PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE ARTICULOS CON CAPAS PROTECTORAS SENSIBLES A LA RADIACION.
Procedimiento de fabricación de artículos con capas protectoras sensibles a la radiación,
que comprende una operación durante la cual el artículo a fabricar incluye una superficie de artículo y una capa de elaboración actínica super yacente, consistiendo esencialmente dicha capa de elaboración en material polimérico, cuyo procedimiento comprende las etapas de (1) exponer selectivamente porciones de dicha capa de elaboración a radiación actínica para definir un modelo , con lo cual se aumenta la facilidad de separación de dichas porciones de la capa de elaboración por un agente de revelado, dependiendo dicha facilidad de separación de la disminución eficaz del peso molecular de dicho material polimérico resultante de la exposición por la citada radiación actínica (2) tratar dicha capa de elaboración con el agente de revelado para separar selectivamente material dentro de dichas porciones para producir una capa de elaboración modelada (3) tratar el artículo a fabricar con un agente de alteración que preferentemente altera regiones de la superficie del artículo correspondientes con las regiones expuestas de la capa de elaboración modelada, caracterizado porque dicho material polimérico consiste en al mensos 80% en peso de un copolímero que puede ser considerado como conteniendo al menos 50% en peso de poliacrilonitrilo alfa-sustituido junto con al menos 5% en peso de diluyente.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: WESTERN ELECTRIC COMPANY INCORPORATED.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 222 BROADWAY, NEW YORK, N.Y. 10038.
Fecha de Solicitud: 22 de Mayo de 1979.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 16 de Enero de 1980.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/039 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
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