CIP-2021 : C23C 14/14 : Material metálico, boro o silicio.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/14 · · Material metálico, boro o silicio.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Método para aumentar la conductividad eléctrica de una superficie de una pieza de material compuesto.
(31/07/2019) Método para aumentar la conductividad eléctrica de una superficie de una pieza de material compuesto adecuado para una aeronave, la pieza de material compuesto comprende al menos una superficie ,
comprendiendo el método la etapa de
aplicar una capa de recubrimiento de material metálico, siendo el grosor de la capa de recubrimiento de material metálico de 0,1-10 μm y aplicándose dicha capa de recubrimiento de material metálico sobre la al menos una superficie de la pieza de material compuesto , por medio de deposición física en fase de vapor ;
en el que la aplicación de la capa de recubrimiento de material metálico se hace en condiciones de vacío,
caracterizado porque el método además comprende una etapa…
Método para la producción de revestimientos de aluminuro por difusión.
(06/03/2019) Un método para aplicar un revestimiento de aluminuro, que comprende:
proporcionar un componente que tiene una sección externa y una sección interna, caracterizada dicha sección interna por una o más superficies internas que definen una primera cavidad interna y una segunda cavidad interna;
proporcionar un primer miembro alargado definido al menos en parte por un tamaño y forma correspondientes a la primera cavidad interna;
aplicar una primera suspensión a base de aluminio sobre dicho primer miembro alargado;
proporcionar un segundo miembro alargado definido al menos en parte por el tamaño y la forma correspondientes a la segunda cavidad interna;
…
Estructura de múltiples capas como reflector.
(21/06/2017). Solicitante/s: Covestro Deutschland AG. Inventor/es: OSER,RAFAEL, KUHLMANN,TIMO.
Estructura de múltiples capas que contiene
A) una lámina funcional que contiene una capa metálica que refleja VIS/IR sobre una lámina de soporte, en donde la lámina de soporte puede realizarse en una sola capa o en forma de una capa de múltiples estratos que refleja UV y/o UV/VIS, así como al menos una capa adhesiva, en donde la capa adhesiva es un adhesivo sensible a la presión, así como opcionalmente al menos una capa resistente al rayado,
B) una capa funcional que contiene una capa seleccionada de al menos uno del grupo de los nitruros metálicos, óxidos metálicos o semimetálicos, óxidos mixtos o metales, pudiendo presentar la capa adicionalmente un barnizado,
C) opcionalmente una lámina de soporte,
D) opcionalmente una capa adhesiva, y
E) una capa de sustrato termoplástica.
PDF original: ES-2640919_T3.pdf
Aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica.
(14/12/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende:
- una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta;
- un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y
- un sistema de deposición física de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición física de vapor incluye al menos un blanco de material de recubrimiento que comprende una fuente del material de recubrimiento resistente al desgaste que va…
Procedimiento de obtención de un sustrato provisto de un revestimiento que comprende una capa delgada metálica discontinua.
(29/06/2016) Procedimiento de obtención de un material que comprende un sustrato revestido sobre al menos una parte de al menos una de sus caras con un revestimiento que comprende al menos una capa delgada metálica discontinua a base de plata, de oro o de una cualquiera de sus aleaciones, estando encapsulada la capa o cada capa delgada metálica discontinua entre al menos dos capas delgadas dieléctricas y presentándose la capa o cada capa delgada metálica discontinua en forma de motivos geométricos periódicos, comprendiendo dicho procedimiento las siguientes etapas:
- se deposita sobre al menos una parte de al menos una cara de dicho sustrato un revestimiento que comprende al menos una capa delgada metálica continua a base de plata, de oro o de cualquiera de sus aleaciones, estando encapsulada la capa o…
MATERIAL TERNARIO DE TITANIO, NIQUEL Y NITRÓGENO.
(14/04/2016). Solicitante/s: UNIVERSIDAD EAFIT. Inventor/es: ARROYAVE FRANCO,Mauricio, PALACIO ESPINOSA,Claudia Constanza, DAVID CARO,Jorge Leon, VELEZ RUIZ,Mario Elkin.
La presente invención comprende un material ternario de Titanio, Níquel y Nitrógeno, que es rico en Nitrógeno en relación con Titanio. Específicamente, en el material de la invención la proporción de átomos de Nitrógeno es al menos 1.5 en relación al Níquel y el Titanio. El material ternario de la invención presenta un espesor que no supera los 500 nanómetros (nm) y una dureza igual o superior a 20 Gpa.
