FTALOCIANINAS SUSTITUIDAS.
Compuesto de la fórmula**(Fórmula)** en la que M significa un metal,
oxometal, halogenometal o hidroximetal divalentes o 2 átomos de hidrógeno, A significa un resto**(Fórmula)** o **(Fórmula)** que puede estar sin sustituir o sustituido por fenoxi, naftoxi, feniltio o naftiltio, X es un heteroátomo elegido entre N, O y S, teniendo en cuenta que cuando X es O o S, m es el número 0 y cuando X es N, entonces m es el número 1, Y significa cualquier sustituyente inerte frente a los reactivos alquilantes, Z significa hidrógeno, Z o COOB, Z significa (alquileno C2-C12)-N(COOB)2, (alquileno C2-C12)-NHCOOB, (alquileno C2-C12)-OCOOB o (alquileno C2-C12)-SCOOB, x es un número de 1 a 4 e y es un número de 0 a 15, la suma de x e y es igual a 16 como máximo y eventualmente, en cada caso, varios restos X, Y, Z y/o Z pueden ser idénticos o distintos, y B es un grupo de la fórmula **(Fórmula)** en las que R1 significa hidrógeno o alquilo C1-C6, R2 y R3 con independencia entre sí significan alquilo C1-C6, R4 y R8, con independencia entre sí, significan alquilo C1-C6, alquilo C1-C6 interrumpido por O, S o NR12; fenilo o bifenilo sin sustituir o sustituidos por alquilo C1-C6, alcoxi C1-C6, halógeno, ciano o nitro; R5, R6 y R7, con independencia entre s´~, son hidrógeno o alquilo C1-C6, R9 significa hidrógeno, alquilo C1-C6 o un grupo de la fórmula **(Fórmula)** R10 y R11, con independencia entre sí, significan hidrógeno, alquilo C1-C6, alcoxi C1-C6, halógeno, ciano, nitro, N(R12)2, fenilo sin sustituir o sustituido por halógeno, ciano, nitro, alquilo C1-C6 o alcoxi C1-C6, R12 y R13 significan en cada caso alquilo C1-C6, R14 significa hidrógeno o alquilo C1-C6 y R15 significa alquilo C1-C6 o fenilo sin sustituir o sustituido por alquilo C1-C6.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: KLYBECKSTRASSE 141,4057 BASEL.
Inventor/es: WOLLEB, HEINZ, WOLLEB, ANNEMARIE, DE KEYZER, GERARDUS, WAGNER, BARBARA.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 9 de Septiembre de 1999.
Fecha Concesión Europea: 8 de Enero de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C09B47/26 QUIMICA; METALURGIA. › C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › C09B COLORANTES ORGANICOS O COMPUESTOS ESTRECHAMENTE RELACIONADOS PARA PRODUCIR COLORANTES; MORDIENTES; LACAS (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la síntesis de un compuesto dado C12P). › C09B 47/00 Porfirinas; Porfirazinas. › Radicales amida.
- C09D11/00 C09 […] › C09D COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO, p. ej. PINTURAS, BARNICES, LACAS; EMPLASTES; PRODUCTOS QUIMICOS PARA LEVANTAR LA PINTURA O LA TINTA; TINTAS; CORRECTORES LIQUIDOS; COLORANTES PARA MADERA; PRODUCTOS SOLIDOS O PASTOSOS PARA ILUMINACION O IMPRESION; EMPLEO DE MATERIALES PARA ESTE EFECTO (cosméticos A61K; procedimientos para aplicar líquidos u otros materiales fluidos a las superficies, en general B05D; coloración de madera B27K 5/02; vidriados o esmaltes vitreos C03C; resinas naturales, pulimento francés, aceites secantes, secantes, trementina, per se , C09F; composiciones de productos para pulir distintos del pulimento francés, cera para esquíes C09G; adhesivos o empleo de materiales como adhesivos C09J; materiales para sellar o guarnecer juntas o cubiertas C09K 3/10; materiales para detener las fugas C09K 3/12; procedimientos para la preparación electrolítica o electroforética de revestimientos C25D). › Tintas.
- G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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