CIP-2021 : B81C 1/00 : Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).
CIP-2021 › B › B81 › B81C › B81C 1/00[m] › Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).
Notas[t] desde B81 hasta B82: TECNOLOGIA DE LAS MICROESTRUCTURAS; NANOTECNOLOGIA
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
PROCEDIMIENTO DE TRANSFERENCIA DE MOTIVOS MICRO- Y/O NANO- ESTRUCTURADOS A SUPERFICIES ARBITRARIAS.
(27/07/2020). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: RIUS SUÑÉ,Gemma, MUNTADA LÓPEZ,Olga, PÉREZ-MURANO,Francesc Xavier.
Procedimiento de transferencia de motivos micro- y/o nano- estructurados a superficies arbitrarias.
La presente invención se refiere a un procedimiento de transferencia de motivos micro- y/o nano- estructurados de alta resolución a superficies arbitrarias, a partir de la utilización y la manipulación de una lámina de sacrificio. Además, en el procedimiento de la presente invención, los motivos micro- y/o nano- estructurados de la lámina de sacrificio se transfieren de manera que quedan en contacto directo con la superficie de interés, sin el uso de un material adhesivo como interfaz. Por tanto, la presente invención se puede encuadrar en el área del procesado de superficies.
PDF original: ES-2775649_A1.pdf
PDF original: ES-2775649_B2.pdf
Método para producir microportadores.
(11/03/2020). Solicitante/s: MyCartis NV. Inventor/es: RENAUD, PHILIPPE, DEMIERRE,NICOLAS, TORNAY,RAPHAËL, GAMPER,STEPHAN.
Un método para producir microportadores que comprende las siguientes etapas:
(a) proporcionar una oblea que tiene una estructura de tipo sándwich que comprende una capa inferior , una capa superior y una capa aislante situada entre dichas capas inferior y superior ,
(b) eliminar por grabado la capa superior para delinear las paredes laterales de los cuerpos de los microportadores ,
(c) depositar una primera capa activa al menos en una superficie superior de los cuerpos ,
(d) aplicar una capa polimérica continua sobre la primera capa activa , antes
(e) eliminar por grabado la capa inferior y la capa aislante , luego
(f) retirar la capa polimérica para liberar los microportadores.
PDF original: ES-2787857_T3.pdf
PROCEDIMIENTO DE TRANSFERENCIA DE MOTIVOS MICRO- Y/O NANO- ESTRUCTURADOS A SUPERFICIES ARBITRARIAS.
(30/01/2020). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: RIUS SUÑÉ,Gemma, MUNTADA LÓPEZ,Olga, PÉREZ-MURANO,Francesc Xavier.
La presente invención se refiere a un procedimiento de transferencia de motivos micro- y/o nano- estructurados de alta resolución a superficies arbitrarias, a partir de la utilización y la manipulación de una lámina de sacrificio. Además, en el procedimiento de la presente invención, los motivos micro- y/o nano- estructurados de la lámina de sacrificio se transfieren de manera que quedan en contacto directo con la superficie de interés, sin el uso de un material adhesivo como interfaz. Por tanto, la presente invención se puede encuadrar en el área del procesado de superficies.
Sistemas y métodos microelectromecánicos para encapsular y fabricar los mismos.
(04/12/2019) Un método para fabricar un dispositivo electromecánico que tiene estructuras (20a, 20b, 20c, 20d) mecánicas, un contacto eléctrico y regiones (22a, 22b) de campo, todas superpuestas a un sustrato , en donde las estructuras (20a, 20b, 20c, 20d) mecánicas y el contacto eléctrico están dispuestos entre las regiones (22a, 22b) de campo, en donde las regiones (22a, 22b) de campo están compuestas de silicio, germanio, silicio/germanio, carburo de silicio o arseniuro de galio, y en donde las estructuras (20a, 20b, 20c, 20d) mecánicas residen en una cámara sellada, comprendiendo el método:
proporcionar un sustrato con una primera capa de sacrificio, un contacto eléctrico y estructuras (20a, 20b, 20c, 20d) mecánicas, en donde el contacto eléctrico y las estructuras (20a, 20b, 20c, 20d) mecánicas están dispuestas entre…
Película estampada para formar blíster lleno de fluido, blíster microfluídico, y kit y método para formarla.
