Sistemas y métodos de distribución en un dispositivo de procesamiento de muestra.
Dispositivo de procesamiento de muestra con una estructura de distribución,
una cámara (115, 215) de entrada y una cámara (150, 250) de proceso, el dispositivo de procesamiento de muestra configurado para girar alrededor de un eje de rotación (A-A, B-B) y la estructura de distribución que comprende:
una vía (128, 228, 278) de fluido que forma una válvula (130, 230) de capilaridad;
una válvula (132, 232) de septo que comprende una cámara (134, 234) de válvula y un septo (136, 236) de válvula, en el que la válvula de capilaridad está en serie con la válvula de septo, y la válvula de 10 capilaridad está aguas arriba de y en comunicación fluida con una entrada o extremo aguas arriba del septo de válvula, y la válvula de capilaridad se posiciona radialmente por dentro de la válvula de septo, con respecto al eje de rotación;
en el que la cámara (115, 215) de entrada está en comunicación fluida con una entrada de la vía de fluido;
la cámara (150, 250) de proceso que se sitúa para estar en comunicación fluida con una salida de la cámara (134, 234) de válvula;
el septo (136, 236) de válvula que se ubica entre la cámara de válvula y la cámara de proceso, teniendo el septo de válvula:
un primer lado,
un segundo lado opuesto al primer lado,
una configuración cerrada en la que la cámara (134, 234) de válvula y la cámara (150, 250) de proceso no están en comunicación fluida, y una configuración abierta en la que un orificio o vacío se forma en el septo (136, 236) de válvula y la cámara (134, 234) de válvula y la cámara (150, 250) de proceso están en comunicación fluida,
en el que el septo (136, 236) de válvula está configurado para cambiarse de la configuración cerrada a la configuración abierta al dirigir la energía electromagnética en el primer lado del septo de válvula; y
la vía (128, 228, 278) de fluido está en comunicación fluida con una entrada de la cámara (134, 234) de válvula, en la que la vía de fluido está configurada para impedir que un líquido entre en la cámara de válvula y que se recolecte adyacente al segundo lado del septo de válvula cuando el septo de válvula se encuentre en la configuración cerrada.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2012/038470.
Solicitante: DIASORIN S.P.A.
Nacionalidad solicitante: Italia.
Dirección: Via Crescentino snc 13040 Saluggia (Vercelli) ITALIA.
Inventor/es: LUDOWISE,PETER D, SMITH,Jeffrey,D.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B01L3/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL. › B01L APARATOS DE LABORATORIO PARA LA QUIMICA O LA FISICA, DE USO GENERAL (aparatos de uso médico o farmacéutico A61; aparatos para aplicaciones industriales o aparatos de laboratorio cuya estructura y funciones son comparables a las de aparatos industriales similares, ver las clases relativas a los aparatos industriales, en particular las subclases B01 y C12; aparatos de separación o de destilación B01D; dispositivos de mezcla o de agitación B01F; atomizadores B05B; tamices, cribas B07B; tapones, capuchones B65D; manipulación de líquidos en general B67; bombas de vacío F04; sifones F04F 10/00; grifos, válvulas F16K; tubos, empalmes para tubos F16L; aparatos especialmente adaptados al estudio y análisis de materiales G01, particularmente G01N; aparatos eléctricos u ópticos, ver las subclases apropiadas en las secciones G y H). › Recipientes o utensilios para laboratorios, p. ej. cristalería de laboratorio (botellas B65D; equipos para enzimología o microbiología C12M 1/00 ); Cuentagotas (recipientes para volumetría G01F).
- F16K99/00 MECANICA; ILUMINACION; CALEFACCION; ARMAMENTO; VOLADURA. › F16 ELEMENTOS O CONJUNTOS DE TECNOLOGIA; MEDIDAS GENERALES PARA ASEGURAR EL BUEN FUNCIONAMIENTO DE LAS MAQUINAS O INSTALACIONES; AISLAMIENTO TERMICO EN GENERAL. › F16K VALVULAS; GRIFOS; COMPUERTAS; FLOTADORES PARA ACCIONAMIENTO; DISPOSITIVOS PARA VENTILAR O AIREAR. › Materia no prevista en otros grupos de esta subclase.
PDF original: ES-2744237_T3.pdf
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