CIP 2015 : G03F 7/32 : Composiciones líquidas a este efecto, p. ej. reveladores.

CIP2015GG03G03FG03F 7/00G03F 7/32[3] › Composiciones líquidas a este efecto, p. ej. reveladores.

Notas[t] desde G01 hasta G12: INSTRUMENTOS

G SECCION G — FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

G03F 7/32 · · · Composiciones líquidas a este efecto, p. ej. reveladores.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Composición reveladora para plancha de impresión, revelador y método para fabricación de plancha de impresión.

(23/01/2019). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: YAWATA,YUKIMI, YOSHIOKA,DAIKI.

Una composición reveladora para una plancha de impresión que contiene (a) sal de metal alcalino de ácido graso saturado que tiene un número de carbonos de 12 a 18 y (b) sal de metal alcalino de ácido graso insaturado que tiene un número de carbonos de 12 a 18 en una relación en peso de 20:80 a 80:20 en términos de (a):(b).

PDF original: ES-2718101_T3.pdf

Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y precursores de plancha de impresión litográfica que incluyen tales copolímeros.

(19/07/2017). Solicitante/s: AGFA GRAPHICS NV. Inventor/es: LOCCUFIER,JOHAN, Moriamé,Philippe.

Copolímero que comprende (i) una pluralidad de fracciones etilénicas A que tienen una estructura según la siguiente fórmula: **(Ver fórmula)** en la que R2 y R3 representan un átomo de hidrógeno, y (ii) una pluralidad de fracciones de acetal B que tienen una estructura según la siguiente fórmula: **(Ver fórmula)** en la que L representa un grupo de enlace divalente, X ≥ 0 ó 1, R1 representa un grupo aromático o heteroaromático opcionalmente sustituido que incluye al menos un grupo hidroxilo.

PDF original: ES-2642967_T3.pdf

Composición de resina fotosensible, placa de impresión flexográfica y procedimiento para producir una placa de impresión flexográfica.

(09/03/2016). Solicitante/s: Asahi Kasei E-Materials Corporation. Inventor/es: YOSHIDA, MASAHIRO, TABATA, SHUSAKU.

Composición de resina fotosensible, que comprende: 100 partes en masa de un prepolímero de poliuretano que tiene un grupo etilénicamente insaturado y que tiene una proporción de segmentos de polietileno comprendida entre el 5% y el 25% en masa; de 10 partes a 150 partes en masa de un componente etilénicamente insaturado, con respecto a 100 partes en masa del prepolímero de poliuretano; y de 0,01 a 10 partes en masa de un iniciador de fotopolimerización, con respecto a 100 partes en masa del prepolímero de poliuretano, en la que dicho componente etilénicamente insaturado comprende de 0,1 a 10 partes en masa de uno o más compuestos etilénicamente insaturados polifuncionales, que tienen 6 o más grupos (met)acriloílo en una molécula de los mismos, con respecto a 100 partes en masa de dicho prepolímero de poliuretano.

PDF original: ES-2565021_T3.pdf

Soluciones de tensioactivos diol acetilénicos y procedimientos de su uso de las mismas.

(28/01/2015) Un procedimiento para mejorar la humectabilidad de un substrato, comprendiendo el procedimiento: la puesta en contacto del substrato con una solución acuosa que comprende de 10 ppm a 10.000 ppm de al menos un tensioactivo que tiene la fórmula (I) o (II):**fórmula** en las que R1 y R4 son una cadena alquilo recta o ramificada que tiene desde 3 hasta 10 átomos de carbono; R2 y R3 son o bien H o bien una cadena alquilo que tiene desde 1 hasta 5 átomos de carbono; y m, n, p, y q son números que varían desde 0 hasta 20; recubrimiento del substrato con un recubrimiento protector para proporcionar un substrato recubierto con protector; exposición de al menos una porción del substrato…

Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica.

