COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES DE ACIDEZ CONTROLADA PARA IMPRESION OFFSET.
SE PROPORCIONA UNA DESCRIPCION DE COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES QUE COMPRENDEN DEL 20 AL 90% DE UNA RESINA DE DIAZO CON UN INDICE DE ESTERIFICACION DE ENTRE EL 15 Y EL 40% Y UN CONTENIDO DE NITROGENO DE ENTRE EL 2 Y EL 3%,
DEL 0 AL 60% DE UNA RESINA DE NOVOLACA SOLUBLE ALCALI, ASI COMO OTROS COMPONENTES CONVENCIONALES, CARACTERIZADOS EN QUE TIENEN UN VALOR DE ACIDEZ, EXPRESADO COMO FUERZA ELECTROMOTRIZ Y MEDIDOS CON UN ELECTRODO ESPECIFICO PARA DISOLVENTES NO ACUOSOS, DE ENTRE 100 Y 400 MILIVOLTIOS.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: PLURIMETAL S.R.L.
Nacionalidad solicitante: Italia.
Dirección: VIA SALIERI, 4,I-37050 VALLESE DI OPPEANO (VE.
Inventor/es: RINALDI, RINALDO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 13 de Marzo de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/022 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Quinonadiazidas (G03F 7/075 tiene prioridad).
- G03F7/023 G03F 7/00 […] › Quinonadiazidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
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