CIP-2021 : B81C 1/00 : Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).

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Notas[t] desde B81 hasta B82: TECNOLOGIA DE LAS MICROESTRUCTURAS; NANOTECNOLOGIA

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

MICRODOSIMETRO BASADO EN ESTRUCTURAS 3D DE SEMICONDUCTOR, PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN DE DICHO MICRODOSIMETRO Y USO DE DICHO MICRODOSIMETRO.

(06/08/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: GOMEZ RODRIGUEZ,FAUSTINO, LOZANO FANTOBA,MANUEL, PELLEGRINI,GIULIO, GUARDIOLA SALMERÓN,Consuelo, QUIRION,David, FLETA CORRAL,María Celeste.

La invención comprende un microdosímetro formado por celdas que forman una matriz, donde en el interior de cada celda hay un volumen sensible a la radiación, que se fabrica sobre semiconductores mediante procesos tridimensionales que definen los componentes de una unión PN para asegurar que se delimita con precisión de pocas ¿¿¿ un volumen sensible similar al volumen medio del núcleo celular, de aproximadamente igual o menor a 10 ¿m de diámetro, donde el sustrato donde está fabricada la celda es una oblea de semiconductor y la celda tiene un diámetro de entre 5 y 150 ¿m y una profundidad de entre 1 y 300 ¿m.. Además la invención indica procedimientos de fabricación de diferentes configuraciones que pueden presentar estos microdosímetros, y su uso para detección de radiación en diferentes campos incluyendo aplicaciones médicas y aeroespaciales.

MICRO-SONDA NEURONAL Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE LA MISMA.

(25/06/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: GODIGNON, PHILIPPE, GABRIEL BUGUÑA,GEMMA, VILLA,Rosa, PRATS ALFONSO,Elisabet, SANCHEZ VIVES,Maria Victoria.

Procedimiento de fabricación de al menos una micro-sonda neuronal flexible, biocompatible e implantable, que comprender las etapas de: proporcionar una capa de un sustrato rígido ; proporcionar una capa de un polímero soluble sobre dicha capa de sustrato rígido; proporcionar una capa de un primer polímero ; grabar en dicha capa de primer polímero al menos una abertura ; proporcionar una capa de un material conductor bidimensional sobre dicha capa de primer polímero; grabar en dicha capa de material conductor bidimensional al menos un microelectrodo provisto de al menos un área de contacto; proporcionar un ensamblaje de acabado sobre microelectrodo; y disolver dicho polímero soluble en una solución . El microelectrodo resultante queda intercalado entre dos capas de material polimérico , una de las cuales comprende una abertura para acceder a dicha área de contacto.

PROCEDIMIENTO DE TRANSFERENCIA DE NANOCAPAS Y APARATO DE REALIZACIÓN DEL MISMO.

(28/05/2015). Solicitante/s: UNIVERSIDAD POLITECNICA DE MADRID. Inventor/es: BOSCÁ MOJENA,Alberto, PEDROS AYALA,Jorge, MARTÍNEZ RODRIGO,Javier, CALLE GÓMEZ,Fernando, PALACIOS GUTIÉRREZ,Tomás.

Procedimiento de transferencia de nanocapas y aparato de realización del mismo, que se refiere a un procedimiento para la transferencia de una nanocapa desde un soporte inicial a un substrato final , y a un aparato para realizar dicha transferencia. El procedimiento comprende a) introducir dicha nanocapa adherida en su cara inferior a un soporte inicial en un líquido , dicho líquido contenido en un primer recipiente cuya cara interior comprende un recubrimiento hidrófilo y cargado eléctricamente; b) separar la nanocapa del soporte inicial ; y c) retirar el líquido hasta depositar la nanocapa sobre un substrato final . De esta forma se consiguen transferir nanocapas de materiales como el grafeno, el nitruro de boro, el disulfuro de molibdeno u otras capas bidimensionales sin dañarlas, además de permitir la transferencia a substratos finales arbitrarios, flexibles o rígidos.