(04/12/2019) Una película de elastómero termoplástico estampado (TPE) para fabricar un blíster lleno de líquido, la película tiene lados opuestos primero y segundo, el primer lado define una cavidad del tamaño de un blíster con un área de 0.1 a 20 cm2 en comunicación fluida con un canal microfluídico a través de una región de apantallamiento, siendo la región de apantallamiento sellada entre la cavidad y el canal de microfluidos al menos el canal y la región de apantallamiento se define mediante un patrón de relieve, en el que la cavidad y el canal microfluídico están rodeados por un único borde continuo para unirse a un sustrato de respaldo para sellar alrededor de la cavidad , y la región de apantallamiento…
Ataque con vapor de dióxido de silicio con selectividad mejorada.
(20/11/2019). Solicitante/s: Memsstar Limited. Inventor/es: O\'HARA,Anthony.
Un método de ataque selectivo de dióxido de silicio (SiO2) frente al nitruro de silicio (Si3N4) en una cámara de proceso para producir una o más microestructuras , comprendiendo el método:
proporcionar a la cámara de proceso un vapor de ataque que comprende fluoruro de hidrógeno (HF); y
caracterizado por que
la temperatura operativa de ataque se establece por debajo de 20 °C.
PDF original: ES-2767108_T3.pdf
Dispositivos de cierre de heridas basados en microestructuras.
(24/07/2019). Solicitante/s: University Of Washington Through Its Center For Commercialization. Inventor/es: BERENSON, RONALD, J., ROLANDI,MARCO, RUVOLO,VITTORIO, RUEBEL,CHASE, JIN,JUNGHO.
Un dispositivo de cierre de heridas que comprende una pluralidad de matrices de microestructuras,
comprendiendo cada matriz de microestructuras al menos dos microestructuras, caracterizado por que dichas matrices de microestructuras se separan por un istmo no estirable y están unidas a un refuerzo flexible que también es estirable.
PDF original: ES-2743733_T3.pdf
Matriz para suministro de agente terapéutico y método de fabricación.
(17/07/2019) Un aparato de microestructura que comprende:
un soporte que tiene un a primera superficie y una segunda superficie opuestas al mismo;
una matriz de microestructura que comprende una pluralidad de microestructuras que se extienden hacia afuera desde la primera superficie del soporte;
las microestructuras comprenden una capa distal biodegradable y al menos una capa proximal colocadas entre la capa distal y la primera superficie del soporte;
la capa distal está compuesta por al menos un agente terapéutico y al menos un polímero (i) seleccionado de (a) aproximadamente 50-100% de un polímero hidrófobo y (b) un polímero con una temperatura de transición vítrea igual o superior a aproximadamente 20-25 ºC; o (ii) a una concentración en una solución de moldeo de polímeros utilizada para formar la capa…
Absorbedor solar térmico con estructura de superficie y su procedimiento de producción.
(26/06/2019) Absorbedor solar térmico capaz de funcionar a temperaturas elevadas, es decir temperaturas superiores o iguales a 600 °C, y que comprende una estructura de superficie texturada que comprende:
un sustrato que tiene una superficie plana o curva, constituida por un primer material ópticamente reflectante, estable térmicamente, y que tiene un conjunto de elementos de superficie que definen una superficie de referencia , y
un conjunto de elementos texturales que tienen una misma estructura elemental y distribuidos a lo largo de la superficie de referencia según una disposición bidimensional,
constando la estructura elemental de un elemento textural de una cavidad , formada en el sustrato , que tiene un borde al mismo nivel que la superficie de referencia y un fondo , y
caracterizado por que dicha cavidad se ensancha…
Procedimiento de fabricación de un sensor de presión y sensor correspondiente.