(23/07/2014) Método para fabricar una plancha de impresión litográfica que comprende las etapas de: a) proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende (i) un soporte que tiene una superficie hidrófila o que está provisto de una capa hidrófila, (ii) un recubrimiento sobre dicho soporte que comprende una capa fotopolimerizable y opcionalmente una capa intermedia entra la capa fotopolimerizable y el soporte, en el que la capa fotopolimerizable comprende un compuesto polimerizable, un iniciador de polimerización y un aglutinante, b) exponer a modo de imagen dicho recubrimiento en una filmadora de planchas, c) calentar el precursor…

Aductos de óxido de etileno/óxido de propileno de diol acetilénico y su uso.

(14/08/2013) Un aducto de óxido de etileno/óxido de propileno de diol acetilénico de estructura A o B **Fórmula** en donde en la estructura A r y t son 1 o 2, (n + m) es de 1 a 30 y (p + q) es de 1 a 10, las unidades de óxido de etileno y óxido de propileno están distribuidas a lo largo de la cadena de óxido de alquileno en bloques, en donde en la estructura B, R es hidrógeno o metilo y (n + m) ≥ 2-60 siempre que el compuesto contenga al menos una unidad de óxido de etileno y al menos una unidad de óxido de propileno; y r y t son 1 o 2 y las unidades de óxido de etileno y óxido de propileno están distribuidas aleatoriamente o en bloques a lo largo de la cadena de óxido…

Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica.

(01/03/2013) Método para fabricar una plancha de impresión litográfica que comprende las etapas de: a) proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende (i) un soporte que tiene una superficie hidrófila o que está provisto de una capa hidrófila, (ii) un recubrimiento sobre dicho soporte que comprende una capa fotopolimerizable que comprende un compuesto polimerizable, un iniciador de polimerización y un aglutinante, b) exponer a modo de imagen dicho recubrimiento en una filmadora, c) calentar el precursor en una unidad de precalentamiento, d) tratar el precursor en una estación de engomado que comprende al menos una primera unidad de engomado, aplicando una solución de…

Aductos de óxido de etileno/óxido de propileno de diol acetilénico y su utilización en reveladores fotorresistentes.

(03/10/2012) Composición acuosa reveladora de fotorresistentes que contiene, como surfactante, un aducto de diol acetilénicoóxido de etileno/óxido de propileno representado por las estructuras generales A o B: **Fórmula** en las que, en la estructura A, r y t representan, independientemente entre sí, 1 o 2, (n+m) es de 1 a 30 y (p+q) esde 1 a 30; y en las que, en la estructura B, r y t representan, independientemente entre sí, 1 o 2, (n+10 m) es de 2 a 60 y Rrepresenta hidrógeno o metilo con la condición de que el compuesto contenga, como mínimo, una unidad de óxidode etileno y, como mínimo, una unidad de óxido de propileno,…

Método de fabricación de planchas de impresión litográficas.

(12/04/2012) Un método de fabricación de planchas de impresión litográficas que comprende las siguientes etapas: - proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende un recubrimiento fotopolimerizable sobre un soporte hidrófilo; - exponer a modo de imagen el precursor; - precalentar el precursor expuesto; y - revelar el precursor expuesto en una solución de goma; caracterizado por el hecho de que, después de precalentar y antes de revelar el precursor, se lleva a cabo una refrigeración acelerada del precursor que no elimina sustancialmente una parte del recubrimiento del precursor.

Disolvente de lavado de polímero y su uso para desarrollar una placa de impresión flexográfica.

(27/03/2012) Un disolvente de lavado de polímero para revelar una placa de impresión flexográfica que comprende: - 10-25 % en peso de un componente de hidrocarburo de éster, -50-75 % en peso de un componente de hidrocarburo de éter, -10-25 % de un componente de hidrocarburo alcohólico.

MÉTODO DE ELABORACIÓN DE UNA PLANCHA DE IMPRESIÓN LITOGRÁFICA.