DETECTOR LIQUIDO-SEMICONDUCTOR DE NEUTRONES.

(16/06/2014) Detector líquido-semiconductor de neutrones. La presente invención se refiere a un detector líquido-semiconductor de neutrones caracterizado porque comprende una estructura híbrida constituida por una fase sólida y una fase líquida, donde la fase sólida comprende un sustrato de un material semiconductor que se caracteriza por presentar una serie de hendiduras a lo largo de la superficie de una de sus caras que constituyen un electrodo del detector, y donde la fase líquida se encuentra embebida en dichas hendiduras y se caracteriza por comprender al menos un compuesto conversor de neutrones que contiene al menos un isótopo capaz de capturar neutrones y producir en su lugar partículas cargadas adecuadas para ionizar el material semiconductor. Asimismo es objeto de la invención el proceso de fabricación de dicho detector…

Dispositivo MEMS para la administración de agentes terapéuticos.

(21/05/2014) Un dispositivo implantable moldeado para encajar en el contorno curvo de un globo ocular y comprendiendo una bomba electrolítica, la bomba comprendiendo: una cámara de fármaco para contener un líquido a administrar; un puerto de inyección configurado para recibir una aguja de inyección , el puerto de inyección estando en comunicación fluida con la cámara de fármaco para facilitar la recarga del dispositivo mientras el dispositivo está implantado. una cánula en comunicación fluida con la cámara, un extremo de la cánula estando formado para facilitar la inserción del mismo en el globo ocular; un primer y segundo electrodo ; y una membrana flexible dispuesta sobre los electrodos , la membrana estando…

DISPOSITIVO DE CULTIVO CELULAR Y MÉTODO ASOCIADO A DICHO DISPOSITIVO.

(16/01/2014) Dispositivo de cultivo celular y método asociado a dicho dispositivo. La presente invención se refiere a un dispositivo encapsulable destinado para su uso en el estudio de cultivos celulares, y compuesto preferentemente de un material plástico donde se localizan diferentes pocillos para el cultivo celular, en el fondo de los cuales se deposita un material gelificado con propiedades mecánicas diferentes en cada pocillo. la invención tiene por objeto, preferentemente, la obtención de sistemas de análisis a gran escala que permitan hacer el estudio de la respuesta de un determinado tipo de células, fármacos, etc. en función de diferentes valores de rigidez del sustrato empleados para cada cultivo.

DISPOSITIVO DE CULTIVO CELULAR Y MÉTODO ASOCIADO A DICHO DISPOSITIVO.

(19/12/2013). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE ZARAGOZA.. Inventor/es: FERNÁNDZ LEDESMA,Luis José, OCHOA GARRIDO,Ignacio.

La presente invención se refiere a un dispositivo encapsulable destinado para su uso en el estudio de cultivos celulares, y compuesto preferentemente de un material plástico donde se localizan diferentes pocillos para el cultivo celular, en el fondo de los cuales se deposita un material gelificado con propiedades mecánicas diferentes en cada pocillo. La invención tiene por objeto, preferentemente, la obtención de sistemas de análisis a gran escala que permitan hacer el estudio de la respuesta de un determinado tipo de células, fármacos, etc. en función de diferentes valores de rigidez del sustrato empleados para cada cultivo.

Transductores ultrasónicos micromecanizados y procedimiento de fabricación.

(18/12/2013) Un procedimiento de fabricación de un transductor ultrasónico microfabricado que comprende las etapas de:utilizar una oblea de silicio en aislante (SOI), comprendiendo dicha oblea de SOI una oblea de soportede silicio, una capa de óxido y una membrana de dicho transductor ultrasónico microfabricado;utilizar una oblea portadora de silicio, estando dispuesta dicha oblea portadora de silicio como unelectrodo inferior de dicho transductor ultrasónico microfabricado; formar una película aislante de grosor predeterminado sobre dicha oblea portadora de silicio,determinando el grosor de dicha película aislante una altura de las cavidades de dicho transductorultrasónico…

Procedimiento para producir capas independientes delgadas de materiales en estado sólido con superficies estructuradas.

