Impresión de interfaz líquida continua.
Un método de formación de un objeto tridimensional, que comprende:
proporcionar un portador y un miembro ópticamente transparente que tiene una superficie de construcción, dicho portador y dicha superficie de construcción definen una región de construcción entre ellos;
rellenar dicha región de construcción con un líquido polimerizable;
irradiar dicha región de construcción a través de dicho miembro ópticamente transparente para formar un polímero sólido a partir de dicho líquido polimerizable mientras simultáneamente avanza dicho portador lejos de dicha superficie de construcción para formar dicho objeto tridimensional a partir de dicho polímero sólido, mientras que también simultáneamente:
(i) mantener continuamente una zona muerta de líquido polimerizable en contacto con dicha superficie de construcción, y
(ii) mantener continuamente un gradiente de la zona de polimerización entre dicha zona muerta y dicho polímero sólido y en contacto con cada uno de los mismos, dicho gradiente de la zona de polimerización comprende dicho líquido polimerizable en forma parcialmente curada.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2014/015506.
Solicitante: CARBON3D, Inc.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 312 Chestnut St. Redwood City, CA 94063 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.
Inventor/es: DESIMONE, JOSEPH, M., ERMOSHKIN,ALEXANDER, ERMOSHKIN,NIKITA, SAMULSKI,EDWARD T.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
PDF original: ES-2588485_T3.pdf
Patentes similares o relacionadas:
Procedimiento y dispositivo para producir un objeto multicelular tridimensional, del 29 de Julio de 2020, de TECHNISCHE UNIVERSITAT BERLIN: Procedimiento para producir un objeto multicelular tridimensional, con los pasos siguientes: a) introducción de un primer líquido fotopolimerizable […]
Proceso de moldeo por microtransferencia y sustrato modelado obtenible a partir del mismo, del 11 de Septiembre de 2019, de Université d'Aix-Marseille: Proceso que comprende las siguientes etapas sucesivas: (a) impregnar un molde blando provisto de al menos una cavidad con una capa de sol-gel recubierta sobre […]
Aparato para marcar substratos discretos con un sello flexible discreto, del 11 de Septiembre de 2019, de Morphotonics Holding B.V: Un aparato para el marcado sobre un substrato discreto con un sello flexible discreto que comprende a) al menos un primer sello flexible rectangular que tiene […]
CREACIÓN DE LENTES REGRABABLES, del 29 de Agosto de 2019, de INDIZEN OPTICAL TECHNOLOGIES OF AMERICA, LLC: Se describen procedimientos para la configuración de lentes. Un procedimiento incluye el borrado de una lente calentando la lente a una temperatura de borrado definida y grabando […]
Método para mejorar el rendimiento de impresión en placas de impresión flexográfica, del 21 de Agosto de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método de adaptación de la forma de una pluralidad de puntos de impresión en relieve creados en una preforma de impresión fotosensible durante un proceso de producción de […]
Formulación de fotopolímero para la producción de medios holográficos con polímeros de matriz altamente reticulados, del 24 de Junio de 2019, de Covestro Deutschland AG: Formulación de fotopolímero que comprende un componente de poliol, un componente de poliisocianato, un monómero de escritura y un fotoiniciador que contiene un coiniciador […]
Composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve y una placa original de impresión en relieve obtenida a partir de la misma, del 12 de Junio de 2019, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve que contiene como ingredientes esenciales poliamida soluble en agua o […]
Composición de resina fotosensible para placa original de impresión flexográfica CTP, y placa original de impresión flexográfica preparada a partir de ella, del 5 de Junio de 2019, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para la placa original de impresión flexográfica CTP que contiene al menos un polímero hidrófobo obtenido […]