Procedimiento para estructurar una superficie de un molde de huecograbado.

Procedimiento para estructurar una superficie de un molde de huecograbado,

- en el que una capa de plantilla se imprime sobre la superficie del molde de huecograbado,

- en el que la impresión se realiza mediante la proyección de material de plantilla en forma de gotitas,

- en el que la capa de plantilla se contornea al imprimirse, de tal forma que la capa de plantilla presenta escotaduras, y

- en el que se realiza un tratamiento químico de la superficie del molde de huecograbado después de imprimirse la capa de plantilla, aplicándose material en la superficie del molde de huecograbado o eliminándose material de la superficie del molde de huecograbado, caracterizado por que se usa al menos en parte un volumen de gotitas de menos de 10 pl.

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E16155066.

Solicitante: AKK GmbH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: KÖNIGSBERGER STRASSE 117 47809 KREFELD ALEMANIA.

Inventor/es: KESPER, PETER.

Fecha de Publicación: 15 de Mayo de 2019.

Clasificación Internacional de Patentes:

B41C1/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › Preparación de la forma o del cliché.
B41C1/02 B41C […] › B41C 1/00 Preparación de la forma o del cliché. › Grabado; Cabezas a este efecto (registro en soportes de registro, cabezas a este efecto G11B).
B41C1/18 B41C 1/00 […] › Formas de impresión curvas o cilindros de impresión.
G03F7/20 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
G03F7/24 G03F 7/00 […] › Superficies curvadas.

PDF original: ES-2731260_T3.pdf

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