CIP-2021 : C23C 16/455 : caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara de reacción.

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Notas^[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

Notas^[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto

C QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).

C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).

C23C 16/455 · · caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara de reacción.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Sistema de sumininstro y escape en un aparato de polimerización de plasma.

(26/03/2012) Un sistema de suministro y escape para un aparato de polimerización por plasma en que un sustrato se mueve de manera continua comprende: una cámara de polimerización que tiene una entrada de gases para suministrar gas a la cámara de polimerización y una salida de gases para gas reactivo de escape suministrado por la entrada de gases y una cámara de postratamiento instalada al lado de la cámara de polimerización y que tiene una entrada de gases para suministrar gas a la cámara de postratamiento y una salida de gases para gas de escape suministrado por la entrada de gases de la cámara de postratamiento, en el que la entrada de gases de la cámara de polimerización se coloca en la misma dirección del flujo del sustrato en una porción de la entrada de la cámara de polimerización y la entrada de gases de la cámara de postratamiento se…

Revestimiento protector de plata.

(07/03/2012) Un método para proteger productos, artículos o partes de plata contra el deslustre, caracterizado por apli- car un revestimiento delgado de un material protector, que tiene un espesor entre 1 nm y 100 nm, en al menos una parte de la superficie de un producto, artículo o parte de plata, usando un método ALD (deposición de capa atómica).

METALIZACION DE SUSTRATO(S) MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO DE DEPOSICION LIQUIDO/VAPOR.

(15/09/2010) Un método para el control de la metalización sobre un sustrato mediante un proceso de deposición, que comprende: transportar un precursor que contiene al metal en un medio de transporte a través de una cámara hacia el sustrato, siendo la temperatura en el espacio de transporte menor que la temperatura de descomposición del precursor que contiene al metal, y depositar sobre el sustrato una capa metálica mediante la descomposición en el sustrato del precursor que contiene al metal, siendo la temperatura del sustrato mayor que la temperatura de descomposición del precursor que contiene al metal, en el que la temperatura del sustrato y la temperatura del precursor que contiene al metal en el espacio de transporte…

PROCEDIMIENTO E INSTALACION DE DENSIFICACION DE SUSTRATOS POROSOS POR INFILTRACION QUIMICA EN FASE GASEOSA.

(16/05/2007) Procedimiento de dosificación de substratos porosos por una matriz obtenida por infiltración química en fase gaseosa utilizando un gas reactivo que contiene por lo menos un precursor gaseoso del material de la matriz, comprendiendo el procedimiento: - la carga de substratos a densificar en una zona de carga de un horno, - el calentamiento de los substratos en el horno a fin de llevarlos a una temperatura a la cual el material de matriz deseado es formado a partir del o de los precursores gaseosos contenidos en el gas reactivo, - la admisión del gas reactivo por un extremo del horno, y - el calentamiento del gas reactivo, después de entrada en el horno, pasando por una zona de calentamiento de gas situada corriente arriba de la zona de carga, en el sentido de flujo del gas reactivo…

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA RECUBRIR AL MENOS UNA GOMA DE LIMPIAPARABRISAS.

(01/04/2007). Solicitante/s: ROBERT BOSCH GMBH. Inventor/es: WEBER, THOMAS, BURGER, KURT, SCHNEIDER, GUENTER, BURGHOFF, KLAUS, FORGET-FUNK, JEANNE.

Procedimiento para recubrir goma de limpiaparabrisas de un material elastomérico, en el que primero se limpia y activa la superficie del material elastomérico mediante un plasma, y en el que después un material de recubrimiento se pasa en un proceso CVD a un estado en forma de plasma y forma al menos una capa protectora sobre la superficie del material , aplicándose sobre la región del material alejada de la capa protectora una tensión de alta frecuencia a través de un electrodo , caracterizado porque el material se corta antes de su introducción en una cámara de tratamiento a partir de una banda perfilada, a una longitud lista para usarse, para formar diferentes gomas de limpiaparabrisas, se dispone encima de una placa de electrodos y se expone a una corriente de plasma.

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