PROCEDIMIENTO DE GRABADO FOTOGRAFICO.

Procedimiento de grabado fotográfico, sobre metal, preferentemente oro de 18k y oro blanco;

que partiendo de un positivo de cualquier tamaño, comprende: la limpieza y desengrase de la placa de oro por ultrasonidos, continuando con un baño en sosa cáustica al 100% y un aclarado con agua, quedando la placa preparada y limpia para impregnarla con una emulsión fotosensible, se procede al contacto en prensa del positivo con la placa, exponiendo la emulsión a la luz actímica de la insoladora, efectuándose un revelado y un aclarado posterior, seguidamente se recubre con una capa de protección continuando con el ataque al metal por medio de ácidos por goteo, continuando con un aclarado con agua, disolvente y acetona, obteniendo una limpieza total de la placa de oro, para que finalmente el grabado quede sellado con una capa de protección.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: MORENO SANCHEZ,ATANASIO
MORENO SANCHEZ,RICARDO
.

Nacionalidad solicitante: España.

Provincia: ZARAGOZA.

Inventor/es: MORENO SANCHEZ,ATANASIO, MORENO SANCHEZ,RICARDO.

Fecha de Solicitud: 17 de Enero de 2003.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 14 de Junio de 2006.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C23F1/02 QUIMICA; METALURGIA.C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.C23F LEVANTAMIENTO NO MECANICO DE MATERIAL METALICO DE LAS SUPERFICIES (trabajo del metal por electroerosión B23H; despulido por calentamiento a la llama B23K 7/00; trabajo del metal por láser B23K 26/00 ); MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS; MEDIOS PARA IMPEDIR LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL (tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F ); PROCESOS EN MULTIPLES ETAPAS PARA EL TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE MATERIALES METALICOS UTILIZANDO AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO POR LA CLASE C23 Y AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO BIEN POR LA SUBCLASE C21D   BIEN POR LA SUBCLASE C22F O POR LA CLASE C25. › C23F 1/00 Decapado de materiales metálicos por medios químicos. › Grabado local.
  • G03F7/00 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

Clasificación PCT:

  • C23F1/02 C23F 1/00 […] › Grabado local.
  • G03F7/00 G03F […] › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
PROCEDIMIENTO DE GRABADO FOTOGRAFICO.

Patentes similares o relacionadas:

Imagen de 'Procedimiento y dispositivo para producir un objeto multicelular…'Procedimiento y dispositivo para producir un objeto multicelular tridimensional, del 29 de Julio de 2020, de TECHNISCHE UNIVERSITAT BERLIN: Procedimiento para producir un objeto multicelular tridimensional, con los pasos siguientes: a) introducción de un primer líquido fotopolimerizable […]

Aparato para marcar substratos discretos con un sello flexible discreto, del 11 de Septiembre de 2019, de Morphotonics Holding B.V: Un aparato para el marcado sobre un substrato discreto con un sello flexible discreto que comprende a) al menos un primer sello flexible rectangular que tiene […]

Proceso de moldeo por microtransferencia y sustrato modelado obtenible a partir del mismo, del 11 de Septiembre de 2019, de Université d'Aix-Marseille: Proceso que comprende las siguientes etapas sucesivas: (a) impregnar un molde blando provisto de al menos una cavidad con una capa de sol-gel recubierta sobre […]

Imagen de 'CREACIÓN DE LENTES REGRABABLES'CREACIÓN DE LENTES REGRABABLES, del 29 de Agosto de 2019, de INDIZEN OPTICAL TECHNOLOGIES OF AMERICA, LLC: Se describen procedimientos para la configuración de lentes. Un procedimiento incluye el borrado de una lente calentando la lente a una temperatura de borrado definida y grabando […]

Método para mejorar el rendimiento de impresión en placas de impresión flexográfica, del 21 de Agosto de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método de adaptación de la forma de una pluralidad de puntos de impresión en relieve creados en una preforma de impresión fotosensible durante un proceso de producción de […]

Formulación de fotopolímero para la producción de medios holográficos con polímeros de matriz altamente reticulados, del 24 de Junio de 2019, de Covestro Deutschland AG: Formulación de fotopolímero que comprende un componente de poliol, un componente de poliisocianato, un monómero de escritura y un fotoiniciador que contiene un coiniciador […]

Composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve y una placa original de impresión en relieve obtenida a partir de la misma, del 12 de Junio de 2019, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve que contiene como ingredientes esenciales poliamida soluble en agua o […]

Laca de estampado y procedimiento de estampado, del 5 de Junio de 2019, de Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH: Laca de estampado basada en una composición prepolimérica polimerizable UV que contiene por lo menos un monómero de acrilato, caracterizada […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .