Procedimiento para el borrado de una memoria de semiconductor no volátil con radiación ionizante.
(19/03/2019) Procedimiento para el borrado de informacion que esta guardada en una unidad de semiconductor electronica en una pluralidad de elementos de memoria no volatil que presentan una puerta flotante con la siguiente etapa: irradiacion de la unidad de semiconductor con una radiacion de borrado hasta que la unidad de semiconductor haya absorbido una dosis nominal de la radiacion de borrado ; penetrando la radiacion de borrado a traves de la unidad de semiconductor y absorbiendose al menos una parte de la radiacion de borrado en la unidad de semiconductor apareciendo un efecto de ionizacion (A; B; C), influyendose en la concentracion…