COMPOSICION SENSIBLE A LAS RADIACIONES IR Y UV.
SE PRESENTA UNA COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION INFRARROJA Y ULTRAVIOLETA QUE COMPRENDE UNA RESINA DE DIAZO,
UN ESTER DE DIAZO, AL MENOS UNA RESINA DE NOVOLAC Y UN ABSORBENTE DE LOS RAYOS INFRARROJOS. TAMBIEN SE PRESENTA UNA PLANCHA LITOGRAFICA QUE COMPRENDE UN SOPORTE REVESTIDO CON LA COMPOSICION FOTOSENSIBLE.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: LASTRA S.P.A.
Nacionalidad solicitante: Italia.
Dirección: VIA BRESCIA, 36,I-25025 MANERBIO.
Inventor/es: BOLLI, ANGELO, PEVERI, PAOLO, TETTAMANTI, ANDREA.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 7 de Abril de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B41C1/10 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › B41C 1/00 Preparación de la forma o del cliché. › para la impresión litográfica; Hojas matriz para la transferencia de una imagen litográfica a la forma (B41C 1/055 tiene prioridad; neutralización o tratamientos similares de diferenciación de formas de impresión litográfica B41N 3/08).
- B41M5/36 B41 […] › B41M PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO O COPIADO; IMPRESION EN COLOR (corrección de errores tipográficos B41J; procedimientos para aplicar imágenes transferencia o similares B44C 1/16; productos fluidos para corregir errores tipográficos C09D 10/00; impresión de textiles D06P). › B41M 5/00 Procesos de reproducción o de marcado; Materiales en hojas utilizadas con este fin (por empleo de materias fotosensibles G03; electrografía, magnetografía G03G). › utilizando una película polimérica que puede ser de partículas y que está sometida a una modificación de forma o de estructura con modificación de sus características, p. ej. de sus características de hidrofobia o hidrofilia, de sus características de solubilidad o de permeabilidad.
- G03F7/022 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Quinonadiazidas (G03F 7/075 tiene prioridad).
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