(29/05/2019) Procedimiento de fabricación de un sensor de presión que comprende las etapas siguientes: ensamblar (E1) un sustrato de soporte con una membrana deformable en la que se han depositado unas galgas extensométricas , comprendiendo la membrana deformable una zona adelgazada (20b) en su centro, estando dispuesto el sustrato de soporte por encima de la membrana deformable , comprendiendo el sustrato de soporte una superficie superior , una superficie inferior en contacto con la membrana deformable , comprendiendo además el sustrato de soporte unos rebajes laterales dispuestos por encima y frente a las galgas extensométricas y un rebaje central dispuesto por encima de la zona adelgazada (20b) de la membrana , esto para obtener una estructura micromecánica;…
Selectividad mejorada en un proceso de ataque químico de difluoruro xenón.
(01/05/2019). Solicitante/s: Memsstar Limited. Inventor/es: O\'HARA,Anthony.
Un método de ataque químico de silicio (Si) en una cámara de proceso para producir una o más microestructuras, comprendiendo el método las etapas de:
(a) producir un vapor de material de ataque químico que comprende difluoruro de xenón (XeF2) a partir de una fuente de material de ataque químico;
(b) transportar vapor de material de ataque químico a la cámara de proceso suministrando un gas portador a la fuente de material de ataque químico, transportando a continuación el gas portador el vapor de material de ataque químico a la cámara de proceso; y
(c) introducir un gas secundario que consiste en hidrógeno en la cámara de proceso, en donde el gas secundario reacciona con subproductos de ataque químico de silicio (Si).
PDF original: ES-2732128_T3.pdf
Superficie estructurada con adherencia conmutable de forma escalonada.
(13/02/2019). Ver ilustración. Solicitante/s: LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH. Inventor/es: KRONER,ELMAR, YAGÜE ISLA,PAULA.
Superficie estructurada de un sólido con adherencia conmutable, en la que la superficie presenta una estructuración que comprende una multiplicidad de salientes que presentan al menos cada uno de ellos un fuste , y en la que el fuste posee una cara frontal que mira hacia fuera de la superficie , caracterizada por que
la multiplicidad de salientes comprende al menos dos clases de salientes que se diferencian al menos en la altura vertical de la cara frontal ; y
el material de los salientes presenta un módulo de elasticidad tal que, dependiendo de la carga, una o varias clases de salientes forman en sus caras frontales una fuerza de adherencia que es superior a la fuerza ejercida por la eventual compresión de los salientes ; y
al menos una clase de salientes presenta una relación de aspecto tal que, al sobrepasarse una carga determinada, se pandean estos salientes y disminuye fuertemente la fuerza de adherencia por efecto del pandeo de las caras frontales.
PDF original: ES-2721049_T3.pdf
MÉTODO PARA FABRICAR UN COMPONENTE DE APARATO DOMÉSTICO, COMPONENTE DE APARATO DOMÉSTICO, APARATO DOMÉSTICO, Y DISPOSITIVO DE MICROESTRUCTURACIÓN POR LÁSER.
(29/01/2019). Solicitante/s: BSH ELECTRODOMESTICOS ESPAÑA S.A.. Inventor/es: BUÑUEL MAGDALENA,MIGUEL ANGEL, Ester Sola,Francisco Javier, Artal Lahoz,Maria Carmen, OCAÑA MORENO,JOSE LUIS, ESCARTÍN BARDUZAL,ANDRÉS, MARTÍNEZ SOLANAS,Elena, URRUTIA ANGOS,David, RADHAKRISHNAN,Jagdheesh.
