EMPLEO DE SALES DE TIOUREA COMO AGENTE DE ABRILLANTAMIENTO PARA BAÑOS DE NIQUEL GALVANICOS ACUOSO-ACIDOS.
ELABORACION DE PARTES MOLDEADAS NIQUELADAS MEDIANTE PRECIPITACION GALVANICA DE NIQUEL A PARTIR DE BAÑOS ACIDOS ACUOSOS,
QUE CONTIENEN COMO COMPONENTE ESENCIAL UNA O MULTIPLES SALES DE NIQUEL, UNO O MULTIPLES ACIDOS INORGANICOS Y UNO O MULTIPLES ABRILLANTADORES, DONDE COMO MEDIO ABRILLANTADOR SE DISPONEN DE SALES DE TIOUREA DE LA FORMULA GENERAL (I), EN DONDE R{SUB.1} HASTA R{SUB.4} SON HIDROGENO, C{SUB.1} HASTA C{SUB.18} ALQUIL, QUE PUEDE SER SUSTITUIDO POR GRUPOS CARBOXIL, GRUPOS C{SUB.1} - HASTA C{SUB.4} - ALCOXICARBONIL O GRUPOS CIANO, C{SUB.2} HASTA C{SUB.12} ALQUENIL, C{SUB.2} HASTA C{SUB.12} ALQUINIL, C{SUB.5} - HASTA C{SUB.8} - CICLOALQUIL, C{SUB.7} C{SUB.12} - FENILALQUIL O FENIL, QUE PUEDE SER SUSTITUIDO POR UNO O POR DOS RESTOS C{SUB.1} - HASTA C{SUB.4} - ALQUIL, RESTOS C{SUB.1} - HASTA C{SUB.4} - ALCOXI, ATOMOS DE HALOGENO, GRUPOS HIDROXIL, RESTO FENIL O GRUPOS C{SUB.1} - HASTA C{SUB.4} ALCOXICARBONIL; Y ES UN ENLACE QUIMICO O ALQUILENO LINEAL O RAMIFICADO, ALQUENILENO O ALQUINILENO CON HASTA 12 ATOMOS DE C; A ES HIDROGENO O UNA AGRUPACION DE LA FORMULA: - CO - H, - CO R{SUP.5}, - CO - OH, - CO - OR{SUP.5}, - CO - NR{SUP.6}R{SUP.7}, - CO - CH{SUB.2} - CO - OR{SUP.5}, - O - CO - H -, - O - CO R{SUP.5}, - NR{SUP.6} - CO - R{SUP.5}, - NR{SUP.6} - CO R{SUP.5}, - OR{SUP.5}, SO{SUB.2} - R{SUP.5}, - SO{SUB.2} SO{SUB.2 - OH, - SO{SUB.2} OR{SUP.5}, - PO(OH){SUB.2}, PO(OH)(OR{SUP.5}), - PO(OR{SUP.5}){SUB.2} , - OPO(OH){SUB.2}, OPO(OH)(OR{SUP.5}) O - OPO(OR{SUP.5}){SUB.2} , DONDE R{SUP.5} SIGNIFICA C{SUB.1 - HASTA C{SUB.12} - ALQUIL, C{SUB.2} - HASTA C{SUB.12} - ALQUENIL, C{SUB.2 - HASTA C{SUB.12} - ALQUINIL. C{SUB.5} - HASTA C{SUB.6} CICLOALQUIL, C{SUB.7} - HASTA C{SUB.12} - FENILALQUIL O FENIL, QUE PUEDE SER SUSTITUIDO POR UNO O DOS RESTOS C{SUB.1} - HASTA C{SUB.4} ALQUIL, ATOMO DE HALOGENO, GRUPOS HIDROXIL, RESTO FENIL O GRUPOS C{SUB.1} - HASTA C{SUB.4} ALCOXICARBONIL Y R{SUP.6} Y R{SUP.7} SIGNIFICAN HIDROGENO, O C{SUB.1} - HASTA C{SUB.4} - ALQUIL; N ES UNA CIFRA DESDE 1 HASTA 4 Y X ES UN ANION ORGANICO O INORGANICO N VALENTE, QUE LLEVA CONSIGO LA SOLUBILIDAD EN AGUA.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: BASF AKTIENGESELLSCHAFT.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: CARL-BOSCH-STRASSE 38,D-67063 LUDWIGSHAFEN.
Inventor/es: OFTRING, ALFRED, BURKHART, BERND, SCHWENDEMANN, VOLKER, SCHROEDER, ULRICH, GLASER, KLAUS.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 2 de Diciembre de 1993.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C07C335/32 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 335/00 Tioureas, es decir, compuestos que contienen uno de los grupos en que los átomos de nitrógeno no forman parte de grupos nitro o nitroso. › que tienen átomos de azufre de grupos isotiourea unidos a átomos de carbono acíclicos.
- C25D3/12 C […] › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de níquel o cobalto.
Países PCT: Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Oficina Europea de Patentes, Canadá, Japón, Estados Unidos de América.
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