PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE ARTICULOS CON CAPAS PROTECTORAS SENSIBLES A LA RADIACION.
Procedimiento para la fabricación de un articulo que comprende una operación durante la cual el artículo de fabricación comprende una superficie del artículo y una capa de elaboración actínica super yacente,
comprendiendo la capara de elaboración una mezcla de fase compatible que comprende material polímero, cuyo procedimiento comprende las fases de: (1) exponer de una forma selectiva partes de la capa de elaboración a radiación actínica de modelación, por lo que se efectúa una diferencia en la facilidad de remocción o eliminación de partes expuestas con relación a partes sin exponer de la capa de elaboración por un agente revelador (2) revelar por tratamiento de la capa de elaboración con el agente revelador para eliminar material de una forma selectiva, produciendo por lo tanto una capa de elaboración modelada, definiéndose el modelo por regiones de la capa de elaboración dentro de la cual el material se elimina de una forma selectiva y (3) tratar el artículo de fabricación con un agente de alteración que altera preferiblemente regiones de la superficie del artículo correspondientes a las regiones de la capa de elaboración modelada, con relación a regiones de la superficie del artículo correspondientes al resto de la capa de elaboración modelada, caracterizado porque la mezcla de fase compatible comprende un "polímero mátriz" determinativo de las características de las regiones restantes de la capa de elaboración modelada junto con un modificador que responde a radiación actínica para efectuar dicha facilidad relativa de remocción o eliminación por reacción de propagación automática iniciada por la radiación.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: WESTERN ELECTRIC COMPANY INCORPORATED.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 222 BROADWAY, NEW YORK, N.Y. 10038.
Fecha de Solicitud: 22 de Mayo de 1979.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 16 de Enero de 1980.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/039 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
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