COMPOSICNES FOTORRESISTENTES DE ALTA RESOLUCION.
ESTA INVENCION ESTA DIRIGIDA A NUEVOS PROCEDIMENTOS Y COMPOSICIONES FOTORRESISTENTES QUE TIENEN RESINAS ALCALI-SOLUBLES DE ALTA RESOLUCION,
COMPONENTES FOTOACTIVOS DE ALTA RESOLUCION CON VARIOS GRUPOS DE DIAZOQUINONA POR MOLECULA, Y DISOLVENTES QUE TIENEN UN ALTO PODER DE DISOLUCION, MEJOR SEGURIDAD, FOTOVELOCIDAD MEJORADA, CONTRASTE MAS ALTO Y GROSOR DE PELICULA FUNDIDA EQUIVALENTE A PARTIR DE FORMULACIONES DE SOLIDOS DE PORCENTAJE INFERIOR.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: SHIPLEY COMPANY INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 500 NICKERSON ROAD,MARLBOROUGH, MA 01752.
Inventor/es: DANIELS, BRIAN KENNETH, MADOUX, DAVID CHARLES, TEMPLETON, MICHAEL KARPOVICH, TREFONAS III, PETER, WOODBREY, JAMES CALVIN, ZAMPANI, ANTHONY.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 2 de Julio de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
- G03F7/022 G03F 7/00 […] › Quinonadiazidas (G03F 7/075 tiene prioridad).
Patentes similares o relacionadas:
MEZCLA DE SUSTANCIAS ENDURECIBLES TERMICAMENTE Y CON RADIACION ACTINICA, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION Y UTILIZACION DE DICHA MEZCLA., del 1 de Marzo de 2007, de SMS DEMAG AKTIENGESELLSCHAFT: Dispositivo para flexionar los cilindros en una caja de laminación de varios cilindros, con bloques de flexión (5, 5a; 5, 5a) fijados por el lado de entrada y de salida entre […]
COMPOSICION SENSIBLE A LAS RADIACIONES IR Y UV., del 16 de Octubre de 2004, de LASTRA S.P.A.: SE PRESENTA UNA COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION INFRARROJA Y ULTRAVIOLETA QUE COMPRENDE UNA RESINA DE DIAZO, UN ESTER DE DIAZO, AL MENOS UNA RESINA DE […]
COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES DE ACIDEZ CONTROLADA PARA IMPRESION OFFSET., del 16 de Octubre de 2002, de PLURIMETAL S.R.L.: SE PROPORCIONA UNA DESCRIPCION DE COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES QUE COMPRENDEN DEL 20 AL 90% DE UNA RESINA DE DIAZO CON UN INDICE DE ESTERIFICACION […]
MATERIAL DE REGISTRO SENSIBLE A LA RADIACION PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICA., del , de AGFA-GEVAERT AG: SE PRESENTA UN MATERIAL DE GRABACION SENSIBLE A LA RADIACION, PARA EL TRABAJO EN POSITIVO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICAS, QUE COMPRENDE UN SOPORTE […]
MATERIALES SENSIBLES A LA RADIACION., del 1 de Noviembre de 1997, de DU PONT (UK) LIMITED: SE PRESENTA UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE PARTICULAS QUE INCLUYEN UN NUCLEO INSOLUBLE EN AGUA Y DEFORMABLE POR LA ACCION DEL CALOR RODEADO POR UNA […]
PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE ESTERES DEL ACIDO 1,2 - NAFTOQUINONA (2) - DIAZIDA - 4- SULFONICO Y APLICACION DE LOS ESTERES EN MEZCLAS SENSIBLES A LA RADIACION., del 16 de Diciembre de 1994, de HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT: EL INVENTO SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR ESTERES DEL ACIDO 1, 2 - NAFTOQUINONA - DIAZIDA - 4 - SULFONICO DE FORMULA (I) QUE SE SUSTITUYEN EN […]
Composición resistente a soldadura líquida y placa de circuito impreso, del 8 de Abril de 2020, de GOO CHEMICAL CO., LTD.: Una composición resistente a soldadura líquida que comprende: una resina que contiene grupo un carboxilo (A); un componente termoendurecible […]
Método para elaborar placas de impresión de imágenes en relieve, del 25 de Marzo de 2020, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para exponer selectivamente un blanco de impresión de fotopolímero líquido a radiación actínica para crear una placa de impresión […]