(05/05/2011) Un método de elaboración de una plancha de impresión litográfica que comprende las etapas de: a) proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende (i) un soporte que tiene una superficie hidrófila o que está provisto de una capa hidrófila, (ii) sobre dicho soporte, un recubrimiento que comprende una capa fotopolimerizable y, opcionalmente, una capa intermedia entre la capa fotopolimerizable y el soporte, en el que dicha capa fotopolimerizable comprende un compuesto polimerizable, un iniciador de la polimerización y un aglutinante, b) exponer a modo de imagen dicho recubrimiento en un montador de plancha, c) opcionalmente, calentar el precursor en una unidad de precalentamiento, d) tratar el precursor en un puesto de engomado, que comprende una primera y al menos una segunda unidad…

SOLUCIÓN DE GOMA UTILIZADA PARA EL REVELADO Y ENGOMADO DE UNA PLACA DE IMPRESIÓN LITOGRÁFICA.

(23/02/2011) Una solución de goma adecuada para el revelado y engomado de un precursor de placa de impresión litográfica, comprendiendo un polímero hidrofílico formador de película o surfactante, caracterizándose porque dicha solución de goma comprende adicionalmente una sal formada de la reacción de un ácido -seleccionado de entre el ácido fosfórico y el ácido fosforoso- y una di- o tri-alcanolamina

METODO DE FABRICACION DE UNA PLANCHA DE IMPRESION LITOGRAFICA.

(29/10/2010) Un método de fabricación de una plancha de impresión litográfica que comprende las etapas de: a) proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende: (i) un soporte que tiene una superficie hidrófila o que está provisto de una capa hidrófila, (ii) un recubrimiento sobre dicho soporte, que comprende una capa fotopolimerizable y, opcionalmente, una capa intermedia entre la capa fotopolimerizable y el soporte, en el que dicha capa fotopolimerizable comprende un compuesto polimerizable, un iniciador de polimerización y un aglutinante, b) exponer a modo de imagen dicho recubrimiento en…

ELEMENTOS DE IMPRESION QUE CONSTAN DE UNA CAPA DE FOTOPOLIMERO LIQUIDO Y UNA CAPA DE FOTOPOLIMERO SOLIDO.

(16/12/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: POLYFIBRON TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: KUMPFMILLER, RONALD, J., CARTER, MARTIN, L., TSAO, JUNG, H., GOSS, WILLIAM, K., YANG, MICHAEL, W.

Un método para la elaboración de un elemento de impresión fotopolimérico que consta de las etapas siguientes: - la suministración de una superficie o capa la cual está provista de una capa de resina sólida fotocurable, y que tiene una primera y segunda caras principales opuestas; - la colocación de un negativo fotográfico adyacente a dicha primera cara de dicha capa sólida; - la suministración de una capa fotopolímera líquida adyacente a dicha segunda cara de dicha capa, formando de ese modo un compuesto multicapa; y - exponiendo dicho compuesto a luz actínica a través del negativo fotográfico por una vez y bajo condiciones efectivas para polimerizar las partes seleccionadas del compuesto.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRIMIR DE RESINA FOTOSENSIBLE.

(16/08/2001). Solicitante/s: ASAHI KASEI KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: YOSHIDA, MASAHIRO, FUJIOKA, KENJI.

LA PRESENTE INVENCION SE RELACIONA CON UNA REVELADORA PARA UNA PLACA DE IMPRESION CON UNA RESINA FOTOSENSIBLE QUE COMPRENDE UNA SOLUCION DE REVELADO Y UN AGENTE DE ABSTRACCION DE HIDROGENO QUE PUEDE ABSTRAER LOS ATOMOS DE HIDROGENO DE UN COMPUESTO AL IRRADIARLO CON UNA RADIACION ACTIVA; Y CON UN PROCESO DE PRODUCCION DE UNA PLACA DE IMPRESION CON UNA RESINA FOTOSENSIBLE QUE COMPRENDE EL REVELADO DE UNA RESINA FOTOSENSIBLE EXPUESTA CON DICHA REVELADORA Y, DESPUES, LA IRRADIACION DE LA SUPERFICIE DE LA PLACA CURADA OBTENIDA CON UNA RADIACION ACTIVA.

Ba|os para generacion de microestructuras.

(01/02/2001). Solicitante/s: CLONDIAG CHIP TECHNOLOGIES GMBH. Inventor/es: SCHULZ, TORSTEN, ERMANTRAUT, EUGEN, WOHLFART, KLAUS, KIHLER, JOHANN, MICHAEL.