Una estructura estratificada.
(21/10/2013) Una estructura estratificada que comprende
- una primera capa intermedia, estando seleccionada dicha primera capa intermedia entre el grupo queconsiste en una capa de titanio, una capa de cromo, una capa de TiC, una capa de TiN, una capa de TicN, unacapa de CrN y una capa de Cr3C2.
- una segunda capa intermedia depositada sobre la parte superior de dicha primera capa intermedia,comprendiendo dicha segunda capa intermedia una composición nanocompuesta de tipo diamante;
- una capa de carbono de tipo diamante depositada sobre la parte superior de dicha segunda capa intermedia.
Procedimiento para la fabricación de un aislamiento térmico.
(02/10/2013) Procedimiento para la fabricación de un producto de aislamiento térmico que comprende las etapas de:
- proporcionar una estructura textil de fibras inorgánicas o una combinación de fibras orgánicas e inorgánicas,
- tratar la estructura textil con al menos un aglutinante, para obtener una estructura textil modificada,
- recubrir la estructura textil modificada con metales mediante deposición en fase vapor.
Capas con absorción selectiva de la luz y procedimiento de fabricación.
(08/07/2013) Recubrimiento absorbente selectivo de la luz, que consiste en una película de material compuesto formadamediante tecnología de depósito en vacío sobre un sustrato por una reacción de una aleación de hierro y cromo y ungas no metálico, que comprende oxígeno y nitrógeno gaseosos, de manera que en la aleación, basándose en elpeso total de la aleación, el hierro representa 60-87% en peso, el cromo representa el 13-25% en peso, M no existeo es uno o varios elementos de aleación, siendo la cantidad total de dichos metales de 40-65% molar, caracterizadoporque la cantidad de metal en la película de material compuesto metal-medio del recubrimiento absorbenteexpresado como FeCrM-N-O disminuye en la dirección de alejamiento del sustrato.
Revestimiento basado en plata resistente a la sulfuración, procedimiento de depósito y utilización.
(11/07/2012) Revestimiento en material basado en plata que comprende un apilamiento de una capa principal y de una película delgada oxidada , caracterizado porque la película delgada oxidada tiene un espesor comprendido entre 10 nm y 1 !my porque presenta un gradiente de concentración de plata decreciente desde la interfase entre la película delgada y la capa principal hasta la superficie libre (2a) de la película delgada .
DEPOSICIÓN POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA DE CAPAS DE MOLIBDENO.
(05/07/2011) Procedimiento para la deposición por pulverización catódica de capas de molibdeno sobre sustratos de vidrio que contienen sodio para el empalme de células solares de capa fina CIS o CIGS, en una cámara de deposición por pulverización catódica con un blanco que contiene molibdeno que presenta las etapas siguientes: evacuación de la cámara de deposición por pulverización catódica , aplicación de un campo eléctrico entre el blanco y el sustrato , caracterizado porque mejora una difusión de iones de sodio del sustrato de vidrio en la capa de molibdeno y la incorporación de trazas de hidrógeno en la capa de molibdeno mediante la introducción de una mezcla de argón y de otro gas con una proporción en volumen menor que el argón en la cámara de deposición por pulverización catódica durante la deposición…
USO DE COMPOSICIONES DE MAGNESIO Y COBRE PARA LA EVAPORACION DE MAGNESIO.
(28/07/2010) Uso de composiciones de magnesio y cobre para la evaporación de magnesio en la fabricación de pantallas orgánicas de emisión de luz (OLED), en el que dichas composiciones contienen hasta un 43,34% en peso de magnesio
(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: COUNCIL FOR THE CENTRAL LABORATORY OF THE RESEARCH COUNCILS. Inventor/es: EASTHAM, DEREK.
Método para hacer un nanomaterial en forma de película delgada, comprendiendo el método el paso de depositar simultáneamente átomos de una sustancia ferromagnética junto con agregados de una sustancia amagnética sobre una superficie, produciendo con ello un nanomaterial en forma de película delgada que comprende una matriz policristalina de granos de la sustancia ferromagnética rodeados por agregados de átomos de la sustancia amagnética.
PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE DIANAS DE PULVERIZACION DE GRANO FINO.
