6 inventos, patentes y modelos de SANTOS,ANTONIO
Un soporte, y un procedimiento para juntar un primer y segundo sustrato.
(06/09/2017) Un soporte para aguantar un electrodo maestro o un sustrato durante un proceso de ECPR, comprendiendo dicho soporte
una superficie de interacción distal para la disposición del electrodo maestro o del sustrato en la misma, y
un medio de unión para fijar dicho electrodo maestro o dicho sustrato en dicha superficie de interacción , de tal manera que dicho electrodo maestro o dicho sustrato se amolda sustancialmente a la forma de dicha superficie de interacción en una posición de descanso de la superficie de interacción y el electrodo maestro o el sustrato dispuesto en la misma,
en el que dicha superficie de interacción tiene una…
Nivelación de un electrodo maestro y un sustrato en ECPR y un mandril adaptado para el mismo.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(30/08/2017). Solicitante/s: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Clasificación: C25D1/00, C25D17/06, C25D7/12, H01L21/687.
Un mandril para sujetar un sustrato o electrodo maestro en un proceso de replicación electroquímica de patrones (ECPR), contando dicho mandril con un extremo proximal y un extremo distal, y comprendiendo dicho mandril una superficie de interacción para sujetar el sustrato o electrodo maestro situado en un primer plano; unos medios de sujeción para sujetar el sustrato o electrodo maestro a dicha superficie de interacción ; unos dientes niveladores dispuestos de manera lateral y circunferencial con respecto a dicha superficie de interacción, extendiéndose distalmente más allá de la superficie de interacción , con los puntos extremos distales de dichos dientes niveladores definiendo un segundo plano;
en el que dicho segundo plano es paralelo al primer plano y está situado distalmente con respecto al primer plano.
PDF original: ES-2650449_T3.pdf
Dispositivo sistema y procedimiento para su utilización en máquinas para la replicación electroquímica de patrones.
(19/04/2017) Dispositivo para la replicación electroquímica de patrones, ECPR, caracterizado porque comprende: una base ; un mandril inferior en una platina X-Y-Zeta , estando dicho mandril inferior configurado para sostener un electrodo maestro o un sustrato ; y una platina Z con un mandril superior fijado a la misma, estando dicho mandril superior configurado para sostener un electrodo maestro cuando el mandril inferior está configurado para sostener un sustrato , o un sustrato cuando el mandril inferior está configurado para sostener un electrodo maestro ; un sistema de monitorización del desplazamiento para medir el desplazamiento del electrodo maestro con respecto al sustrato , en el que dicho sistema de…
Llenado de una cámara de impresión y mandril correspondiente.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(07/09/2016). Solicitante/s: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Clasificación: C25D1/00, C25D17/06, C25D7/12.
Un mandril para sujetar un sustrato o electrodo maestro en un proceso de ECPR, comprendiendo dicho mandril una superficie de interacción para sujetar un electrodo maestro o un sustrato;
una superficie de amortiguación en circunferencia respecto a la superficie de interacción ;
donde la superficie de interacción y la superficie de amortiguación se extienden sustancialmente en el mismo plano; caracterizado por que el mandril comprende además un grupo de al menos dos boquillas de inyección de electrolito dispuestas en la superficie de amortiguación , con las boquillas de inyección dirigidas hacia arriba y distribuida en un lado de la superficie de interacción , a lo largo de una curvatura adyacente y que obvia la superficie de interacción , donde un ángulo (α) entre una primera boquilla de inyección de dicho grupo a un punto central de la superficie de interacción y al menos una de las boquillas de inyección tiene 270 grados o menos.
PDF original: ES-2606321_T3.pdf
Una hoja de contactos para la disposición entre una pinza de sujeción y un electrodo maestro en un proceso ECPR.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(22/06/2016). Solicitante/s: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Clasificación: C25D17/00, C25D7/12, H01L21/683.
Una lámina de contacto para la disposición entre una pinza de sujeción y un electrodo maestro que realiza el contacto eléctrico con el electrodo maestro en un proceso de ECPR, teniendo la lámina de contacto un primer lado distal y un segundo lado proximal , estando formada dicha lámina de contacto por
una lámina de soporte aislante ;
partes distales de contacto eléctricamente conductoras colocadas en sentido distal desde la lámina de soporte aislante ;
partes proximales de contacto eléctricamente conductoras colocadas de forma proximal desde la lámina de soporte aislante ;
estando conectadas dichas partes proximales y distales de contacto eléctricamente conductoras con un material eléctricamente conductor a través de la lámina de soporte aislante.
PDF original: ES-2592708_T3.pdf
Método para lavar y/o secar una cámara de replicación electroquímica de modelos (ECPR), y mandriles y conjuntos de mandril correspondientes.
Secciones de la CIP Electricidad Química y metalurgia
(08/06/2016). Solicitante/s: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Clasificación: H01L21/00, C25D19/00, C25D5/02, H01L21/288, C25D7/12, H01L21/67, C25D21/08.
Un mandril destinado a asegurar un sustrato o un electrodo maestro durante un proceso de replicación electroquímica de modelos (ECPR), que comprende una superficie de interacción con un electrodo maestro o un sustrato;
medios de aseguramiento para asegurar el sustrato o el electrodo maestro en dicha superficie de interacción ;
una superficie de mandril que rodea circularmente a la superficie de interacción ; y al menos una entrada de secado o lavado y al menos una salida de secado o lavado en dicha superficie de mandril, estando posicionadas dicha al menos una entrada de secado o lavado y dicha al menos una salida de secado o lavado , una en relación con otra, en lados opuestos de la superficie de interacción.
PDF original: ES-2590130_T3.pdf