETICA ADITIVA QUE CONTIENE UNA RESINA EPOXI SEMI ESTERIFICADA COMO CONSTITUYENTE.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

DICHA COMPOSICION MEJORADA COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO QUE TIENE UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO (PMPN) DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO (PMPP) DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL QUE TIENE UN PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UNA RESINA EPOXI SEMIESTERIFICADA, Y (IV) UN INICIADOR DE POLIMERIZACION CAPAZ DE GENERAR UN ACIDO DE LEWIS POR IRRADIACION CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION PUEDE SER CURADA ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DETERMINADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

DERIVADOS DE TRIAZINA SUSTITUIDA.

(01/07/1993). Solicitante/s: HORSELL PLC. Inventor/es: COYLE, JOHN DAVID, HORTON, AVERIL MYVANWY.

LA INVENCION SE REFIERE A UN DERIVADO DE TRIAZINA DE FORMULA (I) EN LA QUE R ES UN GRUPO ALQUILO O ARILO, X ES AZUFRE, SELENIO O TELURO, N Y M SON CERO O UN ENTERO DE 1 A 3, NO SIENDO LA SUMA DE M+N MAYOR DE 3, Y P Y Q SON CERO O UN NUMERO ENTERO DE 1 A 3, NO SIENDO LA SUMA DE P+Q MAYOR DE 3. ESTAS TRIAZINAS PUEDEN USARSE EN COMPOSICIONES FOTOPOLIMERIZABLES.

MEZCLAS ENDURECIBLES QUE CONTIENEN SALES DE N-SULFONILAMINOSULFONIO COMO CATALIZADORES ACTIVOS CATIONICAMENTE.

(01/12/1992). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SCHORNICK, GUNNAR, HENNE, ANDREAS, DR., TESCH, HELMUT, LEYRER, REINHOLD J., DR., OCHS, WOLFRAM, DR.

POR CALENTAMIENTO O RADIACION CON LUZ ACTINICA LAS MEZCLAS ENDURECIBLES CONTIENEN AL MENOS UNA UNION ENDURECIBLE CATIONICAMENTE COMO UN EPOXIDO, UN MONOMERO INSATURADO OLEFINICAMENTE, UN AMINOPLASTO O FENOPLASTO, Y TAMBIEN COMO CATALIZADOR DE ENDURECIMIENTO AL MENOS UNA SAL DE N-SULFONILAMINOSULFONIO DE LA FORMULA (I), COMO HEXAFLUOROFOSFATO DE N-P-TOLUOLSULFONIL-N-METILAMINOSULFONIO ASI COMO, SI ES CASO, QUINONA O PEROXIDO. LAS MEZCLAS SON APROPIADAS PARA OBTENCION DE CUERPOS DE MOLDEO, RECUBRIMIENTOS, FORMADORES DE RELIEVE Y MUESTRAS DE RESERVA.

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE ELEMENTOS DE GRABADO SENSIBLES A LA LUZ.

(16/12/1991) Procedimiento para la obtención de moldes de impresión o en relieve o plantillas rígidas mediante la irradiación según una imagen con luz actínica y revelado de un elemento de grabado sensible a la luz con (a) un soporte dimensionalmente estable, (b) una capa de grabado sensible a la luz sólida, aplicada sobre el soporte, así como, en caso dado, (c) una o varias capas intermedias entre el soporte y la capa de grabado sensible a la luz, conteniendo el elemento de grabado sensible a la luz en la capa de grabado sensible a la luz y/o en una capa intermedia presente en caso dado, un colorante, caracterizado porque como colorante está contenido un compuesto de la fórmula general (I) **formula** X significa un agrupamiento azo o…

PROCEDIMIENTO LITOGRAFICO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES.

(01/07/1987). Solicitante/s: AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH COMPANY.

PROCEDIMIENTO LITOGRAFICO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES. CONSISTE EN FORMAR UN MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA SOBRE UNA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO; EXPONER A LA ENERGIA PORCIONES SELECCIONADAS DE DICHO MATERIAL SENSIBLE A ESTA; TRATAR EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA CON UN AGENTE DE DESARROLLO; DONDE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO ES NO PLANAR, Y DONDE EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA REVISTA A LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO DE UN MODO PRACTICAMENTE CONFORMAL; FORMANDOSE EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA POR DEPOSICION A PARTIR DE UN VAPOR O DE UNA NIEBLA. TIENEN APLICACION EN LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES DE CIRCUITOS INTEGRADOS.

UN PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN ELEMENTO FOTOSENSIBLE.

(01/05/1987). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY.

PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN ELEMENTO FOTOSENSIBLE. CONSISTE EN: MEZCLAR CON UN DISOLVENTE UNA RESINA FENILICA SOLUBLE EN ALCALIS Y UNA SAL DE ONIO SENSIBLE A LAS RADICACIONES, EMPLEANDOSE ESTA SAL EN UNA CANTIDAD COMPRENDIDA ENTRE 1 Y 40% EN PESO CON RELACION AL PESO TOTAL DE LA RESINA FENOLICA Y DE LA SAL DE ONIO; APLICAR LA COMPOSICION RESULTANTE COMO RECUBRIMIENTO SOBRE LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO; Y SECAR LA SUPERFICIE RECUBIERTA DURANTE UN TIEMPO Y A UNA TEMPERATURA SUFICIENTE PARA QUE SE SEQUE LA PELICULA APLICADA, FORMANDO ASI UN RECUBRIMIENTO SOLIDO FOTOSOLUBILIZABLE O QUE PUEDE HACERSE SOLUBLE POR LA ACCION DE LA LUZ. TIENE UTILIDAD EN CLISES TIPOGRAFICOS, POSITIVOS Y NEGATIVOS.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE IMAGENES.

(16/04/1986). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE IMAGENES SOBRE SUSTRATOS, ASI COMO PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION O DE CIRCUITOS IMPRESOS. COMPRENDE LOS SIGUIENTES PASOS: PRIMERO, SE REALIZA LA PRECIPITACION GALVANICA DE UNA CAPA DE UNA FOTOLACA DE ACCION POSITIVA SOBRE UN SUSTRATO; SEGUNDA, SE EXPONE LA CAPA APLICADA A RADIACION ACTINICA, A TRAVES DE UN ORIGINAL ESTABLECIDO PREVIAMENTE, CON LO CUAL LOS LUGARES DE LA CAPA APLICADA EXPUESTOS A LA RADIACION SE VUELVEN MAS SOLUBLES, FRENTE A UN AGENTE REVALADOR, QUE LOS LUGARES NO IRRADIADOS; Y POR ULTIMO, SE ELIMINA LA CAPA APLICADA DE LOS LUGARES EXPUESTOS, MEDIANTE CONTACTO CON UN REVELADOR.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE ARTICULOS MEDIANTE LITOGRAFIA.

(01/04/1982). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE ARTICULOS MEDIANTE LITOGRAFIA. CONSTA DE UNA OPERACION DE LITOGRAFIA DURANTE LA CUAL EL ARTICULOS COMPRENDE, AL MENOS TEMPORALMENTE, UNA CAPA VITREA Y UN MATERIAL DE METAL FUENTE DE CONTACTO CON LA CAPA VITREA, EN EL CUAL SE IRRADIAN REGIONES DEL ARTICULO PRODUCIENDOSE REGIONES DEMARCADAS POR ZONAS INTERFACIALES DE LUZ/OSCURIDAD PARA PRODUCIR MIGRACION DEL METAL A LA CAPA VITREA, PRINCIPALMENTE DENTREO DE LAS REGIONES IRRADIADAS, DEFINIENDOSE UN MODELO DE MATERIAL VITREO CON UNA FACILIDAD DIFERENTE DE CAPACIDAD DE REMOCION.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE CIRCUITOS A TRAVES DE PROCESO LITOGRAFICO.

(16/03/1981). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE CIRCUITOS IMPRESOS POR UN PROCESO LITOGRAFICO. SOBRE UNA SUPERFICIE DE ELABORACION ACTINICA SE SITUA UNA CAPA DE IDENTICO MATERIAL CON UNA ALTA PORCION DE VIDRIO DE CALCOGENURO Y MATERIAL CON CONTENIDO DE PLATA. PARTES DE ESTA CAPA SE SOMETEN A RADIACION ACTINICA QUE INDUCE UNA TRASLACION DE LA PLATA A ZONAS ESCOGIDAS. SE ELIMINA A CONTINUACION EL MATERIAL QUE CONTIENE PLATA Y NO HA SIDO AFECTADO POR LA RADIACION; PARA ESTO SE TRATA LA SUPERFICIE PRODUCIENDOSE UN HALURO DE PLATA QUE SEA HIDROSOLUBLE. LA INMERSION EN UNA SOLUCION QUE EXTRAE EL HALOGENURO Y EL LAVADO COMPLETAN EL PROCESO.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE FOTOPLANTILLAS PARA IMPRESION SERIGRAFICA.

(16/12/1976). Solicitante/s: ALBERT ROSE, ZWEIGNIEDERLASSUNG KALDENKITCHEN.

Resumen no disponible.

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