(01/03/2001). Solicitante/s: LEYBOLD MATERIALS GMBH. Inventor/es: SCHLOTT, MARTIN, DR., HEINDEL, JOSEF.
EN UN BLANCO CON UNA RELACION LARGO/ANCHO DE AL MENOS 5:1 HECHA DE METALES O ALEACIONES DE METALES FUNDIBLES EN EL AIRE DE LA SERIE SN, IN, BI, PB, ZN, AL QUE TIENE UNA TEMPERATURA PARA EL LIQUIDO POR DEBAJO DE 700 C, EL TAMAÑO MEDIO DE GRANO SE ENCUENTRA POR DEBAJO DE 6 MM, OBTENIENDOSE EL BLANCO MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO DIRECTO DE FUNDICION, RETIRANDOSE UNA PARTE DEL CALOR DE SOLIDIFICACION DE LA PARTE DEL BLANCO RECIENTEMENTE SOLIDIFICADA COLOCANDO UN REFRIGERANTE DE MANERA PLANA Y FINAMENTE DIVIDIDO.
METODO PARA RECUBRIR SUSTRATOS METALICOS Y CERAMICOS.
(16/11/2000). Solicitante/s: HAUZER INDUSTRIES B.V. Inventor/es: MUNZ, WOLF-DIETER, SMITH, IAN, DONOHUE, LEE, ADRIAN, BROOKS, JOHN, STUART.
LA PRESENTE INVENCION ESTA RELACIONADA CON LA REDUCCION DE LA RUGOSIDAD SUPERFICIAL DE CAPAS DE MATERIALES DUROS DE TITANIO, ALUMINIO Y NITRURO. PARA ELLO SE COMBINAN EL METODO CATODICO DE EVAPORACION POR DESCARGA DE ARCO VOLTAICO Y EL METODO DE RECUBRIMIENTO POR MAGNETRON SIN EQUILIBRAR (METODO ABS) O SE UTILIZA EL METODO DE EVAPORACION POR DESCARGA DE ARCO VOLTAICO PURAMENTE CATODICO.
PRODUCTOS ANTIMICROBIANOS.
(16/07/2000) RECUBRIMIENTOS Y POLVOS ANTIMICROBIALES Y METODOS PARA FORMARLOS EN DISPOSITIVOS MEDICOS. LOS RECUBRIMIENTOS SE FORMAN PREFERIBLEMENTE DEPOSITANDO UN METAL BIOCOMPATIBLE ANTIMICROBIAL MEDIANTE TECNICAS DE DEPOSICION AL VAPOR PARA PRODUCIR UN DESORDEN ATOMICO EN EL RECUBRIMIENTO DE MANERA QUE SE CONSIGA UNA LIBERACION SOSTENIDA DE IONES DE METAL SUFICIENTE PARA PRODUCIR UN EFECTO ANTIMICROBIAL. LAS CONDICIONES DE DEPOSICION PREFERIDAS PARA CONSEGUIR UN DESORDEN ATOMICO INCLUYEN UNA TEMPERATURA DE SUSTRATO INFERIOR A LA NORMAL, Y UNA O MAS PRESIONES MAYORES A LO NORMAL DE GAS DE TRABAJO, Y UN ANGULO INFERIOR AL NORMAL DE INCIDENCIA DEL FLUJO DE RECUBRIMIENTO. LOS POLVOS ANTIMICROBIALES FORMADOS POR LA DEPOSICION…
REVESTIMIENTO SUPERIOR RESISTENTE A LA ABRASION PARA SUBSTRATOS REVESTIDOS.
(16/06/1999) LA INVENCION SUMINISTRA UNA PELICULA ESTRATIFICADA DE BAJA EMISIVIDAD Y DE ALTA TRANSMITANCIA QUE TIENE UN SOBRE-REVESTIMIENTO DE UN OXIDO DE UN METAL ESCOGIDO ENTRE EL GRUPO DE ZINC, ESTAÑO, INDIO O BISMUTO, O UNA ALEACION QUE INCLUYA UNO O MAS DE ESTOS METALES, EL OXIDO SE APLICA EN UN GROSOR SUFICIENTEMENTE BAJO COMO PARA QUE NO TENGA EFECTOS SIGNIFICATIVOS SOBRE LAS PROPIEDADES OPTICAS DEL SUBSTRATO REVESTIDO. ESTO ES, SI EL SOBRE-REVESTIMIENTO SE PIERDE A TRAVES DE LA ABRASION O DEL ATAQUE QUIMICO, LA PERDIDA NO AFECTARA SIGNIFICATIVAMENTE A LAS PROPIEDADES OPTICAS DEL REVESTIMIENTO. LA PELICULA ESTRATIFICADA RESULTANTE EXHIBE UNA DURABILIDAD SIGNIFICATIVAMENTE MEJORADA COMPARADA…
REVESTIMIENTO ANTIMICROBIANO PARA DISPOSITIVOS MEDICOS.