LA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS TIPOS DE BAÑOS PARA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS, QUE SON NECESARIA EN LOS CAMPOS MAS VARIADO DE APLICACION DE TECNICAS DE MICROSISTEMAS Y MICROESTRUCTURACION. LA INVENCION TIENE COMO OBJETIVO EL SUMINISTRAR NUEVOS TIPOS DE BAÑOS PARA LA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS QUE SUMINISTRAN UNA SOLUCION MAS ECONOMICA Y, SOBRE TODO, UNA SOLUCION MAS LIMPIA A LOS PROBLEMAS DE ELIMINACION QUE TIENEN TODOS LOS PROCEDIMIENTOS CONOCIDOS PREVIAMENTE PARA LA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS. ESTE OBJETIVO SE CONSIGUE DE TAL MODO QUE AL MENOS UN CATALIZADOR BIOGENICO (EN PARTICULAR, UNA ENZIMA) SE AÑADE AL BAÑO PARTICULAR QUE ACTUA SOBRE UNA PELICULA DELGADA PREVIAMENTE DETERMINADA.

DESARROLLO DE COMPOSICIONES SENSIBLES A LAS IRRADIACIONES.

(01/04/1996). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS & COMPANY INCORPORATED. Inventor/es: INGHAM, MICHAEL, STYAN, PAUL ANTHONY.

LAS COMPOSICIONES SENSIBLES A LA IRRADIACION EXPUESTAS EN RELACION CON LAS IMAGENES SE PROCESAN UTILIZANDO UN LIQUIDO REVELADOR QUE SE COMPONE DE UN SULFATO EXIL ETILO. EL LIQUIDO REVELADOR PUEDE INCLUIR ADICIONALMENTE UN AGENTE TENSOACTIVO TAL COMO UN ETER LAURIL POLIOXETILENO O UN CONDENSADO DE OXIDO DE ETILENO/OXIDO DE PROPILENO DE GLICOL DE POLI(ETILENO), UN MATERIAL ALCALINO TAL COMO EL METASILICATO DE SODIO, UNA SAL CARBOXILICA SOLUBLE EN AGUA COMO EL OCTANOATO DE SODIO, Y LA SAL SODICAQ DE ACIDO ACETICO TETRA DIAMINICO DE ETILENO. TALES LIQUIDOS REVELADORES SE PUEDEN FORMULAR PAR UTILIZAR CON CUALQUIER PLACA DE EFECTO POSITIVO O DE EFECTO NEGATIVO.

MEZCLA DE DISOLVENTES PARA EL REVELADO DE SUPERFICIES IMPRESAS, QUE ACTUAN EN NEGATIVO.

(01/02/1995). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: SCHLOSSER, HANS-JOACHIM, DR.

LA INVENCION CONCIERNE A UNA MEZCLA DISOLVENTE, PARA EL REVELADO DE SUPERFICIES IMPRESAS, QUE ACTUAN EN NEGATIVO, CON UN POLIMERO ELASTOMERO, CON UN MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE COMPATIBLE CON EL, Y CON UN FOTOINICIADOR, QUE COMO COMPONENTES ESENCIALES CONTIENE: A) AL MENOS UN AROMATICO TOTALMENTE HIDRATADO, CON UN PUNTO DE INFLAMACION DE HASTA 40 LLICION DE ALREDEDOR DE 150 HASTA 220 OHOL ALIFATICO CON 4 A 9 ATOMOS DE CARBONO, ASI COMO UN PROCEDIMIENTO PARA LA CONFECCION DE UN SELLO DE TIMBRAR, EN EL CUAL SE PUEDE UTILIZAR UN MATERIAL DE GRABACION, QUE CONSTA DE UN VEHICULO Y EN UNA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION, QUE ACTUA EN NEGATIVO, QUE CONTIENE COMO COMPONENTES ESENCIALES LOS COMPONENTES NOMBRADOS ANTERIORMENTE, IRRADIADO CON RADIACIONES ACTINICAS Y REVELADO CON LA MEZCLA DISOLVENTE SEGUN LA INVENCION.

COMPUESTO FLUIDO PARA LIMPIAR MATERIALES POLIMERICOS QUE SE ADHIEREN A UNA SUPERFICIE.