La presente invención hace referencia a un método para fabricar un componente de aparato doméstico, el cual comprende los pasos consistentes en prever un elemento base , generar una primera estructura superficial por microestructuración por láser de al menos una superficie del elemento base , y generar una segunda estructura superficial por microestructuración por láser de dicha al menos una superficie del elemento base , donde la segunda estructura superficial es superpuesta al menos en parte sobre la primera estructura superficial . Asimismo, la invención hace referencia a un componente de aparato doméstico, a un aparato doméstico que comprenda al menos un componente de aparato doméstico, y a un dispositivo de microestructuración por láser.
PDF original: ES-2697919_A1.pdf
Micro/nano estructuras de nanopartículas coloidales fijadas sobre un sustrato electret y procedimiento de fabricación de dichas micro/nano estructuras.
(09/01/2019) Procedimiento de fabricación de una micro/nano estructura formada por nanopartículas coloidales que comprende un montaje monocapa o multicapa de nanopartículas coloidales fijadas sobre un sustrato electret, que tiene una forma geométrica, libremente elegida y predeterminada, que comprende las etapas consistentes en:
una primera etapa , proporcionar un sustrato electret, hecho de un material electret y que tiene una superficie de recepción libre, después
una segunda etapa , inscribir un potencial eléctrico de superficie en la superficie de recepción del sustrato electret según un motivo predeterminado de cargas eléctricas positivas y/o negativas correspondientes al montaje monocapa o multicapa de nanopartículas, después
en una tercera etapa , poner en contacto el sustrato…
Método para la fabricación de dispositivos microfluídicos tridimensionales monolíticos.
(03/12/2018) Método para producir un dispositivo microfluídico tridimensional monolítico , que comprende las siguientes etapas:
- producir, con un material sacrificial, una plantilla tridimensional de forma estable, que consiste en una parte (A), que se corresponde con la canalización del dispositivo microfluídico, y una o más partes (B, B'), que no se corresponden con dicha canalización;
- colocar dicha plantilla tridimensional en un molde suspendiéndola de al menos una de dicha una o más partes (B, B') que no se corresponden con dicha canalización;
- recubrir dicha plantilla tridimensional excluyendo dicha una o más partes (B, B') que no se corresponden con dicha canalización, con…
Imagen miniatura de medios tonos formada por un ensamblaje de nanopartículas coloidales y su procedimiento de realización.
(17/10/2018) Procedimiento de fabricación de un motivo miniatura de medios tonos sobre un sustrato electreto a partir de una imagen de medios tonos formada por una disposición bidimensional de píxeles de medios tonos comprendidos en un conjunto de medios tonos que van de claro a oscuro, caracterizado por que comprende las etapas que consisten en: generar electrónicamente un archivo de imagen de medios tonos compuestos de píxeles, estando definido cada píxel por coordenadas bidimensionales y un valor de codificación de medio tono del píxel que está asociado con él, convertir el archivo de imagen en un script de inyección, ejecutable mediante un programa informático de comando de un dispositivo de inyección de cargas eléctricas, permitiendo el script de inyección reproducir…
Método para taponar un orificio.
(11/09/2018). Solicitante/s: CIRCASSIA AB. Inventor/es: FISCHER, ANDREAS, NIKLAUS,FRANK, STEMME,GORAN, ROXHED,NIKLAS.
Un método para el sellado de un orificio, comprendiendo dicho método las etapas de
a) proporcionar al menos un sustrato con al menos un orificio en el que dicho al menos un orificio tiene una dimensión mayor de 1 μm a 300 μm,
b) proporcionar una pieza de material , en el que dicha pieza de material tiene una dimensión mayor que dicho al menos un orificio,
c) presionar dicha pieza de material contra el sustrato centrado en un punto adyacente al orificio, con una primera herramienta,
d) retirar la herramienta de la pieza de material , y
e) presionar adicionalmente dicha pieza de material al menos parcialmente en el orificio con una herramienta plana que opera en una cámara de presión controlable,
en el que dicho al menos un orificio es la abertura de una cavidad, y dicha cavidad está sellada a una atmósfera diferente de 101325 Pa de presión absoluta.
PDF original: ES-2680906_T3.pdf
Procedimiento para la fabricación de resonadores esferoidales sobre un substrato monocristalino.
