COMPUESTOS FOTOACTIVOS POSITIVOS BASADOS EN GRUPOS 2,6-DINITROBENCILO.
SE SINTETIZAN COMPUESTOS FOTORREACTIVOS POSITIVOS, A PARTIR DE GRUPOS 2,
5- O 2,6-DINITROBENCILO. ASIMISMO, SE DESCRIBEN METODOS DE SINTESIS DE MONOMEROS REACTIVOS, QUE CONTIENEN GRUPOS 2,5- O 2,6-DINITROBENCILO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: PPG INDUSTRIES OHIO, INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 3800 WEST 143RD STREET,CLEVELAND, OH 44111.
Inventor/es: MCCOLLUM, GREGORY, J., RARDON, DANIEL, E., KOLLAH, RAPHAEL, O., MCMURDIE, NEIL, D., KAHLE, CHARLES, F., II.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 29 de Junio de 1995.
Fecha Concesión Europea: 18 de Agosto de 1999.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C07C205/11 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 205/00 Compuestos que contienen grupos nitro unidos a una estructura carbonada. › con grupos nitro unidos a átomos de carbono de ciclos aromáticos de seis miembros.
- C07C205/19 C07C 205/00 […] › con grupos nitro unidos a átomos de carbono de ciclos aromáticos de seis miembros y grupos hidroxi unidos a átomos de carbono acíclicos.
- C07C205/26 C07C 205/00 […] › y estando sustituido por átomos de halógeno.
- G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Portugal, Irlanda, Oficina Europea de Patentes.
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