(08/07/2020) Estación de tratamiento superficial localizado de una pieza industrial a tratar, que comprende: - al menos una cámara de tratamiento formada por una celda o dos medias celdas (4A, 4B), incluyendo cada celda o media celda (4A, 4B) medios de posicionamiento y siendo adecuada para delimitar un espacio estanco entre las paredes de dicha celda o media celda (4A, 4B) y una parte o cara respectiva de la pieza a tratar , incluyendo la celda o cada media celda (4A, 4B) una pared que tiene una abertura adaptada para cubrir la parte o cara correspondiente de la pieza a tratar , estando la abertura de la celda o media celda (4A, 4B) delimitada por una junta continua de estanqueidad ; - varias cubas de almacenamiento (3A,…

(27/02/2020) 1. Dispositivo que comprende una superficie exterior adaptada a la geometría interior de la pieza a tratar y una zona de sujeción, para el aislamiento selectivo de la superficie interior de objetos de plástico, de la deposición de productos químicos procedentes de su tratamiento superficial. 2. Dispositivo según la reivindicación 1 que comprende un cuerpo principal y una zona de sujeción en uno de los extremos caracterizado por que la zona exterior se adapta a la superficie interior del objeto a tratar para el aislamiento selectivo de la superficie interior de objetos de plástico, de la deposición de productos químicos procedentes de su tratamiento superficial. 3. Dispositivo según la reivindicación 1 y 2 que se caracteriza por adaptarse a la superficie…

(19/06/2019) Un método para la electrodeposición de un área superficial de una cavidad de enfriamiento presente en un componente aerodinámico de motor de turbina de gas, el método que comprende las etapas de: - posicionar una máscara de electrodeposición flexible y hermética en una primera región de extremo del componente donde la cavidad de enfriamiento tiene un extremo abierto (16a) al exterior, en donde la máscara se une a un accesorio , y en donde la máscara incluye las primera y segunda aberturas pasantes (25a), cada una de las cuales recibe un primer y segundo conducto de tubería de suministro respectivo, dicho conducto de tubería de suministro se recibe en los pasajes pasantes de la máscara respectivos que terminan en las aberturas pasantes (25a) de la máscara con los extremos del conducto de tubería…

(14/05/2019) Procedimiento electroquímico para la recuperación de hierro metálico o una aleación rica en hierro, oxígeno y ácido sulfúrico a partir de una disolución de sulfato de metal rica en hierro, dicho procedimiento que comprende: a) proporcionar una disolución de sulfato de metal rica en hierro; b) electrolizar dicha disolución de sulfato de metal rica en hierro en un electrolizador que comprende un compartimento catódico equipado con un cátodo que tiene un sobrepotencial de hidrógeno igual o mayor que el de hierro y que contiene un catolito que tiene un pH que oscila entre 2 y 6; un compartimento anódico equipado con un ánodo y que contiene un anolito; y un separador que permite el paso de aniones; y c) recuperar hierro o aleación rica en hierro electrodepositado, ácido sulfúrico y gas…

(28/03/2018) Una unidad de procesamiento que incluye un condensador que va a ser usado para un sistema de procesamiento totalmente automático de fabricación de placas de huecograbado para fabricar un rollo de fabricación de placas realizando una serie de procesos en un rollo de fabricación de placas sin procesar, la unidad de procesamiento comprende: un baño de procesamiento ; medios de sujeción (16a, 16b) para sostener un cilindro de huecograbado dentro del baño de procesamiento una lumbrera de admisión para tomar aire, que se proporciona en una parte del baño de procesamiento ; una lumbrera de escape para el escape de gas, que se proporciona en otra parte del baño de procesamiento , dicha lumbrera…

(06/09/2017) Un soporte para aguantar un electrodo maestro o un sustrato durante un proceso de ECPR, comprendiendo dicho soporte una superficie de interacción distal para la disposición del electrodo maestro o del sustrato en la misma, y un medio de unión para fijar dicho electrodo maestro o dicho sustrato en dicha superficie de interacción , de tal manera que dicho electrodo maestro o dicho sustrato se amolda sustancialmente a la forma de dicha superficie de interacción en una posición de descanso de la superficie de interacción y el electrodo maestro o el sustrato dispuesto en la misma, en el que dicha superficie de interacción tiene una…

