PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA REGENERACION ELECTRODIALITICA DE UN BAÑO DE DEPOSICION METALICA SIN CORRIENTE.
Método para el regenerado electrodialítico de un baño de deposición de metales sin corriente,
que contiene iones de hipofosfito como medio reductor, donde el líquido del baño es conducido a través de unas cámaras o compartimentos de producto diluido (Di1a, Di1b,...Di1x) en un primer dispositivo de electrodiálisis (E1) que presenta cátodos (Ka) y ánodos (An), que están separados de los compartimentos de producto concentrado (ko1a, ko1b,.. ko1x) en el dispositivo de electrodiálisis (E1) en el lado del cátodo por unas membranas de intercambio de cationes monoselectivas (KS) y por el lado del ánodo por unas membranas de intercambio de aniones (A), de manera que los compartimentos de producto diluido (Di1a, Di1b,...Di1x) y los de producto concentrado (ko1a, ko1b,.. ko1x) se disponen alternadamente,que se que caracteriza por, que el líquido del baño es conducido simultáneamente a través de los compartimentos de producto diluido (Di2a, Di2b,...Di2x) a un segundo dispositivo de electrodiálisis (E2), que tiene cátodos (Ka) y ánodos (An, An2), que están separados de los compartimentos de producto concentrado (ko2a, ko2b,...ko2x) en el segundo dispositivo de electrodiálisis (E2) en el lado del cátodo por membranas monoselectivas de intercambio de aniones (AS) y por el lado del ánodo por membranas monoselectivas de intercambio de aniones (A), estando los compartimentos de producto diluido (Di2a, Di2b,...Di2x) y de producto concentrado (ko2a, ko2b,..ko2x) en el segundo dispositivo de electrodiálisis (E2) dispuestos de forma alternada.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: ERASMUSSTRASSE 20,10553 BERLIN.
Inventor/es: HEYDECKE, JENS, WINSCHE, MAJA, KRAFT, ALEXANDER, BLASCHKE, MANFRED, BORN, RAINER, RICHTERING, WERNER.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 27 de Septiembre de 1999.
Fecha Concesión Europea: 10 de Abril de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B01D61/44 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL. › B01D SEPARACION (separación de sólidos por vía húmeda B03B, B03D, mesas o cribas neumáticas B03B, por vía seca B07; separación magnética o electrostática de materiales sólidos a partir de materiales sólidos o de fluidos, separación mediante campos eléctricos de alta tensión B03C; aparatos centrifugadores B04B; aparato de vórtice B04C; prensas en sí para exprimir los líquidos de las sustancias que los contienen B30B 9/02). › B01D 61/00 Procedimiento de separación que utilizan membranas semipermeables, p. ej. diálisis, ósmosis o ultrafiltración; Aparatos, accesorios u operaciones auxiliares, especialmente adaptados para ello (separación de gases o vapores por difusión B01D 53/22). › Electrodiálisis con selectividad iónica.
- C23C18/16 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 18/00 Revestimiento químico por descomposición ya sea de compuestos líquidos, o bien de soluciones de los compuestos que constituyen el revestimiento, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento; Deposición por contacto. › por reducción o por sustitución, p. ej. deposición sin corriente eléctrica (C23C 18/54 tiene prioridad).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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