(18/12/2017). Solicitante/s: UNIVERSITAT POLITECNICA DE CATALUNYA. Inventor/es: ALCUBILLA GONZALEZ,RAMON, GARÍN ESCRIVÁ,Moisés, SOLA GARCIA,Maria Magdalena.
Procedimiento para la fabricación de resonadores esferoidales sobre un substrato monocristalino.
El procedimiento comprende realizar, mediante la utilización de al menos una técnica litográfica y de grabado, una matriz de pilares sobre la superficie de un substrato monocristalino ; y reorganizar en fase sólida, dicha matriz de pilares por difusión superficial mediante un proceso de recocido a alta temperatura, igual o por encima de 1000ºC, proporcionando un número predeterminado de esferoides , en correspondencia al número de pilares , que están unidos al substrato monocristalino por un cuello.
PDF original: ES-2646942_A2.pdf
PDF original: ES-2646942_R1.pdf
Un método para fabricar una sonda que comprende un voladizo con un conducto.
(25/10/2017) Un método para fabricar una sonda , dicha sonda comprende
- un sustrato plano , y
- un voladizo que se extiende desde dicho sustrato plano , dicho voladizo tiene un extremo de base conectado al sustrato plano y un extremo distal , y
- un conducto que se extiende desde i) una primera abertura en una ubicación sobre el sustrato plano alejada del voladizo a ii) una segunda abertura en el voladizo alejada del extremo de base ;
- dicha sonda comprende además una cubierta que comprende un orificio de cubierta , dicho orificio de cubierta está
- opuesto al sustrato plano y alejado del voladizo, y
- en comunicación directa con la primera abertura ;
- el método implica grabar…
Dispositivo para la administración de medicamentos contra la artritis reumatoide.
(26/07/2017). Solicitante/s: KIMBERLY-CLARK WORLDWIDE, INC.. Inventor/es: ROSS,RUSSELL FREDERICK.
Dispositivo para la administración de un fármaco contra la artritis reumatoide a través de una barrera dérmica, comprendiendo el dispositivo:
una matriz de microagujas y una pluralidad de nanoestructuras conformadas sobre una superficie de, como mínimo, una de las microagujas , estando las nanoestructuras dispuestas en un patrón predeterminado; y
caracterizado por que comprende adicionalmente:
un depósito que está en comunicación fluida con la matriz de microagujas ; y
un fármaco contra la artritis reumatoide retenido dentro del depósito.
PDF original: ES-2636673_T3.pdf
SENSOR DE PRESIÓN CAPACITIVO CON CAPACITANCIAS DE REFERENCIA Y MÉTODO DE OBTENCIÓN DEL MISMO.
(26/07/2017). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: SACRISTAN RIQUELME,Jordi, SEGURA QUIJANO,Fredy Enrique, BOHÓRQUEZ REYES,Juan Carlos, ACHURY FLORIAN,Álvaro Uriel, UNIGARRO CALPA,Edgar Alberto, RAMIREZ RODRÍGUEZ,Fernando.
Sensor de presión capacitivo con capacitancias de referencia y método de obtención del mismo.
La presente invención es un sensor de presión capacitivo con capacitancias de referencia (13, 13'), susceptible de ser integrado monolíticamente en un circuito microelectrónico. Este sensor de presión comprende: un primer electrodo sensor insertado en una capa de material aislante donde también se encuentran las capacitancias de referencia (13, 13'), dos electrodos de referencia (10, 10') separados entre ellos por el primer electrodo sensor , una cavidad hermética sobrepuesta al primer electrodo sensor , dos muros de conexión que confinan al primer electrodo , a los dos electrodos de referencia (10, 10') y a la cavidad hermética , en donde esta cavidad hermética está cubierta por un segundo electrodo sensor que cuando es deformado por una fuerza externa varía la capacitancia.