(12/08/2013) Procedimiento de impresión que comprende las etapas siguientes: proporcionar un material en estado sólido que presenta por lo menos una superficie expuesta (1a, 1b); aplicar una capa auxiliar (3a, 3b) a la superficie expuesta (1a, 1b) para formar una estructura compuesta; someter la estructura compuesta a unas condiciones que inducen un patrón de esfuerzo en la capa auxiliar (3a, 3b) y en el material en estado sólido , facilitando así la fractura del material en estado sólido a lo largo sustancialmente de un plano a una profundidad en el mismo; y extraer la capa auxiliar (3a, 3b) y, con la misma, una capa del material en estado sólido que termina en la profundidad de fractura, una superficie expuesta de la capa extraída del material en estado sólido que presenta una topología superficial (7a, 7b) que corresponde al patrón de esfuerzo…

MÉTODOS Y SISTEMAS PARA FILTROS DE RADIOFRECUENCIA BASADOS EN CMOS DE MEMS QUE TIENEN CONJUNTOS ORDENADOS DE ELEMENTOS.

(16/05/2013). Solicitante/s: BAOLAB MICROSYSTEMS SL. Inventor/es: MONTANYA SILVESTRE,JOSEP, LLAMAS MOROTE,Marc Antonio.

Se proporcionan sistemas y métodos para fabricar un chip que comprende un filtro de radiofrecuencia basado en MEMS y dispuesto dentro de un circuito integrado. En un aspecto, los sistemas y métodos proporcionan un chip que incluye elementos electrónicos formados sobre un sustrato de material semiconductor. El chip incluye adicíonaimente una pila de capas de interconexión que incluye capas de material conductor separadas por capas de material dieléctrico. Se forma un filtro de radiofrecuencia dentro de la pila de capas de interconexión mediante la aplicación de HF gaseoso a las capas de interconexión. El filtro de radiofrecuencia incluye una pluralidad de elementos resonadores desacopiados mecánicamente.

Método para producir un sello de polímero para la reproducción de dispositivos que comprenden microestructuras y nanoestructuras, y dispositivo correspondiente.

(19/04/2013) Método para producir un sello de polímero para la reproducción de dispositivos que comprenden microestructurasy nanoestructuras, comprendiendo el método las etapas de: proporcionar un primer sustrato ; dar un patrón de nanoestructuras que se extienden a lo largo de una primera dirección en el primermaterial de sustrato ; seguido de dar un patrón de microestructuras sobre el primer sustrato ; moldear un elastómero de polímero sobre el primer sustrato con nanoestructuras y microestructuras para formar un sello de polímero; y liberar el sello de polímero, caracterizado porque la…

Procedimiento y electrodo para definir y reproducir estructuras en materiales conductores.

(12/03/2013) Un procedimiento electroquímico de reproducción de patrones para la producción de micro o nanoestructuras deun material conductor de la electricidad sobre un sustrato , mediante el cual se reproduce un patrón deelectrodeposición, definido por un material aislante de la electricidad que porta un patrón, y dicho procedimientocomprende: el uso de un procedimiento electroquímico para transferir dicho patrón sobre el sustrato , dicho procedimiento electroquímico comprende la disolución de un material en una superficie anódica y ladeposición del material en una superficie catódica, mediantela colocación de un electrodo maestro en estrecho contacto con el sustrato , de manera que el patrón sedefina mediante el uso del electrodo maestro , y dicha disolución y deposición de material se lleva a cabo en celdas de electrodeposición locales…

PROCEDIMIENTO DE RECUBRIMIENTO DE ELECTRODOS DE UN DISPOSITIVO ELECTRÓNICO POR ATRAPAMIENTO MAGNÉTICO, ELECTRODO ASÍ OBTENIDO, DISPOSITIVO QUE INCORPORA DICHO ELECTRODO Y USO DE DICHO DISPOSITIVO.

(04/09/2012) Procedimiento de recubrimiento de electrodos de un dispositivo electrónico por atrapamiento magnético, electrodo así obtenido, dispositivo que incorpora dicho electrodo y uso de dicho dispositivo. Se describe un procedimiento para producir recubrimientos en uno de los electrodos, denominado electrodo de trabajo, de dispositivos electrónicos destinados a la realización de medidas electroquímicas amplificadas, y que una vez realizada la medida el recubrimiento pueda ser desprendido devolviendo el dispositivo electrónico a su estado anterior a la realización de recubrimiento; pudiendo ser reutilizado para realizar otras medidas, usando el…

MÉTODOS Y SISTEMAS PARA DISPOSITIVOS DE CMOS DE MEMS QUE TIENEN CONJUNTOS ORDENADOS DE ELEMENTOS.

(09/08/2012). Ver ilustración. Solicitante/s: BAOLAB MICROSYSTEMS SL. Inventor/es: MONTANYA SILVESTRE,JOSEP.

Se proporcionan sistemas y métodos para fabricar un chip que comprende una pluralidad de dispositivos de MEMS dispuestos dentro de un circuito integrado. En un aspecto, los sistemas y métodos proporcionan un chip que incluye elementos electrónicos formados sobre un sustrato de material semiconductor. El chip incluye, de manera adicional, una pila de capas de interconexión que incluye capas de material conductor separadas por capas de material dieléctrico. Se forman dispositivos de MEMS dentro de la pila de capas de interconexión mediante la aplicación de HF gaseoso a una primera capa de material dieléctrico situada más arriba en la pila de capas de interconexión. La pila de capas de interconexión incluye al menos una capa de material dieléctrico no sometida a ataque químico superficial, y al menos una capa de material conductor para encaminar las conexiones hacia y desde los elementos electrónicos.

MÉTODOS Y SISTEMAS PARA LA FABRICACIÓN DE DISPOSITIVOS DE CMOS DE MEMS EN DISEÑOS DE NODO INFERIOR.

(24/05/2012). Ver ilustración. Solicitante/s: BAOLAB MICROSYSTEMS SL. Inventor/es: MONTANYA SILVESTRE,JOSEP.

Un método para fabricar un circuito integrado que incluye producir capas que forman uno o más elementos eléctricos y/o electrónicos sobre un sustrato de material semiconductor. A continuación, la producción de capas de ILD por encima de las capas que forman uno o más elementos eléctricos y/o electrónicos incluye las etapas de depositar una primera capa de material de barrera ante el ataque químico superficial, depositar una segunda capa de material dieléctrico por encima de la primera capa y en contacto con ella, formar al menos una pista que se extiende a través de las primera y segunda capas, y llenar la al menos una pista con un material no metálico.

PROCEDIMIENTO DE ATAQUE DE UNA CAPA DE SACRIFICIO DE ÓXIDO DE SILICIO.

(01/03/2012) Un procedimiento de liberación, en un proceso de ataque, de una microestructura que comprende una capa de óxido de silicio situada entre una capa de sustrato y una capa que se va a liberar desde la capa de óxido de silicio, comprendiendo el procedimiento: exponer la capa de óxido de silicio a un vapor de fluoruro de hidrógeno en una cámara de proceso; y controlar los parámetros de la cámara incluyendo la presión parcial del vapor de fluoruro de hidrógeno, la presión parcial de agua, la presión de la cámara y la temperatura de la microestructura que se va a atacar; en el que dichos parámetros de la cámara se controlan para garantizar que una capa de líquido condensado que comprende agua y fluoruro de hidrógeno se forme únicamente sobre la capa de óxido de silicio; y en el que dichos parámetros de la cámara se controlan…

SUSTRATO CON UNA CAPA DE ORO (111) Y PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION.

