COMPOSICION ANTIESTATICA DE UN FOSFAZENO CICLICO Y UNA SAL.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION ANTIESTATICA QUE COMPRENDE UN LIGANTE,
UN FOSFOCENO CICLICO, Y UNA SAL QUE COMPONE EL FOSFACENO CICLICO. EL FOSFACENO CICLICO TIENE LA FORMULA GENERAL (I) EN LA QUE X ES 3 O 4. R SUB 1 Y R SUB 5 CADA UNO INDEPENDIENTEMENTE REPRESENTA LA FORMULA -(R SUB 2-O) SUB N R SUB 3 EN LA QUE N ESTA COMPRENDIDO ENTRE 0 Y 50. R SUB 2 ES ALQUILO DE 2 A 4 ATOMOS DE CARBONO, QUE TIENE DE 2 A 4 ATOMOS DE CARBONO EN LA CADENA LINEAL ENTRE LOS ATOMOS DE OXIGENO, Y R SUB 3 ES ALQUILO, ALQUENILO, ALQUINILO, HALOALQUILO, HALOALQUENILO, HALOALQUINILO, FENILO, AROMATICO SUSTITUIDO, AMINA, O TIO DE 1 A 18 ATOMOS DE CARBONO, W Y X CADA UNO INDEPENDIENTEMENTE REPRESENTA (11) DONDE R SUB 6, R SUB 7 Y R SUB 8 CADA UNO INDEPENDIENTEMENTE REPRESENTA H, ALQUILO, ALQUENILO, ALQUINILO, HALOALQUILO, HALOALQUENILO, HALOALQUINILO, FENILO, AROMATICO SUSTITUIDO, AMINA, O TIO DE 1 A 18 ATOMOS DE CARBONO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: EASTMAN KODAK COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 343 STATE STREET,ROCHESTER, NEW YORK 14650-2201.
Inventor/es: CHEN, JANGLIN, FERRAR, WAYNE THOMAS, GRASHOF, HANS, MARSHALL, AKEMI SAJI.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 29 de Enero de 1990.
Fecha Concesión Europea: 26 de Agosto de 1992.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C08G79/02 QUIMICA; METALURGIA. › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08G COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES DISTINTAS A AQUELLAS EN LAS QUE INTERVIENEN SOLAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para sintetizar un compuesto dado o una composición dada o para la separación de isómeros ópticos a partir de una mezcla racémica C12P). › C08G 79/00 Compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman un enlace que contiene átomos distintos al silicio, azufre, nitrógeno, oxígeno y carbono con o sin los últimos elementos en la cadena principal de la macromolécula. › creando un enlace que contiene fósforo.
- G03C1/85 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 1/00 Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles para procesos multicolores G03C 7/00; para procesos de difusión por transferencia G03C 8/00). › caracterizados por aditivos o revestimientos antiestáticos.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Oficina Europea de Patentes, Japón.
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