PDF original: ES-2627013_B1.pdf
PDF original: ES-2627013_A1.pdf
Estructuras microfluídicas con sección transversal circular.
(07/06/2017) Método para fabricar una estructura microfluídica, que comprende:
(a) proporcionar una oblea impresa que comprende al menos una región eléctricamente conductora expuesta y al menos una región eléctricamente aislante expuesta ;
(b) electrodepositar una parte de canal inverso con sección transversal sustancialmente semicircular y un diámetro gradualmente variable a lo largo de al menos una parte de la parte de canal inverso sobre la oblea , formando de esta manera un primer molde tipo;
(c) emplear el primer molde tipo para estampar una parte de canal en una primera lámina de polímero; y
(d) alinear y unir la primera lámina de polímero con una…
SENSOR DE PRESIÓN CAPACITIVO CON CAPACITANCIAS DE REFERENCIA Y MÉTODO DE OBTENCIÓN DEL MISMO.
(11/05/2017). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: SACRISTAN RIQUELME,Jordi, SEGURA QUIJANO,Fredy Enrique, BOHÓRQUEZ REYES,Juan Carlos, ACHURY FLORIAN,Álvaro Uriel, UNIGARRO CALPA,Edgar Alberto, RAMIREZ RODRÍGUEZ,Fernando.
El sensor de presión capacitivo con capacitancias de referencia (13, 13') comprende una cavidad hermética sellada al vacío dispuesta sobre una capa aislante en donde están insertados un primer electrodo sensor y dos electrodos de referencia (10, 10') que no incrementan el área total del sensor. Un segundo electrodo sensor integrado en una membrana flexible cubre la cavidad . Cuando una fuerza externa deforma la membrana, la capacitancia entre los electrodos sensores y varía mientras que las capacitancias (13, 13') entre el electrodo y los electrodos de referencia (10, 10') sirven de referencia porque la deformación de la membrana cerca de los electrodos (10,10') es mínima. El sensor comprende también dos muros que conectan el electrodo con tierra blindando así el sensor frente a interferencias electromagnéticas externas. El método de obtención del sensor permite su integración monolítica en circuitos microelectrónicos.
Procedimiento para la fabricación de una estructura generadora de ondas de plasmones superficiales.
(22/03/2017) Un procedimiento para la fabricación de una microestructura para generar ondas de plasmones superficiales, caracterizado por comprender las etapas de:
Etapa S1: preparar un sustrato ;
Etapa S21: repartir el material portador el cual es un líquido volátil y una pluralidad de nanopartículas metálicas las cuales son distribuidas uniformemente en el material portador y transportadas por el material portador en el sustrato mediante un procedimiento de recubrimiento rotacional, pulverización, lacado por goteo, o inmersión;
Etapa S22: permitir que las nanopartículas metálicas se muevan mutuamente en el material portador para permitir la formación de una pluralidad de estructuras bidimensionales hexagonales compactas (2D HCP) mediante automontaje;
Etapa S23: realizar un proceso de secado para volatilizar…
Sustrato microestructurado.
(17/08/2016). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE. Inventor/es: LETHIEN,CHRISTOPHE, TILMANT,PASCAL, EUSTACHE,ETIENNE, ROLLAND,NATHALIE, BROUSSE,THIERRY.
Sustrato microestructurado que comprende una pluralidad de al menos una microestructura elemental, presentando dicha al menos una microestructura elemental una forma tubular con unos extremos inferior (3a) y superior (3b) longitudinales opuestos, estando el extremo inferior (3a) unido al sustrato, definiendo dicha al menos una microestructura elemental una cavidad interna abierta por su extremo superior (3b), estando dicho sustrato microestructurado caracterizado por que comprende una capa conforme de alúmina depositada en su superficie, en el interior y en el exterior de las microestructuras elementales.
PDF original: ES-2659837_T3.pdf
NANO- Y MICRO-ESTRUCTURACIÓN DE SILICIO CON LÁSER USANDO UN PLASMA INDUCIDO POR LÁSER PARA EL TRATAMIENTO DEL HAZ LÁSER DE PROCESADO.
