METODO Y APARATO PARA EL CONTROL DE PRESION EN EQUIPOS DE PROCESO EN VACIO.

Un método para controlar la presión en una cámara de procesado que ha sido sometida a evacuación (106),

que comprende los pasos de: recuperar de la memoria electrónica un valor deseado de la presión que refleje un nivel de presión deseado para la cámara de procesado (106); recuperar de la memoria electrónica un valor deseado del flujo de gas que represente un caudal de gas deseado a través de la cámara de procesado (106); obtener acceso desde la memoria electrónica (190) a una función matemática que tiene un dominio que comprende las presiones en la cámara de procesado (106) y los caudales de flujo de gas al interior de la cámara de procesado (106), y que abarca un campo que comprende las posiciones de la válvula de estrangulación (124); medir la presión dentro de la cámara de procesado (106); calcular un error de la presión igual a la diferencia entre la presión deseada y la presión medida; y situar en posición la válvula de estrangulación (124) repitiendo para ello los pasos de:
(a) recuperar de la memoria electrónica (190) las ganancias: proporciona, integral y derivada, en que al menos una de dichas ganancias no es igual a cero;
(b) calcular una compensación proporcional de la posición de la válvula, una compensación integral de la posición de la válvula, y una compensación derivada de la posición de la válvula aplicando para ello el error de presión a la ganancia proporcional ala ganancia integral y a la ganancia derivada, respectivamente;
(c) sumar las salidas del paso (b) para proporcionar un valor que representa un caudal de flujo volumétrico;
(d) dividir el valor del caudal de flujo volumétrico por un valor de la presión para obtener un cociente que represente flujo/presión;
(e) aplicar el cociente a la inversa de la función matemática a la que se obtuvo acceso desde la memoria electrónica (190) para proporcionar una nueva posición de la válvula; y
(f) modificar la posición de la válvula para llevarla a la nueva posición de la válvula.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: LAM RESEARCH CORPORATION.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 4650 CUSHING PARKWAY,FREMONT, CA 94538.

Inventor/es: MCMILLAN, BRIAN K., BARNES, MICHAEL, KAVEH, FARRO F.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 3 de Agosto de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G05D16/20 FISICA.G05 CONTROL; REGULACION.G05D SISTEMAS DE CONTROL O DE REGULACION DE VARIABLES NO ELECTRICAS (para la colada continua de metales B22D 11/16; dispositivos obturadores en sí F16K; evaluación de variables no eléctricas, ver las subclases apropiadas de G01; para la regulación de variables eléctricas o magnéticas G05F). › G05D 16/00 Control de la presión de un fluido. › caracterizado por la utilización de medios eléctricos.
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