ALQUILSULFONILOXIMAS PARA FOTORESISTS DE LINEA I DE ALTA RESOLUCION, DE ALTA SENSIBILIDAD.

LA PRESENTE INVENCION DESCRIBE EL USO DE LOS COMPUESTOS DE SULFONATO ALKILO OXIME QUE CORRESPONDE A LA FORMULA (1) DONDE RREPRESENTA EL NAFTILO (2) O (3).

R0 REPRESENTA O UN GRUPO R1 -X, O SEA R2 , MIENTRAS QUE X REPRESENTA UN ENLACE DIRECTO, UN ATOMO DE OXIGENO O UN ATOMO DE AZUFRE. R1 REPRESENTA EL HIDROGENO, ALKILO C1-C4 O UN GRUPO FENIL QUE OCASIONALMENTE PUEDE SUSTITUIRSE MEDIANTE UN SUSTITUYENTE EN EL GRUPO QUE COMPRENDE EL CLORO, EL BROMO, EL ALKILO C1-C4 Y ALQUILOXI C1-C4 . R2 REPRESENTA EL OXIGENO O EL ALKILO C1-C4 , MIENTRAS QUE R3 REPRESENTA UN ALKILO C1-C12 DE CADENA DERECHA O RETICULADA QUE PUEDE, A VECES SUSTITUIRSE PORUNO O VARIOS ATOMOS HALOGENOS. ESTOS COMPUESTOS SE UTILIZAN EN CALIDAD DE GENERADORDE ACIDO FOTOSENSIBLE EN UNA FOTORESINA QUIMICAMENTE AMPLIFICADA. ESTA FOTORESINA, QUE PUEDE DESARROLLARSE EN UN MEDIO ALCALINO ES SENSIBLE A LAS RADIACIONES QUE TENGAN UNA LONGITUD DE ONDA DE 340 A 390 NANOMETROS. ESTA INVENCION SE REFIERE TAMBIEN A FOTORESINAS NEGATIVA Y POSITIVA QUE ESTAN COMPUESTAS DE ESTA MANERA Y QUE CORRESPONDEN A LA GAMA DE LONGITUDES DE ONDA ANTES MENCIONADAS.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: KLYBECKSTRASSE 141,4057 BASEL.

Inventor/es: KUNZ, MARTIN, YAMATO,HITOSHI, DIETLIKER, KURT, DE LEO, CHRISTOPH.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 22 de Agosto de 1997.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/004 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Países Bajos, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

ALQUILSULFONILOXIMAS PARA FOTORESISTS DE LINEA I DE ALTA RESOLUCION, DE ALTA SENSIBILIDAD.

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