(08/02/2017) Procedimiento para proporcionar un electrodo maestro ECPR, que comprende la etapa en la que: se proporciona un elemento portador circular con una superficie de electrodo conductora de la electricidad en una cara posterior y un patrón topográfico que define una pluralidad de celdas electroquímicas en el elemento portador sobre una cara anterior del mismo , comprendiendo cada celda electroquímica una pared lateral y un fondo , en el que la superficie plana que se extiende entre dos celdas electroquímicas contiguas está cubierta por una capa aislante de la electricidad y en el que el fondo posee una superficie conductora de la electricidad conectada conductivamente con la superficie de electrodo conductora de la electricidad situada en la cara posterior a través del elemento…

(11/08/2016) Sistema electrolítico unificado para precipitar diferentes tipos de metales (cobre, cinc, níquel, cadmio, cobalto, plata, oro) y regenerar reactivos de lixiviación de sulfuros metálicos desde soluciones provenientes de lixiviación en ambiente sulfúrico oxidante o 5 clorhídrico-oxidante, incluye proceso que permite la unificación de los actuales procesos reductores seguidos de procesos oxidantes complejos y potencialmente peligrosos desde el punto de vista ambiental, evitando de esta forma el riesgoso transporte de sustancias peligrosas, operaciones de carga y descarga, 10 almacenamiento y manipulación de materiales tóxicos, y disminuir los residuos contaminantes ambientales, obteniendo un producto catódico de calidad comercial y una solución que se reutiliza en el proceso de lixiviación. El sistema comprende un dispositivo celda de membranas…

(19/05/2016) Dispositivo electrolítico multipropósito (DEMP) para procesos electrolíticos forzados o espontáneos que incorpora membranas de intercambio iónico selectivo y unidireccional, para separar y permitir la conductividad eléctrica entre dos o más compartimentos, con electrolitos independientes para la transformación electrolítica de iones en forma controlada, sin limitaciones de la composición química del electrolito que contiene el elemento de interés, con alta eficiencia de corriente farádica y alto rendimiento energético, se incluye procedimiento. El dispositivo es aplicable para procesos tales como electro obtención de metales (EM), electro refinación de metales, electro oxidación (EOXI) y electro reducción (ERED) de especies iónicas. El dispositivo utiliza dos…

(05/11/2015) Dispositivo Electródico Insertable (DEI), para procesos de electro obtención de metales, no contaminante debido a que no genera neblina ácida u otros gases. El principio se basa en que al interior del (DEI) se produce una reacción de semi-celda de oxidación que se complementa con la semi celda de reducción que se produce en la celda de electro obtención de metales que la utiliza. El (DEI) no genera gases y como consecuencia no emite neblina ácida al medio ambiente. El (DEI) reemplaza a los ánodos actuales y permite producir reacciones de oxidación por debajo del umbral energético de la descomposición electrolítica del agua, evitando de esta forma la electro generación de oxígeno gaseoso que es la causa principal de la neblina ácida. El dispositivo electródico insertable DEI comprende un marco perimetral, membranas de intercambio iónico, un electrodo…

(18/03/2014) Un sistema de deposición electrolítica para metalizar orificios pasantes en una placa de circuito impreso , que comprende: un baño de deposición electrolítica; unos medios para colocar dicha placa de circuito impreso en dicho baño; y unos medios para generar de forma alternativa un flujo laminar de electrolito a cada lado de dicha placa de circuito impreso , incluyendo: unos medios para generar un flujo laminar de electrolito a lo largo de un primer lado de dicha placa de circuito impreso , de tal modo que el flujo laminar a lo largo de dicho primer lado de la placa genera una presión negativa en el orificio pasante y la presión negativa arrastra electrolito a partir del segundo lado de la placa a través del orificio pasante; y unos…

