Composición acuosa alcalina de grabado y de limpieza y procedimiento de tratamiento de la superficie de sustratos de silicio.
(08/02/2019) Una composición acuosa alcalina de grabado y de limpieza que comprende: (A) al menos un hidróxido de amonio cuaternario; preferiblemente seleccionado del grupo que consiste en hidróxido de tetrametilamonio e hidróxido de tetraetilamonio; y (B) al menos un componente seleccionado del grupo que consiste en (b1) ácidos sulfónicos solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general I: (R1-SO3-)nXn+ (I), (b2) ácidos fosfónicos solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general II: R-PO32-(Xn+)3-n (II), (b3) ésteres de ácido sulfúrico solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general III: (RO-SO3-)nXn+ (III), (b4) ésteres de ácido fosfórico solubles en agua y sus sales solubles en agua de…