METODO PARA FORMAR PLANCHAS DE IMPRESION LITOGRAFICA.

UN PROCEDIMIENTO PARA FORMAR DIRECTAMENTE IMAGENES SOBRE UNA SUPERFICIE DE IMPRESION LITOGRAFICA UTILIZANDO RADIACION INFRARROJA,

SIN EL REQUERIMIENTO DE PRE- O POST-EXPOSICION A LUZ ULTRAVIOLETA, O A UN TRATAMIENTO TERMICO, USA UNA PLACA DE IMPRESION QUE CONTIENE UN SOPORTE, CON UNA SUPERFICIE HIDROFILICA SOBREREVESTIDA CON UNA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES. LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES CONTIENE POR LO MENOS UN POLIMERO CON GRUPOS UNIDOS QUE CUELGAN, QUE SON HIDROXI, ACIDO CARBOXILICO, TERT BUTIL - OXICARBONILO, SULFONAMIDA, AMIDA, NITRILO, UREA, O SUS COMBINACIONES, ADEMAS DE UN COMPUESTO ABSORBENTE DE INFRARROJOS. LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES PUEDE CONTENER UN SEGUNDO POLIMERO QUE TIENE GRUPOS UNIDOS QUE CUELGAN, QUE SON DIAZIDA DE 1, 2 - NAFTOQUINONA, HIDROXI, ACIDO CARBOXILICO, SULFONAMIDA, AMIDA HIDROXIMETILICA, AMIDA ALCOXIMETILICA, NITRILO, MALEIMIDA, UREA, O SUS COMBINACIONES. LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES PUEDE CONTENER TAMBIEN UN TINTE DE ABSORCION VISIBLE, UN AGENTE INHIBIDOR DE LA SOLUBILIDAD, O AMBOS. EN LA PRACTICA, LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES ESTA EXPUESTA A MODO DE IMAGEN A RADIACION INFRARROJA PARA PRODUCIR ZONAS EXPUESTAS DE IMAGENES EN LA CAPA DE IMAGENES QUE POSEE UNA SOLUBILIDAD TRANSITORIA EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA DE REVELADO, PARA FORMAR LA SUPERFICIE DE IMPRESION LITOGRAFICA. EN ESTE PROCEDIMIENTO, LA RADIACION INFRARROJA ES PREFERENTEMENTE UNA RADIACION LASER, QUE ESTE DIGITALMENTE CONTROLADA.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: KODAK POLYCHROME GRAPHICS LLC.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 401 MERRITT 7,NORWALK, CONNECTICUT 06851.

Inventor/es: SHIMAZU, KEN-ICHI, MERCHANT, NISHITH, SAVARIAR-HAUCK, CELIN, TIMPE, HANS-JOACHIM, NGUYEN, MY, T., PAPPAS, PETER, S., HALLMAN, ROBERT, W., KESSELMAN, JEROME, P., HAUCK, GERHARD.

Fecha de Publicación: 16 de Mayo de 2004.

Fecha Solicitud PCT: 14 de Agosto de 1998.

Fecha Concesión Europea: 24 de Septiembre de 2003.

Clasificación Internacional de Patentes:

B41C1/10 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › B41C 1/00 Preparación de la forma o del cliché. › para la impresión litográfica; Hojas matriz para la transferencia de una imagen litográfica a la forma (B41C 1/055 tiene prioridad; neutralización o tratamientos similares de diferenciación de formas de impresión litográfica B41N 3/08).
B41M5/36 B41 […] › B41M PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO O COPIADO; IMPRESION EN COLOR (corrección de errores tipográficos B41J; procedimientos para aplicar imágenes transferencia o similares B44C 1/16; productos fluidos para corregir errores tipográficos C09D 10/00; impresión de textiles D06P). › B41M 5/00 Procesos de reproducción o de marcado; Materiales en hojas utilizadas con este fin (por empleo de materias fotosensibles G03; electrografía, magnetografía G03G). › utilizando una película polimérica que puede ser de partículas y que está sometida a una modificación de forma o de estructura con modificación de sus características, p. ej. de sus características de hidrofobia o hidrofilia, de sus características de solubilidad o de permeabilidad.
G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
G03F7/023 G03F 7/00 […] › Quinonadiazidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Irlanda, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes.

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