Método para la deposición de películas cerámicas.

Método para la deposición de al menos dos capas de un electrolito de celda de combustible de óxido sólido de temperatura intermedia (IT-SOFC) con soporte metálico,

que comprende la deposición de al menos dos capas de cerámica cristalina de óxido metálico sobre una superficie de un sustrato, comprendiendo el método las etapas de:

(i) depositar una solución de un precursor de sal soluble de una cerámica cristalina de óxido metálico sobre dicha superficie de dicho sustrato para definir una capa de dicha solución de dicho precursor de sal soluble sobre dicha superficie;

(ii) secar dicha solución de dicho precursor de sal soluble para definir una capa de dicho precursor de sal soluble sobre dicha superficie;

(iii) calentar dicho precursor de sal soluble sobre dicha superficie a una temperatura de entre 150 °C y 600 °C para descomponerlo y formar una capa de película de óxido metálico sobre dicha superficie;

(iv) repetir las etapas (i)-(iii) al menos una vez más, depositándose dicha solución de dicho precursor de sal soluble sobre dicha película de óxido metálico, de manera que dicha película de óxido metálico sobre dicha superficie comprende una pluralidad de capas de óxido metálico;

(v) cocer dicho sustrato con dicha película de óxido metálico sobre dicha superficie a una temperatura de 500 °C-1100 °C para cristalizar dicha película de óxido metálico en una capa de cerámica cristalina de óxido metálico unida a dicha superficie de dicho sustrato; y

(vi) repetir al menos una vez las etapas (i)-(v), donde la superficie es la capa de cerámica cristalina de óxido metálico producida anteriormente en la etapa (v),

donde cada una de las etapas (ii), (iii) y (v) se lleva a cabo en una atmósfera de aire,

donde:

en dicho primer conjunto de etapas (i)-(v) dicha superficie de dicho sustrato es generalmente impermeable a dicho precursor de sal soluble y es un material de cerámica de electrolito de conducción mixta iónica electrónica y dicha cerámica cristalina de óxido metálico es permeable a los iones, eléctricamente aislante e impermeable a los gases; y

en un conjunto final de etapas (i)-(v) dicho sustrato es la capa de cerámica cristalina de óxido metálico producida anteriormente, y dicha cerámica cristalina de óxido metálico que se produce es un material de electrolito de conducción mixta iónica electrónica.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/GB2009/001103.

Solicitante: CERES INTELLECTUAL PROPERTY COMPANY LIMITED.

Inventor/es: LEAH, ROBERT, Dawson,Richard, BONE,ADAM.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C04B41/87 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C04 CEMENTOS; HORMIGON; PIEDRA ARTIFICIAL; CERAMICAS; REFRACTARIOS.C04B LIMA; MAGNESIA; ESCORIAS; CEMENTOS; SUS COMPOSICIONES, p. ej. MORTEROS, HORMIGON O MATERIALES DE CONSTRUCCION SIMILARES; PIEDRA ARTIFICIAL; CERAMICAS (vitrocerámicas desvitrificadas C03C 10/00 ); REFRACTARIOS (aleaciones basadas en metales refractarios C22C ); TRATAMIENTO DE LA PIEDRA NATURAL. › C04B 41/00 Postratamiento de morteros, hormigón, piedra artificial; Tratamiento de la piedra natural (vidriados distintos a los vidirados en frio C03C 8/00). › Cerámicas.
  • C04B41/89 C04B 41/00 […] › para obtener al menos dos revestimientos superpuestos de composiciones diferentes.
  • C23C18/12 C […] › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K). › C23C 18/00 Revestimiento químico por descomposición ya sea de compuestos líquidos, o bien de soluciones de los compuestos que constituyen el revestimiento, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento (reacción química de la superficie C23C 8/00, C23C 22/00 ); Deposición por contacto. › caracterizada por la deposición sobre materiales inorgánicos, distintos a los materiales metálicos.
  • H01M8/12 SECCION H — ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01M PROCEDIMIENTOS O MEDIOS, p. ej., BATERIAS, PARA LA CONVERSION DIRECTA DE LA ENERGIA QUIMICA EN ENERGIA ELECTRICA. › H01M 8/00 Pilas de combustible; Su fabricación. › que funcionan a alta temperatura, p. ej. con electrolito de ZrO 2 estabilizado.

PDF original: ES-2708085_T3.pdf

 

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