DERIVADOS DE 2-(2-HIDDROXIFENIL)-2H-BENZOTRIAZOLES , SUSTITUIDOS EN POSICION 5 POR ARILO Y EN POSICION 5 POR HETEROARILO, COMO ABSORBENTES UV.
Un compuesto de la fórmula I o II **(Fórmula)** en las que R es un grupo heterocíclico que es el 2-piridilo,
3-piridilo, 4-piridilo, 2-tienilo, 3-tienilo, 2-furilo, 3-furilo, 235 pirrolilo, 3-pirrolilo, 3-tianaftenilo, 8-quinolilo, 5-indolilo, 2-selenofenilo o dichos grupos piridilo, tienilo, furilo, pirrolilo, tianaftenilo, quinolilo, indolilo o selenofenilo sustituidos de una a cinco veces por restos elegidos entre el conjunto formado por restos alquilo de 1 a 18 átomos de carbono de cadena lineal o ramificada, fenilalquilo de 7 a 15 átomos de carbono, R3S-, R R3SO-, R3SO2, arilo de 6 a 10 átomos de carbono, perfluoralquilo de 1 a 12 átomos de carbono, halógeno, nitro, ciano, carboxilo, triisopropilsililo, formilo, acetilo, alcoxicarbonilo de 2 a 19 átomos de carbono, hidroxilo, alcoxi de 1 a 18 átomos de carbono, ariloxi de 6 a 10 átomos de carbono, sulfato o fosfato, o en la que dos sustituyentes cualesquiera forman un anillo benzo junto con el resto heteroarilo al que están unidos y T es tieno-2, 5-diilo; o bien R es un grupo arilo que es el fenilo, naftilo, bifenililo, 9-fenantrilo o dicho grupo fenilo, naftilo, bifenililo, 9fenantrilo sustituido de una a tres veces por restos alquilo de 1 a 18 átomos de carbono; fenilalquilo de 7 a 15 átomos de carbono, R3S-R3SO-R3SO2, arilo de 6 a 10 átomos de carbono, perfluoralquilo de 1 a 12 átomos de carbono, halógeno, nitro, ciano, carboxilo, alcoxicarbonilo de 2 a 19 átomos de carbono, hidroxilo, alcoxi de 1 a 18 átomos de carbono, ariloxi de 6 a 10 átomos de carbono, aralcoxi de 7 a 15 átomos de carbono, vinilo, acetilo, acetamido, amino, dialquilamino de 2 a 12 átomos de carbono, formilo, tioalcoxi de 1 a 18 átomos de carbono, hidroximetilo, aminometilo, halometilo, sulfato, fosfato, o en la que dos sustituyentes cualesquiera forman un anillo benzo junto con el resto arilo ss al que están unidos y T es un enlace directo, 1, 4-fenileno o dicho fenileno sustituido una o dos veces por un grupo alquilo de 1 a 12 átomos de carbono; R3 es alquilo de 1 a 18 átomos de carbono, fenilalquilo de 7 a 15 átomos de carbono o arilo de 6 a 10 átomos de carbono; E1 es hidrógeno, alquilo de 1 a 24 átomos de carbono de cadena lineal o ramificada, fenilalquilo de 7 a 15 átomos de carbono, fenilo, o dicho fenilo o dicho fenilalquilo sustituido sobre el anillo fenilo de 1 a 4 veces por alquilo de 1 a 65 4 átomos de carbono, E2 es alquilo de 1 a 24 átomos de carbono de cadena lineal o ramificada, alquenilo de 2 a 18 átomos de carbono de cadena lineal o ramificada, cicloalquilo de 5 a 12 átomos de carbono, fenilalquilo de 7 a 15 átomos de carbono, fenilo.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: KLYBECKSTRASSE 141,4057 BASEL.
Inventor/es: DEBELLIS, ANTHONY DAVID, WOOD, MERVIN, GALE, SUHADOLNIK, JOSEPH, RAVICHANDRAN, RAMANATHAN, PASTOR, STEPHEN DANIEL, DETLEFSEN,ROBERT EDWARD, JUDD, DEBORAH, NAUGHTON, ANDREW, B.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 20 de Noviembre de 2001.
Fecha Concesión Europea: 15 de Diciembre de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C07D249/20 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 249/00 Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de cinco miembros que tienen tres átomos de nitrógeno como únicos heteroátomos del ciclo. › con radicales arilo unidos directamente en posición 2.
- C07D401/04 C07D […] › C07D 401/00 Compuestos heterocíclicos que contienen dos o más heterociclos, que tienen átomos de nitrógeno como únicos heteroátomos del ciclo, siendo al menos un ciclo de seis miembros con solamente un átomo de nitrógeno. › directamente unidos por un enlace entre dos miembros cíclicos.
- C07D403/04 C07D […] › C07D 403/00 Compuestos heterocíclicos que contienen dos o más heterociclos, que tienen átomos de nitrógeno como únicos heteroátomos del ciclo, no previstos por el grupo C07D 401/00. › unidos directamente por un enlace entre dos miembros cíclicos.
- C07D405/04 C07D […] › C07D 405/00 Compuestos heterocíclicos que contienen a la vez uno o más heterociclos que tienen átomos de oxígeno como únicos heteroátomos del ciclo y uno o más heterociclos que tienen átomos de nitrógeno como único heteroátomo del ciclo. › unidos directamente por un enlace entre dos miembros cíclicos.
- C07D409/04 C07D […] › C07D 409/00 Compuestos heterocíclicos que contienen dos o más heterociclos, teniendo al menos un ciclo átomos de azufre como únicos heteroátomos del ciclo. › unidos directamente por un enlace entre dos miembros cíclicos.
- C07D409/14 C07D 409/00 […] › que contienen tres o más heterociclos.
- C08K5/3475 C […] › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08K UTILIZACION DE SUSTANCIAS INORGANICAS U ORGANICAS NO MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE LA COMPOSICION (colorantes, pinturas, pulimentos, resinas naturales, adhesivos C09). › C08K 5/00 Utilización de ingredientes orgánicos. › condensados con carbociclos.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Zambia, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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