(21/10/2010) Substrato con una capa de oro y procedimiento para su preparación. Un substrato con un punto de fusión comprendido entre 1300ºC y 1600ºC con una capa de micromonocristales de oro , dichos micromonocristales presentan terrazas con una área comprendida entre 1.5-10.0 micras al cuadrado y una rugosidad menor que 1 A. Este substrato se fabrica por un procedimiento de preparación que comprende las etapas de deposición de una capa de oro esputerizado y un tratamiento térmico del oro depositado. Los substratos son útiles como soportes para microscopia, como biosensores y como electrodos

METODO PARA DEFINIR Y FABRICAR MOTIVOS SUPERFICIALES NANOMETRICOS QUIMICO REACTIVOS MEDIANTE LITOGRAFIA BLANDA EN FASE GASEOSA, MOTIVOS Y DISPOSITIVOS ASI OBTENIDOS Y SUS APLICACIONES.

(28/05/2010) Método para definir y fabricar motivos superficiales nanométricos químico reactivos mediante litografía blanda en fase gaseosa, motivos y dispositivos así obtenidos y sus aplicaciones. El método propuesto en esta patente de invención permite definir y fabricar sobre obleas de silicio monocristalino u otro material semiconductor o superficie sólida, un motivo químico reactivo previamente proyectado o una serie de ellos, preferentemente una molécula de silano como el MPTMS y APTMS con un grupo tiol y amino funcional expuesto, respectivamente. Estos soportes funcionalizados a nivel nanométrico pueden ser utilizados para la fabricación de dispositivos microelectrónicos o biotecnológicos como, por ejemplo, un microarray o microchip de DNA o PNA

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE ESTRUCTURAS POLIMERICAS MICROFLUIDICAS.

(16/08/2007). Ver ilustración. Solicitante/s: IKERLAN, CENTRO DE INVESTIGACIONES TECNOLOGICAS, S.COOP. Inventor/es: BLANCO BARRO,FRANCISCO JAVIE, ELIZALDE GARCIA,JORGE, RUANO LOPEZ,JESUS MIGUEL.

La presente invención se refiere a un procedimiento para la fabricación de estructuras microfluídicas de alta resolución mediante la modificación de la temperatura de sellado y de fotolitografía.

PROCEDIMIENTOS PARA MODELAR PELICULAS DE POLIMERO Y USO DE LOS PROCEDIMIENTOS.

(16/03/2007). Ver ilustración. Solicitante/s: THIN FILM ELECTRONICS ASA. Inventor/es: INGANIS, OLLE, NYBERG, TOBIAS, GRANLUND, TOMAS.

Un procedimiento para modelar una película de polímero que forma un revestimiento sobre una superficie de material, en la que el modelado tiene lugar por medio de un sello que tiene una superficie con al menos una hendidura formada en ella, caracterizado por depositar sobre la superficie del material una película fina de polímero, aplicando a la superficie del material el sello hecho de un material elastómero en contacto conforme con la superficie de la película delgada, de manera que las porciones de las misma que están en contacto con uno o más elementos sobresalientes del sello de elastómero formado por al menos una hendidura del mismo se unan al elemento o elemento sobresalientes y se retiran de la superficie del material con el sello.

DISPOSITIVO DE SUJECION PARA UN MOLDE, LA MITAD DE UN MOLDE O UN PORTA-MOLDES EN UNA MAQUINA DE MOLDEO POR INYECCION.

(16/03/2005) Un método para fabricar dispositivos microfluídicos mediante el mordentado de un cuerpo de varias capas hecho de una pluralidad de materiales, que comprende las etapas de: (a) proporcionar una capa de polímero revestida con al menos una capa protectora; (b) estructurar dicha al menos una capa protectora de manera que se cree al menos una oquedad en dicha al menos una capa protectora; (c) estructurar dicha capa de polímero del cuerpo de varias capas resultante mediante mordentado plasmático, fotoablación o una combinación de los mismos, sirviendo dicha al menos una capa protectora como pantalla en este procedimiento de estructuración, en donde la capa de polímero se estructura de tal manera que se forma una microestructura que comprende al menos un microcanal, un depósito, un depósito…

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