Método para texturizar substratos discretos y sello flexible.

Un proceso rodillo-a-placa que comprende al menos un rodillo para texturizado o impresión de un patrón en substratos discretos (104),

tales como dispositivos de visualización, paneles de iluminación o paneles solares, que comprende los pasos de suministrar una laca de estampación (103) en forma de una capa continua, texturizar la laca de estampación con un molde que tiene una cara trasera y un cara delantera, en donde la cara trasera está en contacto de rozamiento con el al menos un rodillo, y en donde la cara delantera exhibe una textura de la estampación (101) que comprende un área funcional, estando dicha área funcional formada por aberturas y elevaciones, creando de esta manera volúmenes en la textura de la estampación para obtener una laca estampada y seguido opcionalmente por curado de la laca estampada para obtener una capa texturizada o con un patrón impreso solidificada, caracterizado por que el texturizado o impresión de un patrón se realiza con una textura de la estampación que comprende un área de entrada (601) con una textura para la cual puede escapar gas seguida por el área funcional con una textura que es diferente a la textura del área de entrada.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2016/052872.

Solicitante: Morphotonics Holding B.V.

Nacionalidad solicitante: Países Bajos.

Dirección: De Run 4281 5503 LM Veldhoven PAISES BAJOS.

Inventor/es: TER MEULEN,JAN MATTHIJS, TITULAER,BRAM JOHANNES, VAN ERVEN,ADRIANUS JOHANNES.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

PDF original: ES-2733809_T3.pdf

 

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