CIP-2021 : C23C 16/27 : solamente diamante.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).
C23C 16/27 · · · solamente diamante.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Matriz de embutir de diamante.
(26/02/2020). Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC HARDMETAL CORP.. Inventor/es: UEDA, AKIHIKO, Kinoshita,Takuya , SUMIYA,HITOSHI, YUKAWA,MAKOTO, SUEMITSU,BUNYA, SUMIMOTO,SHIGETOSHI, KOBAYASHI,YUTAKA, TATSUMI,NATSUO, NISHIBAYASHI,YOSHIKI.
Una matriz de diamante que comprende un diamante provisto de un agujero para trefilar un material de alambre,
siendo el diamante un diamante monocristalino de CVD , teniendo el diamante una superficie superior y una superficie inferior y extendiéndose el agujero de la matriz desde la superficie superior a la superficie inferior, estando dicho agujero formado perpendicular a la superficie superior y la superficie inferior,
estando un eje del agujero inclinado en relación con una dirección normal de un plano de cristal del diamante ,
caracterizado por que las superficies superior e inferior del diamante son superficies inclinadas con respecto a un plano de 0,1° a 15°.
PDF original: ES-2777627_T3.pdf
Reactor modular para la deposición asistida por plasma de microondas.
(25/09/2019) Reactor modular de deposición asistida por plasma de microondas para la fabricación de diamante de síntesis, comprendiendo dicho reactor:
- un generador de microondas configurado para generar microondas cuya frecuencia está comprendida entre 300 MHz y 3000 MHz, - una cavidad resonante determinada, al menos en parte, por las paredes internas cilíndricas de un recinto del reactor,
- un sistema de llegada de los gases apto para aportar gases en el seno de la cavidad resonante ,
- un módulo de salida de los gases apto para retirar dichos gases de la cavidad resonante ,
- un módulo de acoplamiento…
Aparato de deposición química de vapor asistida por plasma de microondas.
(27/09/2017). Solicitante/s: IIA Technologies Pte. Ltd. Inventor/es: MISRA,DEVI SHANKER.
Un aparato para cultivar diamantes, comprendiendo el aparato:
una o más cámaras , estando cada cámara en conexión fluida con una o más otras cámaras , comprendiendo cada cámara uno o más conjuntos de plataforma de sustrato dentro de la cámara para soportar una plataforma de sustrato ,
en donde el conjunto de plataforma de sustrato comprende una placa , dicha plataforma de sustrato y un reflector periférico ; estando soportados la plataforma de sustrato y el reflector periférico en la parte superior de la placa ,
caracterizado por que
las cámaras están dispuestas en serie con tubos de flujo de gas entre cada cámara, o las cámaras están dispuestas en una red de manera que cada cámara está conectada a una cámara adyacente, para permitir el flujo de gas entre las cámaras.
PDF original: ES-2652129_T3.pdf
Aparato y método de producción de diamantes.
(14/06/2017) Un aparato para producir diamantes y realizar un análisis in situ y en tiempo real, que comprende:
un alojamiento ,
una cámara de reacción , estando la cámara de reacción conectada estructuralmente al alojamiento , comprendiendo la cámara de reacción un área cerrada adaptada para alojar el crecimiento de diamantes,
un medio de radiación , estando el medio de radiación montado por encima de la cámara de reacción dentro del alojamiento , el medio de radiación adaptado para emitir microondas en la cámara de reacción para efectuar el crecimiento de los diamantes dentro de la cámara de reacción ,
un medio de grabación montado por encima de la cámara de reacción ,
una cubierta dieléctrica proporcionada en la parte superior de la cámara de reacción y dispuesta entre el área cerrada…
Sensor de tipo gravimétrico que tiene una capa sensible a base de nanopolvo de diamante.
(27/04/2016). Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES. Inventor/es: SCORSONE,EMMANUEL.
Sensor químico o bioquímico gravimétrico del tipo resonador acústico , que comprende:
- un transductor gravimétrico del tipo resonador acústico ,
- una capa, denominada capa sensible , capaz de adsorber una o varias especies químicas o bioquímicas determinadas, con dicha capa sensible formada en una cara del transductor gravimétrico del tipo resonador acústico;
caracterizado porque la capa sensible comprende un polvo de diamante cuyos granos son de tamaño nanométrico y forman un apilamiento tridimensional.
PDF original: ES-2584938_T3.pdf
Componente de válvula para grifo.
(27/01/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: VAPOR TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: WELTY, RICHARD P., BRONDUM,Klaus, Jonte,Patrick B, Richmond,Douglas S, Thomas,Kurt.
Un componente de válvula para un grifo, que comprende:
un sustrato que comprende un material de base;
una capa de refuerzo proporcionada por encima del sustrato en una cantidad suficiente para mejorar la resistencia a la abrasión del sustrato , y
una capa que comprende diamante amorfo proporcionada por encima de la capa de refuerzo , teniendo el diamante amorfo un enlace sp3 de al menos 40 %, una dureza de al menos 45 GPa y un módulo elástico de al menos 400 GPa,
caracterizado por que la capa de refuerzo comprende tantalio.
PDF original: ES-2562917_T3.pdf
Elemento de detección de haz y detector de haz que lo usa.
