MATERIAL BASICO SEMICONDUCTOR.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: WITTELSBACHER PLATZ, 2 MUNCHEN 8000.
Inventor/es: SCHULTE, ROLF, KAMMERMAIER, JOHANN, DR.
Fecha de Solicitud: 3 de Agosto de 1988.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 4 de Mayo de 1989.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C01B31/02
- C23C14/50 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento. › Portasustrato.
- H01L21/205 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › utilizando la reducción o la descomposición de un compuesto gaseoso dando un condensado sólido, es decir, un depósito químico.
- H01L29/04 H01L […] › H01L 29/00 Dispositivos semiconductores adaptados a la rectificación, amplificación, generación de oscilaciones o a la conmutación que tienen al menos una barrera de potencial o de superficie; Condensadores o resistencias, que tienen al menos una barrera de potencial o de superficie, p. ej. unión PN, región de empobrecimiento, o región de concentración de portadores de carga; Detalles de cuerpos semiconductores o de sus electrodos (H01L 31/00 - H01L 47/00, H01L 51/05 tienen prioridad; otros detalles de los cuerpos semiconductores o de sus electrodos H01L 23/00; consistentes en una pluralidad de componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común H01L 27/00). › caracterizados por su estructura cristalina, p. ej. policristalina, cúbica o con orientación especial en planos cristalinos (caracterizados por defectos físicos H01L 29/30).
- H01L29/16 H01L 29/00 […] › incluyendo aparte de los materiales de dopado u otras impurezas, solamente elementos del Grupo IV de la tabla periódica en forma no combinada.
Patentes similares o relacionadas:
Portasustratos portador de un sustrato en cada uno de sus dos lados anchos que miran uno hacia fuera de otro, del 16 de Octubre de 2019, de AIXTRON SE: Portasustratos para disponerlo en un reactor CVD o PVD , especialmente para la deposición de nanotubos de carbono y grafeno, con una primera superficie […]
Sistema y método de deposición de vapor, del 4 de Septiembre de 2019, de Quantum Innovations, Inc: Un sistema de deposición , que comprende: una carcasa del sistema que tiene un armazón de la carcasa, unos paneles de la carcasa […]
Conjuntos de metalizador en línea y sistemas de transportador de recubrimiento de piezas que incorporan los mismos, del 24 de Julio de 2019, de Marca Machinery LLC: Un conjunto de metalizador en línea que comprende:
una pluralidad de portapiezas , cada uno adaptado para contener una pluralidad […]
Aparato de procesamiento PVD y método de procesamiento PVD, del 8 de Mayo de 2019, de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.): Un aparato de procesamiento PVD para realizar la formación de revestimiento sobre superficies respectivas de una pluralidad de sustratos (W), […]
Accesorios que comprenden medios magnéticos para sostener piezas de trabajo simétricas rotatorias, del 12 de Marzo de 2019, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Un sistema de accesorio que comprende varias partes, siendo al menos una de las partes una pieza de sujeción para sujetar una pieza de trabajo que […]
Herramientas de alto rendimiento que exhiben desgaste del cráter reducido en particular por las operaciones de maquinado en seco, del 28 de Febrero de 2019, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Sistema de recubrimiento depositado sobre una superficie de un sustrato que comprende al menos una película de varias capas formada de nanocapas […]
Dispositivo de soporte para sustratos, así como procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 27 de Febrero de 2019, de FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.: Dispositivo de soporte para sustratos a revestir que comprende un dispositivo de apoyo para el sustrato a revestir, que presenta una […]
Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos y dispositivo de producción para ello, del 13 de Febrero de 2019, de The Batteries spólka z ograniczona odpowiedzialnoscia: Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos, según el cual - los sustratos se disponen sobre soportes de sustratos , […]