(08/01/2014) Una estación de tratamiento de anodización en una planta de pintura vertical de perfiles de aluminio que cuelgan en sucesión mediante ganchos en un transportador aéreo principal que se desplaza a lo largo de una línea transportadora principal que pasa a través de al menos una estación de pretratamiento y al menos una estación de pintura líquida o en polvo, caracterizada porque comprende al menos un baño de oxidación y un transportador aéreo secundario que se desplaza a lo largo de una línea transportadora secundaria en sincronismo con dicho transportador principal , porque la línea transportadora principal tiene un primer segmento principal de carga y/o descarga , orientado hacia dicho baño de oxidación , en la que primeros medios principales de carga y/o descarga específicos están adaptados…

(01/01/2014) Un aparato para el acabado superficial electrolítico continuo de barras que comprende al menos un cátodo , una celda electrolítica que contiene un electrolito y que comprende una entrada y una salida para lasbarras , y al menos un ánodo longitudinal a lo largo del recorrido de las barras dentro de la celda electrolítica , y medios para alimentar las barras a lo largo del eje de las barras para introducir las barras en la celda , caracterizado porque al menos dichos cátodo consiste de una pluralidad de contactos deslizantes , cadauno de los cuales está provisto con una fuente energética accionable de manera selectiva e independiente de losmismos.

(16/07/2013) Un dispositivo de electrodeionización que comprende un alojamiento genéricamente cilíndrico que incluyeun electrodo radialmente interior dispuesto en una forma genéricamente cilíndrica a lo largo de un eje; una hoja que contiene dos membranas espaciadas y un espaciador dispuesto como un bobinado enespiral alrededor del electrodo interior; un electrodo radialmente exterior que se extiende alrededor del bobinado en espiral, en el que células diluidas y concentradas están definidas por espacios y por espacios intercalados dentro de dichobobinado en espiral en una región entre los electrodos radialmente interior y radialmente exterior , formandolas…

(01/04/2013) Conjunto de ánodo para galvanoplastia, que comprende: a) un cuerpo de ánodo que comprende un material de ánodo soluble y b) una pantalla que cubre por lo menos parte del cuerpo de ánodo y que comprende un metal autopasivanteconectado eléctricamente al cuerpo de ánodo y que permite el transporte de electrolito a través del mismo,en el que: (i) la pantalla comprende por lo menos una capa de metal autopasivante que no presenta aberturas de másde 2 mm de anchura, preferentemente no presenta aberturas de más de 1 mm de achura, o (ii) la pantalla comprende por lo menos dos capas de metal autopasivante, en las que las aberturas de por lomenos una capa están cubiertas por lo menos parcialmente por el metal de otra capa.

(04/01/2012) Protector de guiado de líneas de corriente de electrólisis para un soporte galvánico , comprendiendo el soporte galvánico unos medios de fijación conductores para objetos que deben recibir al menos un depósito metálico por electrólisis en una cuba de electrólisis, formando el soporte galvánico y los objetos un primer electrodo extendido en general de forma sustancialmente paralela a un segundo electrodo, estando destinado dicho protector a colocarse entre los dos electrodos y comprendiendo unas aberturas en relación con los objetos, caracterizado porque el protector es una hoja flexible que comprende un material plástico impermeable de tipo plastisol fraguado en masa, siendo el plastisol de naturaleza antimetalización, y la hoja flexible…

(24/11/2011) Instalación para el estañado electrolítico de una banda de acero en desplazamiento continuo en al menos una cuba de electrodeposición llena de una solución electrolítica que comprende un ácido AH y los iones 2+ estañosos Sn SnA bajo la forma de un compuesto 2 donde A designa un anión ácido, dicha cuba de electrodeposición comprende al menos un ánodo insoluble sumergido en la solución electrolítica de la cuba de electrodeposición y un cátodo constituido por la banda en desplazamiento continuo en la solución electrolítica de la cuba de electrodeposición , dicha instalación consta por otro lado de al menos un reactor de disolución de estaño que comprende un cátodo insoluble y al menos un ánodo de estaño soluble , y una célula de electrodiálisis…

