MICROREACTORES QUIMICOS Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.

LOS MICROREACTORES QUIMICOS CONOCIDOS PARA LA SINTESIS QUIMICA Y LOS PROCEDIMIENTOS PARA SU PRODUCCION TIENEN INCONVENIENTES,

TALES COMO ELEVADOS COSTES DE PRODUCCION O ESCASA FLEXIBILIDAD EN CUANTO A LA ADAPTACION A DIFERENTES APLICACIONES. LA INVENCION SE REFIERE A MICROREACTORES Y A PROCEDIMIENTOS DE PRODUCCION QUE NO TIENEN ESTOS INCONVENIENTES. ESTOS MICROREACTORES SE CARACTERIZAN PORQUE LOS REACTORES COMPRENDEN CANALES DE FLUIDO EN AL MENOS UN NIVEL, ASI COMO ENTRADAS Y SALIDAS DE FLUIDO. DICHOS CANALES DE FLUIDO ESTAN DELIMITADOS POR PAREDES LATERALES OPUESTAS REALIZADAS DE METAL Y POR PAREDES LATERALES ADICIONALES REALIZADAS DE METAL O PLASTICO, QUE SE EXTIENDEN ENTRE DICHAS PAREDES LATERALES. LOS NIVELES VAN CONECTADOS ENTRE SI Y/O A UN SEGMENTO DE CIERRE QUE OBTURA LOS CANALES ABIERTOS DE FLUIDO POR MEDIO DE CAPAS ADECUADAS, SOLDADAS O ADHESIVAS. LOS PROCEDIMIENTOS DE PRODUCCION SE CARACTERIZAN DE PRODUCCION EN LAS QUE CADA NIVEL DE REACTOR INDIVIDUAL, FABRICADO POR MEDIO DE TECNICAS DE GALVANIZACION, SE CONECTAN ENTRE SI POR SOLDADURA O ADHERENCIA.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: ERASMUSSTRASSE 20,10553 BERLIN.

Inventor/es: MEYER, HEINRICH, BREUER, NORBERT.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 17 de Febrero de 1998.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

Países PCT: Bélgica, Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Irlanda, Finlandia, Oficina Europea de Patentes.

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