(16/10/1998). Solicitante/s: WESTAIM TECHNOLOGIES INC.. Inventor/es: BURRELL, ROBERT, EDWARD, MORRIS, LARRY, R.
SE PRESENTAN REVESTIMIENTOS ANTIMICROBIANOS Y METODOS PARA FORMARLOS SOBRE DISPOSITIVOS MEDICOS. LOS REVESTIMIENTOS SE FORMAN POR DEPOSICION DE UN METAL BIOCOMPATIBLE POR TECNICAS DE DEPOSICION DE VAPOR PARA PRODUCIR UN TRASTORNO ATOMICO EN EL REVESTIMIENTO DE MANERA QUE A REALIZAR UNA LIBERACION SOSTENIDA DE IONES DE METAL SUFICIENTE PARA PRODUCIR UN EFECTO ANTIMICROBIANO. LAS CONDICIONES DE DEPOSICION PREFERIDAS PARA REALIZAR EL TRASTORNO ATOMICO COMPRENDEN UNA TEMPERATURA INFERIOR A LA TEMPERATURA DE SUSTRATO NORMAL, Y UNO O MAS PRESIONES SUPERIORES A LA PRESION DE GAS DE TRABAJO NORMAL Y UN ANGULO INFERIOR AL ANGULO DE INCIDENCIA NORMAL DE FLUJO DE REVESTIMIENTO. TAMBIEN SE PREVEN POLVOS ANTIMICROBIANOS FORMADOS POR TRABAJO MECANICO PARA PRODUCIR TRASTORNO ATOMICO. LA INVENCION SE EXTIENDE A OTROS REVESTIMIENTOS DE METAL Y POLVOS FORMADOS DE MANERA A PREVER UNA SOLUBILIDAD REALZADA.
PROCEDIMIENTO PARA RECUBRIR EN VARIAS ETAPAS SUBSTRATOS.
(16/03/1998). Solicitante/s: HAUZER TECHNO COATING EUROPE BV. Inventor/es: MUNZ, WOLF-DIETER.
SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA RECUBRIR EN VARIAS ETAPA A SUBSTRATOS, PARA EL PRETRATAMIENTO DEL SUBSTRATO SE EMPLEA UNA TARJETA EN VAPOR METALICO DE PLASMA DE DESCARGA POR ARCO QUE CONSISTE COMPLETAMENTE EN UN COMPONENTE DE PUNTO DE FUSION ELEVADO DE UN MATERIAL DE LA TARJETA EN DOS FASES, MIENTRAS EL RECUBRIMIENTO POSTERIOR SE EFECTUA MEDIANTE PULVERIZACION DEL CATODO CON EL MATERIAL DE LA TARJETA DE DOS FASES.
PROCESO PARA LA OBTENCION DE RECUBRIMIENTOS DE CARBONO Y CARBONO-METAL MEDIANTE DEPOSICION FISICA EN FASE VAPOR POR ARCO METALICO CON CATODO DE GRAFITO.
(16/06/1995). Solicitante/s: TEKNIKER. Inventor/es: LAUZARITA, JAVIER, ALBERDI, ALBERTO.
PROCESO PARA LA OBTENCION DE RECUBRIMIENTOS DE CARBONO Y CARBONO METAL MEDIANTE DEPOSICION FISICA EN FASE VAPOR POR ARCO ELECTRICO CON CATODO DE GRAFITO EN EL QUE LA DISPOSICION DEL ELECTRODO ES LA DE UNA BARRA ENMARCADA EN ANILLOS AISLANTES DE NITRURO DE BARO HEXAGONAL DE MODO QUE LA EVAPORACION POR ARCO ELECTRICO DEL ELECTRODO DE GRAFITO GENERA UN PLASMA DE CARBONO DENTRO DE UNA CAMARA DE VACIO PRODUCIENDO POR ESTA VIA RECUBRIMIENTOS DE CARBONO. EL PROCESO SE DIVIDE EN DOS ETAPAS EN CUANTO A LA POLARIZACION ELECTRICA NEGATIVA, UNA DE ALTA POLARIZACION DURANTE LA NUCLEACION DE LA CAPA, PARA MEJORAR LA ADHERENCIA Y OTRA DE BAJA POLARIZACION DURANTE SU CRECIMIENTO, PARA REDUCIR LAS TENSIONES INTERNAS. EN EL PROCESO SE UTILIZA SIMULTANEAMENTE CARBONO EVAPORADO POR ARCO ELECTRICO A PARTIR DE GRAFITO DE CARBONO Y UN METAL EVAPORADO POR PULVERIZACION CATODICA PARA SINTETIZAR RECUBRIMIENTOS DE CARBONO-METAL.