(01/11/1994). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SCHNEIDER, REINHARD, TELSER, THOMAS, HUEMMER, WOLFGANG, DR., KOCH, HORST, DR., KURTZ, KARL-RUDOLF, DR., WERTHER, HEINZ-ULRICH.

SE PREPARA UN NUEVO COMPUESTO FLUIDO PARA LA COMPLETA LIMPIEZA DE LIBERACION DE RESIDUOS DE SUPERFICIES EN LA QUE SE ADHIEREN MATERIALES POLIMERICOS. EL NUEVO COMPUESTO FLUIDO ES UNA EMULSION DEL TIPO DE "AGUA EN ACEITE" CONTENIENDO UNA FASE ACUOSA FINAMENTE DISPERSA Y UNA FASE ORGANICA CONTINUA IGNIFUGA O DIFICILMENTE INFLAMABLE Y/O DE UN PUNTO DE EBULLICION ALTO; EN UNA PROPORCION DE VOLUMEN DE 90:10 A 10:90. LA EMULSION DE AGUA EN ACEITE PUEDE TAMBIEN CONTENER ALCOHOLES, COMPUESTOS ACTIVOS EN SUPERFICIE Y MAS ADITIVOS APROPIADOS. SE UTILIZA PREFERENTEMENTE EN LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION DE LIBERACION FLEXOGRAFICA FOTOPOLIMERIZADA PARA LAVAR (REVELADO) LAS AREAS NO EXPUESTAS Y POR LO TANTO NO POLIMERIZADAS DE LOS REVESTIMIENTOS SENSIBLES EXPUESTOS DE PLACAS DE IMPRESION DE LIBERACION FLEXOGRAFICA SUSTENTANDO LA IMAGEN.

DISOLVENTE DE REVELADO PARA CAPAS ROCIADAS POR FOTOPOLIMERIZACION ASI COMO PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE LOS MOLDES EN RELIEVE.

(01/10/1994). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS & COMPANY INCORPORATED. Inventor/es: SCHLOSSER, HANS JOACHIM, DR. DIPL.-CHEM., SCHON, GUNTHER.

SE DESCRIBE UN DISOLVENTE DE REVELADO PARA CAPAS ROCIADAS POR FOTOPOLIMERIZACION QUE CONTIENE UN AGLUTINANTE EN BASE A POLIMEROS ELASTOMEROS, UN MONOMERO QUE SE PUEDE FOTOPOLIMERIZAR COMBATIBLE CON ELLO, ASI COMO UN FOTO-INICIADOR. EL DISOLVENTE DE REVELADO CONTIENE COMO COMPONENTE ESENCIAL UNA COMBINACION AROMATICA DE LA FORMULA GENERAL I PUDIENDO SER DIFERENTES O IGUALES R1 A R4 Y DONDE H1 /C1-C5) SIGNIFICAN ALQUILO N O ISO Y DONDE R1 Y R2, SI NO SON VECINOS DIRECTOS, TAMBIEN PUEDEN FORMAR UN ANILLO CICLOALIFATICO O AROMATICO CON 5 O 6 ATOMOS C DE ANILLO QUE PREFERENTEMENTE NO SON SUBSTITUIDOS, CONFORME A QUE LA SUMA DE LOS ATOMOS DE CARBONO DE LOS SUSTITUYENTES Y DE LOS MIEMBROS DEL ANILLO SEA DE 9 A 13. EL DISOLVENTE DE REVELADO, EN COMPARACION CON OTROS DISOLVENTES DE LA TECNICA NO ES TOXICO, Y SE PUEDE QUITAR DE LA CAPA RAPIDAMENTE, TIENE UNA ALTA CAPACIDAD PARA COMPONENTES DE LA CAPA Y ES CAPAZ DE REVELAR TAMBIEN PACAS A BASE DE CAUCHO DE NITRILO.

FLUIDO DE REVELADO PARA PLACAS LITOGRAFICAS.

(01/07/1992). Solicitante/s: HORSELL GRAPHIC INDUSTRIES LIMITED. Inventor/es: RILEY, DAVID S., TURNER, GREGORY P.