(23/06/2016). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE MALAGA. Inventor/es: PALANCO LOPEZ,SANTIAGO, RAMOS BARRADO,JOSE RAMON, GABÁS PÉREZ,Mercedes, MARINO,Salvatore, ROMERO PAREJA,Rocío.
Nano- y micro-estructuración de silicio con láser usando un plasma inducido por láser para el tratamiento del haz láser de procesado. El método objeto de la invención se caracteriza por que comprende una etapa de ablación, en la que se hace incidir un primer haz de láser pulsado, de ablación, con un fluencia en el rango 10 - 100 J·cm-2, sobre la superficie de una muestra metálica generando un plasma inducido por láser; y una etapa de procesamiento, en la que se hace incidir un segundo haz de láser pulsado, de procesado, con una fluencia de 0,3 Jcm-2, retardado respecto al haz de láser de ablación, entre 0,1 y 1 microsegundos, sobre una superficie de silicio próxima al plasma inducido por láser de forma que dicho segundo haz láser atraviese dicho plasma perpendicularmente respecto al eje de expansión del plasma.
Procedimiento para la fabricación de artículos de polímeros de tiol-eno.
(24/02/2016) Un procedimiento para la fabricación de un artículo, comprendiendo dicho procedimiento las etapas de:
a) hacer reaccionar un compuesto que comprende al menos dos grupos tiol y un compuesto que comprende al menos dos dobles enlaces carbono-carbono, con la condición de que la proporción (r1) en la mezcla de reacción entre el número de grupos tiol y el número de dobles enlaces carbono-carbono cumple una de: 0,5 ≤ r1 ≤ 0,9 y 1,1 ≤ r1 ≤ 2, para obtener un primer artículo intermedio, donde dicho primer artículo intermedio comprende al menos un grupo sin reaccionar seleccionado de un grupo tiol sin reaccionar y un doble enlace carbono-carbono sin reaccionar,
b) poner en contacto dicho primer artículo…
Nano- y micro-estructuración de silicio con láser usando un plasma inducido por láser para el tratamiento del haz láser de procesado.
(11/02/2016). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE MALAGA. Inventor/es: PALANCO LOPEZ,SANTIAGO, RAMOS BARRADO,JOSE RAMON, GABÁS PÉREZ,Mercedes, MARINO,Salvatore, ROMERO PAREJA,Rocío.
Nano- y micro-estructuración de silicio con láser usando un plasma inducido por láser para el tratamiento del haz láser de procesado. El método objeto de la invención se caracteriza porque comprende una etapa de ablación, en la que se hace incidir un primer haz de láser pulsado, de ablación, con un fluencia en el rango 10 - 100 Jcm-2, sobre la superficie de una muestra metálica generando un plasma inducido por láser; y una etapa de procesamiento, en la que se hace incidir un segundo haz de láser pulsado, de procesado, con una fluencia de 0,3 Jcm-2, retardado respecto al haz de láser de ablación, entre 0,1 y 1 microsegundos, sobre una superficie de silicio próxima al plasma inducido por láser de forma que dicho segundo haz láser atraviese dicho plasma perpendicularmente respecto al eje de expansión del plasma.
PDF original: ES-2559327_B2.pdf
PDF original: ES-2559327_A1.pdf
Procedimiento para la producción de nanoestructuras de silicio periódicas cristalinas.
(13/01/2016). Solicitante/s: HELMHOLTZ-ZENTRUM BERLIN FUR MATERIALIEN UND ENERGIE GMBH. Inventor/es: RECH,BERND, RUDIGIER-VOIGT,EVELINE, Bockmeyer,Matthias, BECKER,CHRISTIANE, SONTHEIMER,TOBIAS.
