Método para la fabricación de dispositivos microfluídicos tridimensionales monolíticos.

Método para producir un dispositivo microfluídico tridimensional monolítico (19;

29), que comprende las siguientes etapas:

- producir, con un material sacrificial, una plantilla tridimensional (15; 25) de forma estable, que consiste en una parte (A), que se corresponde con la canalización del dispositivo microfluídico, y una o más partes (B, B'), que no se corresponden con dicha canalización;

- colocar dicha plantilla tridimensional en un molde (16; 26) suspendiéndola de al menos una de dicha una o más partes (B, B') que no se corresponden con dicha canalización;

- recubrir dicha plantilla tridimensional excluyendo dicha una o más partes (B, B') que no se corresponden con dicha canalización, con un precursor, líquido o en disolución, de una matriz sólida, pudiendo solidificar dicho precursor mediante reacción química o transformación física formando una matriz que constituye el cuerpo del dispositivo final;

- provocar la solidificación de dicho precursor;

- retirar de manera selectiva el material sacrificial mediante un tratamiento térmico y/o mediante disolución con un disolvente del mismo;

en el que la matriz se produce con un material poroso obtenido introduciendo en el precursor líquido o en la disolución del precursor de matriz, polvos de un material sacrificial porogénico, que puede ser igual o diferente del usado para formar la plantilla tridimensional.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/IB2012/052732.

Solicitante: Tensive S.r.l.

Inventor/es: LENARDI,CRISTINA, TOCCHIO,ALESSANDRO, MARTELLO,FEDERICO.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B81C1/00 SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B81 TECNOLOGIA DE LAS MICROESTRUCTURAS.B81C PROCEDIMIENTOS O APARATOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA LA FABRICACION O EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS O SISTEMAS DE MICROESTRUCTURA (fabricación de microcápsulas o de microbolas B01J 13/02; procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de elementos piezoeléctricos o electroestrictivos o magnetoestrictivos en sí H01L 41/22). › Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).
  • G03F7/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

PDF original: ES-2692296_T3.pdf

 

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