UN FLUIDO DE REVELADO PARA PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA REVERSIBLE Y DE ACCION - POSITIVA, ACCION - NEGATIVA COMPRENDE METASILICATO COMO ALKALI JUNTO CON UNA MASA DE COPOLIMERO DE OXIDO DE ETILENO / OSIDO DE PROPILENO Y OPCIONALMENTE, TETRABORATO DE SODIO, UN ESTER FOSFATO, UN AGENTE ANTI ESPUMOSO Y UN AGENTE SUAVIZADOR O DE RETENCION. EL FLUIDO TIENE UN ALTO CONTENIDO DE ALKALI PARA REDUCIR LA NECESIDAD DE RELLENAR FRECUENTEMENTE MIENTRAS AL MISMO TIEMPO, DISMINUYE EL DAÑO A LA IMAGEN, PARTICULARMENTE EN PLACAS NEGATIVAS E INVERTIDAS Y EVITAR LA INACEPTABLE ESPUMA Y TURBIDEZ.

UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE UNA SERIGRAFIA FOTOPROTECTORA.

(01/07/1987). Solicitante/s: HOECHST JAPAN KABUSHIKI KAISHA.

METODO DE PREPARAR UNA SERIGRAFIA FOTOPROTECTORA. CONSISTE EN IRRADIAR A LA MANERA DE IMAGEN UNA CAPA FOTOPROTECTORA CON RADIACION ACTINICA PARA FORMAR UNA IMAGEN FOROPROTECTORA EN EL INTERIOR DE LA CAPA Y DESPUES REMOVER LAS AREAS SIN IMAGEN DE LA CAPA TRATANDOLA CON UNA SOLUCION PROCESADORA DE FOTOPROTECTORES QUE COMPRENDE: A) UN HIDROXIDO AMONICO CUATERNARIO DE FORMULA (I), DONDE R, R ELEVADO A 1 Y R ELEVADO A 2, IGUALES O DIFERENTES, SON CADA UNO DE ELLOS UN GRUPO ALQUILO DE C 1 A 5, Y N ES UN ENTERO DE 1 A 10, Y B) AGUA Y/O UN DISOLVENTE ORGANICO MISCIBLE CON AGUA. TIENE APLICACIONES EN TECNICAS DE REVELADO.

PROCEDIMIENTO PARA PROCESAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION.

(01/05/1982). Solicitante/s: VICKERS LIMITED..

PROCEDIMIENTO PARA PROCESAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION, DE TRABAJO EN NEGATIVO. TRAS HABER SIDO EXPUESTA COMO UNA IMAGEN, DE MODO QUE PARTES DEL REVESTIMIENTO SENSIBLE A LA RADIACION DE LA PLACA SEAN INCIDIDAS POR RADIACION U OTRAS PARTES NO SEAN INCIDIDAS POR LA ARADIACION, SE HACE REACCIONAR EL REVESTIMIENTO SENSIBLE A LA RADIACION CON UNA SOLUCION ACUOSA DE UN SURGACTANTE NO IONICO Y UNA SAL DE ACIDO, CARBOXILICO ALIFATICO CON NUEVE ATOMOS DE CARBONO, TAL COMO ACIOD HEPTANOICO, ACIDO OCTANOICO O ACIDO 2-ETILHEXANOICO, EN UNA CANTIDADD DE 20 A 300 GRAMOS POR LITRO. LAS PARTES DEL REVESTIMIENTO QUE NO SON INCIDIDAS POR LA RADIACION SE DEBEN DISOLVER SELECTIVAMENTE PARA DEJAR UNA IMAGEN SOBRE LA PLACA CONSTITUIDA POR AQUELLAS PARTES DEL REVESTIMIENTO QUE SON INCIDIDAS POR LA RADIACION DURANTE LA EXPOSICION COMO UNA IMAGEN.

PROCEDIMIENTO PARA EL PROCESADO DE UNA CAPA FOTOPOLIMERICA EXPUESTA A MODO DE IMAGEN.

(01/04/1977). Solicitante/s: VICKERS LIMITED..

Resumen no disponible.

 

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