(31/05/2011) Instalación para el estañado electrolítico de una banda de acero en deslizamiento continuo, dicha instalación comprende: • al menos una cuba de electrodeposición llena de una solución electrolítica que incluye un ácido AH y de iones estañosos Sn2+ bajo forma de un compuesto SnA con A que designa una función ácida, dicha cuba 2 a de electrodeposición incluye un ánodo insoluble sumergido en la solución electrolítica de la cuba de electrodeposición y un cátodo constituido por la banda en deslizamiento continuo en la solución electrolítica de la cuba de electrodeposición , • al menos un reactor de disolución de estaño…

(20/05/2011) Instalación para el estañado electrolítico de una banda de acero en desplazamiento continuo en al menos una cuba de electrodeposición llena de una solución electrolítica que comprende un ácido AH y los iones estañosos Sn2&61483; bajo la forma de un compuesto SnA donde A designa un anión ácido, dicha cuba de 2electrodeposición comprende al menos un ánodo insoluble sumergido en la solución electrolítica de la cuba de electrodeposición y un cátodo constituido por la banda en desplazamiento continuo en la solución electrolítica de la cuba de electrodeposición , dicha instalación consta por otro…

(14/12/2010) Procedimiento para reducir el coeficiente de rozamiento de la superficie de flejes de metal provistos de un recubrimiento, en especial, de flejes de acero (S) estañados o cromados, que son desplazados a través de una instalación de recubrimiento a una velocidad (v), caracterizado porque tras el proceso de recubrimiento se pulveriza una solución acuosa de un agente tensoactivo sobre el fleje de metal recubierto y desplazado con la velocidad (v), estando la solución acuosa compuesta de agua y un agente tensoactivo, y quedando, tras el exprimido de la solución de tensoactivo y el secado, una película de tensoactivo con un…

(30/11/2010) Dispositivo para el alojamiento o la sujeción de varios substratos planos en un plano horizontal, con un bastidor con brazos de bastidor que forman entre ellos campos de alojamiento con escotaduras o recortes en la zona de los brazos del bastidor o entre estos, presentando los brazos del bastidor soportes para los substratos para su sujeción mecánica y para el contacto eléctrico en el lado de substrato adyacente

(09/09/2010) Dispositivo para el tratamiento de sustratos 16 de artículos planos particularmente un dispositivo galvanizador 11 para sustratos en una pista de pasaje a través de una cámara de tratamiento 12 y medios de contacto 20 para un contacto eléctrico o alimentación de corriente eléctrica de un dispositivo conductor 21 a los sustratos, los medios de contacto presentan una superficie o parte exterior continua rígida y cerrada 27 para el acoplamiento de los sustratos 16 y un anillo de soporte esencialmente rígido 22, la superficie o parte exterior 27 está colocada sobre o formada por el anillo de soporte 22, presentando el anillo de soporte 22 una abertura interior 23 cuyo ancho interior es mayor que…

(04/08/2010) Instalación para el tratamiento de las superficies de piezas, que comprende una pluralidad de cubas de tratamiento que están dispuestas en serie, equipadas con tambores rotativos, que están dotados con medios de fijación temporal de las piezas que deben ser tratadas, y cuyos ejes (XX'') están montados en posición horizontal en rotación de tal manera, que la mayor parte de cada tambor sea sumergida en un líquido de tratamiento , que está contenido en la cuba correspondiente, y una cadena de transporte , que está destinada a alimentar cada tambor con piezas a ser tratadas y para retirar de dicho tambor las piezas que ya han sido tratadas, caracterizada porque dicho transporte se efectúa…

(25/06/2010) Dispositivo de metalización destinado a metalizar un dispositivo semiconductor , que comprende: - un recinto cerrado de volumen variable destinado a contener una pasta de metalización, - una pantalla de serigrafía que forma una pared del recinto solidaria con otras paredes del recinto , destinada a estar en contacto con el dispositivo semiconductor durante su metalización, - medios para aplicar una presión uniforme sobre una pared estanca móvil del recinto y reducir el volumen del recinto , estando destinada la reducción de volumen del recinto a hacer atravesar de manera uniforme la pasta de metalización a través de la pantalla de serigrafía