Procedimiento para la producción de nanoestructuras de silicio periódicas cristalinas, que presenta al menos las etapas de procedimiento creación de un sustrato periódicamente estructurado con una constante de red a entre 100 nm y 2 μm, y subsiguiente deposición de silicio mediante un procedimiento de deposición orientado al sustrato periódicamente estructurado, utilizando como sustrato un material estable hasta al menos 570ºC y creando la estructura con zonas/flancos planos y empinados periódicamente recurrentes,
en donde el silicio es depositado sobre el sustrato periódicamente estructurado con un espesor en el intervalo de 0,2 a 3 veces la constante de la red a a una temperatura del sustrato de hasta 400ºC, caracterizado por que después la capa de silicio depositada, con el fin de una cristalización en fase sólida, es tratada térmicamente a temperaturas entre 570 ºC y 1.400 ºC a lo largo de unos pocos minutos hasta varios días.
PDF original: ES-2566182_T3.pdf
Procedimiento para la fabricación de un sistema microfluídico sobre una superficie de polímero.
(09/12/2015) Procedimiento para la fabricación de un sistema microfluídico sobre una superficie de polímero, en el que al menos una zona parcial de la superficie de polímero se irradia de manera dirigida con luz láser para la modificación con resolución espacial de la humectabilidad de la zona parcial de la superficie de polímero mediante una muestra líquida, en el que al menos una zona parcial de la superficie de polímero se hidrofobiza mediante la irradiación con luz láser, en el que la zona parcial está orientada para ralentizar o detener el flujo de la muestra líquida o para impedir la humectación de la zona parcial mediante la muestra líquida, en particular durante una aplicación de muestra, en el que se fabrica un elemento de prueba para la determinación…
DISPOSITIVO MULTIPLICADOR DE ELECTRONES MICROMECANIZADO Y PARA DETECCIÓN DE PARTÍCULAS IONIZANTES,SISTEMA DE DETECCIÓN DE PARTÍCULAS IONIZANTES Y MÉTODO DE FABRICACIÓN DEL DISPOSITIVO.
(14/09/2015) Dispositivo multiplicador de electrones micromecanizado para detección de partículas ionizantes, sistema de detección de partículas ionizantes y método de fabricación del dispositivo.
Dispositivo multiplicador de electrones micromecanizado y apilable para la detección de partículas ionizantes que comprende un sustrato sólido con una cavidad central micromecanizada en el centro de la cara inferior del sustrato definiendo un contorno perimétrico de soporte del sustrato alrededor de la cavidad y una pluralidad de orificios pasantes micromecanizados situados en correspondencia con la cavidad ; una primera capa dieléctrica aislante depositada sobre todas las superficies del sustrato solido; un primer electrodo metálico de polarización situado…
DISPOSITIVO MULTIPLICADOR DE ELECTRONES MICROMECANIZADO PARA DETECCIÓN DE PARTÍCULAS IONIZANTES, SISTEMA DE DETECCIÓN DE PARTÍCULAS IONIZANTES Y MÉTODO DE FABRICACIÓN DEL DISPOSITIVO.
(20/08/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: LOZANO FANTOBA,MANUEL, ESTEVE TINTO,JAUME, CABRUJA CASAS, ENRIC, CAMPANELLA PINEDA,Humberto, BRANT DE CAMPOS,Jose, CERQUEIRA GOMES,Gabriela, PESSOA LIMA JUNIOR,Herman.
Dispositivo multiplicador de electrones micromecanizado y apilable para la detección de partículas ionizantes que comprende un sustrato sólido con una cavidad central micromecanizada en el centro de la cara inferior del sustrato definiendo un contorno perimétrico de soporte del sustrato alrededor de la cavidad y una pluralidad de orificios pasantes micromecanizados situados en correspondencia con la cavidad ; una primera capa dieléctrica aislante depositada sobre todas las superficies del sustrato solido; un primer electrodo metálico de polarización situado sobre la cara superior de la primera capa eléctrica aislante ; y un segundo electrodo metálico de polarización situado sobre la cara inferior de la primera capa eléctrica aislante.
