MATERIAL DE SOPORTE CON BAJO NIVEL DE PICADURAS.

UN MATERIAL DE SOPORTE CON RECUBRIMIENTO DE POLIOLEFINA SE CARACTERIZA,

EN VIRTUD DE SU FABRICACION CON UN CILINDRO DE REFRIGERACION QUE PRESENTA UNA SUPERFICIE ESTRUCTURADA ELECTROLITICAMENTE CON UNA DIFERENCIA ESTANDAR RZ DE 0,050 MI M A 0,120 MI M, POR UN FUERTE BRILLO, UN BAJO INDICE DE IRREGULARIDADES SUPERFICIALES Y UNA ELEVADA VELOCIDAD DE PRODUCCION.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: FELIX SCHOELLER JR FOTO- UND SPEZIALPAPIERE GMBH & CO. KG.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: BURG GRETESCH,49086 OSNABRUCK.

Inventor/es: RAABE, GUNTER, DIPL.-ING.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 20 de Octubre de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B29C47/88
  • G03C1/79 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 1/00 Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles para procesos multicolores G03C 7/00; para procesos de difusión por transferencia G03C 8/00). › Revestimientos macromoleculares o impregnaciones a este efecto, p. ej. esmaltes.

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