PELICULA DE HIDRURO DE TITANIO.
(01/12/1993). Solicitante/s: ENIRICERCHE S.P.A.. Inventor/es: BOCCALON, GIANFRANCO, GRILLO, GIOVANNI, VITTORI, VITTORIO.
SE PRESENTA UN PROCESO DE BAJA TEMPERATURA, DE ACUERDO CON EL CUAL SE DEPOSITA UNA PELICULA DE METAL Y POSTERIORMENTE SE CONVIERTE EN UNA PELICULA DE HIDRURO DE METAL POR MEDIO DE UN PLASMA DE HIDROGENO FRIO. POR MEDIO DE ESTE METODO, PELICULAS HOMOGENEAS Y ESTABLES DE HIDRURO DE TITANIO O DE HIDRUROS DE OTROS METALES PUEDEN DEPOSITARSE SOBRE METAL, CRISTAL Y EN MATERIALES PLASTICOS.
CELULA CERAMICA DE EVAPORACION DE METALES EN MICROGRAVEDAD.
(16/10/1991). Ver ilustración. Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: SACEDON, J.L., SANCHEZ AVEDILLO, M., CATALINA, F., SANTAMERA, E.
UNA CELULA CERAMICA DE EVAPORACION DE METALES EN MICROGRAVEDAD EN LA QUE EL MATERIAL EMPLEADO ES NITRURO DE BORO PRENSADO EN CALIENTE, LAS PANTALLAS ANTIRADIACION ASI COMO LA RESISTENCIA DE CALEFACCION ESTAN FABRICADAS EN TANTALO. EL CONTROL DE TEMPERATURA DE LA EVAPORACION SE REALIZA MEDIANTE UN TERMOPAR W/RE INCORPORADO AL CRISOL. APLICACION EN DEPOSITOS DE CALIDAD OPTICA (ESPEJOS), CONTACTOS ELECTRICOS Y CAPAS METALICAS PROTECTORAS.
UN PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN CATALIZADOR COMPUESTO DE ALTO RENDIMIENTO FORMADO POR BOMBARDEO IONICO.
(16/05/1986) SINTESIS DE UN CATALIZADOR COMPUESTO POR BOMNBARDEO IONICO. COMPRENDE: A) COLOCAR ANTICATODOS DE LOS M.C.A. Y UN M.S. EN UNA CAMARA DE BOMBARDEO IONICO; B) COLOCAR EL M.S. O SUSTRATO PARTICULADO QUE HA DE SER RECUBIERTO EN LA CAMARA DE BOMBARDEO IONICO EN UN LUGAR DISTANTE DE LOS ANTICATODOS; C) EVACUAR LA CAMARA DE BOMBARDEO IONICO; D) PROPORCIONAR UNA FUENTE DE IONES ENERGIZADOS DE UN GAS INERTE (NEON, CRIPTON, XENON O ARGON), QUE BOMBARDEE LOS ANTICATODOS Y DESALOJE LOS ELEMENTOS ATOMICOS DE ELLOS; E) HACER VIBRAR EL SOPORTE PARTICULADO DURANTE LA ETAPA DE BOMBARDEO IONICO; F) HACER GIRAR EL M.S. QUE HA DE SER RECUBIERTO CON RESPECTO A LOS ANTICATODOS DURANTE LA ETAPA DE BOMBARDEO IONICO PARA ASI LOGRAR…
PERFECCIONAMIENTOS EN LA CONSTRUCCION DE CAPAS ISOTROPAS DE FUERTE CAMPO COERCITIVO.
(16/06/1969). Ver ilustración. Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE.
Resumen no disponible.