(22/12/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.). Inventor/es: YOKOTA,YOSHIHIRO, KOBASHI,KOJI, TACHIBANA,TAKESHI, HAYASHI,KAZUSHI.
Un detector de haz para detectar la posición y la intensidad de haces de radiación de sincrotón , incluyendo: al menos una película de diamante autónoma que ha de ser irradiada con los haces de radiación de sincrotón , que consta de una película de diamante policristalino (C) conteniendo al menos un elemento (X) seleccionado del grupo que consta de silicio (Si), nitrógeno (N), litio (Li), berilio (Be), boro (B), fósforo (P), azufre (S), níquel (Ni), y vanadio (V) en una X/C de 0,1 a 1.000 ppm, donde la película de diamante policristalino tiene una función de emisión de luz consistente en emitir luz (8, 8a) cuando es irradiada con los haces de radiación.
PDF original: ES-2554644_T3.pdf
SISTEMA Y METODO PARA EL TRATAMIENTO DE PARTÍCULAS SÓLIDAS EN UN AMBIENTE DE ESPECIES ACTIVADAS POR PLASMA.
(28/09/2015) Sistema y método para el tratamiento de partículas sólidas en un ambiente de especies activadas por plasma.
La presente invención está dirigida a un sistema para el tratamiento de partículas sólidas en un ambiente de especies activadas por plasma, que comprende una cámara de vacío, un contenedor mallado provisto de una entrada de partículas sólidas, situado en el interior de la cámara de vacío, y un mecanismo percutor situado también en el interior de la cámara de vacío en una posición adecuada para permitir su contacto con el contenedor mallado durante un movimiento de percusión. Se presenta también un método para el tratamiento por plasma de partículas sólidas en un sistema como el descrito…
Aro de fricción de bajo rozamiento con recubrimiento de diamante de bajo coste.
(29/04/2015) Aro de fricción para una junta de aro de fricción, comprendiendo:
- un cuerpo base con una capa de diamante aplicada sobre el cuerpo base la cual está diseñada como capa de fricción,
- en donde la capa de diamante presenta un espesor (D) el cual es menor o igual de 4 μm, especialmente menor o igual de 3 μm, especialmente menor o igual de 2 μm, especialmente preferido aproximadamente 1 μm, caracterizado por que el cuerpo base no presenta ninguna grieta o presenta solo grietas que presentan una extensión longitudinal (L) máxima en una superficie del cuerpo base o en el cuerpo base que es menor o igual de 5 μm.
Anillo deslizante de una disposición mecánica de estanqueidad.
(11/12/2013) Anillo de deslizamiento de un juego mecánico de impermeabilidad, constituido por un cuerpo de base de un material que comprende por lo menos un carburo y un revestimiento de un material a base de diamante, previsto sobre el cuerpo de base y que crea una superficie de deslizamiento, caracterizado por que el cuerpo de base está constituido por un material de dos componentes, por el hecho de que zonas particulares constituidas por un material a base de diamante compatible con material a base de diamante del revestimiento son incorporadas al material que comprende por lo menos un carburo.
Aparato para deposición química de vapor por filamento caliente.
(30/10/2013) Un aparato para realizar la deposición química de vapor por filamento caliente de capas semiconductoras odieléctricas, que comprende
una cámara de tratamiento que tiene una entrada y una salida,
un filamento calentado eléctricamente para la conversión catalítica de moléculas de gas precursor, ysoportes entre los cuales se mantiene el filamento,
en el que la entrada está conectada a una válvula de derivación para desviar un flujo de gas de tratamientolejos de la cámara de tratamiento para permitir cambios rápidos de la composición de gas,
caracterizado porque la entrada está cubierta por un distribuidor de gas hecho de un material poroso paradistribuir de forma uniforme un flujo de gas a lo largo de una longitud.
CAPA GRUESA DE DIAMANTE MONOCRISTALINO, PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION Y GEMAS PRODUCIDAS A PARTIR DE LA CAPA.
(16/05/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: DE BEERS INDUSTRIAL DIAMOND DIVISION (PROPRIETARY) LIMITED. Inventor/es: SCARSBROOK, GEOFFREY ALAN, MARTINEAU, PHILIP MAURICE, DORN, BARBEL SUSANNE CHARLOTTE, COOPER, ANDREW MICHAEL, COLLINS, JOHN LLOYD, WHITEHEAD, ANDREW JOHN, TWITCHEN, DANIEL JAMES.
Una capa de diamante CVD monocristalino de alta calidad que tiene un espesor de al menos 2 mm y que tiene una o más de las siguientes características: 1) una gran distancia de recolección de carga a 300 K de al menos 100 ìm medida a un campo aplicado de 1 V/ìm; 2) un valor elevado para el producto de la movilidad media y duración de portadores ìô tal que supera 1, 0 x 10-6 cm2/V a 300 K; 3) una movilidad de electrones (ìe) medida a 300 K mayor de 2400cm2V-1s-1; 4) una movilidad de huecos (ìh) medida a 300 K mayor de 2100 cm2V-1s-1; y 5) en el estado desactivado, una resistividad a 300 K mayor de 1012 Ùcm a un campo aplicado de 50 V/ìm.
