Procedimiento para la fabricación de una estructura generadora de ondas de plasmones superficiales.
Un procedimiento para la fabricación de una microestructura para generar ondas de plasmones superficiales,
caracterizado por comprender las etapas de:
Etapa S1: preparar un sustrato (10);
Etapa S21: repartir el material portador (22) el cual es un líquido volátil y una pluralidad de nanopartículas metálicas (21) las cuales son distribuidas uniformemente en el material portador (22) y transportadas por el material portador (22) en el sustrato (10) mediante un procedimiento de recubrimiento rotacional, pulverización, lacado por goteo, o inmersión;
Etapa S22: permitir que las nanopartículas metálicas (21) se muevan mutuamente en el material portador para permitir la formación de una pluralidad de estructuras bidimensionales hexagonales compactas (2D HCP) mediante automontaje;
Etapa S23: realizar un proceso de secado para volatilizar gradualmente en material portador (22) para hacer que las estructuras bidimensionales HCP se apilen sobre otra para formar la capa de apilado de partículas metálicas (20) sirviendo como superficie discontinua de la microestructura;
Etapa S3: formar una primera capa dieléctrica (30) a un lado de la capa de apilado de partículas metálicas (20) lejos del sustrato (10), y dejar que algunas de las nanopartículas metálicas (21) entren en la primera capa dieléctrica (30) por absorción o difusión para formar una primera capa de suspensión de partículas (40).
Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E14182597.
Solicitante: Tsung, Cheng-Sheng.
Nacionalidad solicitante: Taiwan, Provincia de China.
Dirección: No. 3, Aly. 27, Shuren Ln. Zhongzheng Road Caotun Township 542, Nantou County TAIWAN.
Inventor/es: TSUNG,CHENG-SHENG, CHUANG,SHIH-HAO.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B81C1/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B81 TECNOLOGIA DE LAS MICROESTRUCTURAS. › B81C PROCEDIMIENTOS O APARATOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA LA FABRICACION O EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS O SISTEMAS DE MICROESTRUCTURA (fabricación de microcápsulas o de microbolas B01J 13/02; procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de elementos piezoeléctricos o electroestrictivos o magnetoestrictivos en sí H01L 41/22). › Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).
- G02B5/00 FISICA. › G02 OPTICA. › G02B ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene prioridad; elementos ópticos especialmente adaptados para ser utilizados en los dispositivos o sistemas de iluminación F21V 1/00 - F21V 13/00; instrumentos de medida, ver la subclase correspondiente de G01, p. ej. telémetros ópticos G01C; ensayos de los elementos, sistemas o aparatos ópticos G01M 11/00; gafas G02C; aparatos o disposiciones para tomar fotografías, para proyectarlas o para verlas G03B; lentes acústicas G10K 11/30; "óptica" electrónica e iónica H01J; "óptica" de rayos X H01J, H05G 1/00; elementos ópticos combinados estructuralmente con tubos de descarga eléctrica H01J 5/16, H01J 29/89, H01J 37/22; "óptica" de microondas H01Q; combinación de elementos ópticos con receptores de televisión H04N 5/72; sistemas o disposiciones ópticas en los sistemas de televisión en colores H04N 9/00; disposiciones para la calefacción especialmente adaptadas a superficies transparentes o reflectoras H05B 3/84). › Elementos ópticos distintos de las lentes (guías de luz G02B 6/00; elementos ópticos lógicos G02F 3/00).
PDF original: ES-2631178_T3.pdf
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