CIP-2021 : C23C 14/26 : por calentamiento de la fuente por inducción o por resistencia.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/26 · · · por calentamiento de la fuente por inducción o por resistencia.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
FUENTE TÉRMICA DE TIPO RESISTIVO PARA DEPOSICIÓN DE LÁMINAS DELGADAS MEDIANTE EVAPORACIÓN EN VACÍO.
(09/07/2020). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: LARRUQUERT GOICOECHEA,Juan Ignacio, MÉNDEZ MORALES,José Antonio, AZNÁREZ CANDAO,José Antonio, SÁNCHEZ OREJUELA,José María.
Comprende: - una parrilla que está formada por una pluralidad de hilos de metal refractario que están yuxtapuestos uno al lado de otro en paralelo, estando la parrilla destinada a soportar una cantidad de un material evaporante fundido, para ser evaporado en vacío con el fin de formar un depósito en forma de lámina delgada, donde los hilos comprenden dos extremos; y dos casquillos de conexión , localizados en ios extremos, y que mantienen unidos todos los hilos entre sí, y facilitan la conexión de los hilos con una fuente de electricidad. Se puede emplear una parrilla recta , con hilos rectos, o una parrilla curvada , con hilos que presentan una parte curvada formando una diferencia de nivel (R).
FUENTE TÉRMICA DE TIPO RESISTIVO PARA DEPOSICIÓN DE LÁMINAS DELGADAS MEDIANTE EVAPORACIÓN EN VACÍO.
(30/06/2020). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: LARRUQUERT GOICOECHEA,Juan Ignacio, MÉNDEZ MORALES,José Antonio, AZNÁREZ CANDAO,José Antonio, SÁNCHEZ OREJUELA,José María.
Fuente térmica de tipo resistivo para deposición de láminas delgadas mediante evaporación en vacío.
Comprende: - una parrilla que está formada por una pluralidad de hilos de metal refractario que están yuxtapuestos uno al lado de otro en paralelo, estando la parrilla destinada a soportar una cantidad de un material evaporante fundido, para ser evaporado en vacío con el fin de formar un depósito en forma de lámina delgada, donde los hilos comprenden dos extremos; y dos casquillos de conexión , localizados en los extremos, y que mantienen unidos todos los hilos entre sí, y facilitan la conexión de los hilos con una fuente de electricidad. Se puede emplear una parrilla recta , con hilos rectos, o una parrilla curvada , con hilos que presentan una parte curvada formando una diferencia de nivel (R).
PDF original: ES-2770131_A1.pdf
PDF original: ES-2770131_B2.pdf
MÉTODO DE OBTENCIÓN DE CAPAS DELGADAS DE MATERIAL FOTOELÉCTRICO CON ESTRUCTURA DE TIPO PEROVSKITA Y CAPAS ASÍ OBTENIDAS.
(02/06/2016). Solicitante/s: UNIVERSITAT DE VALENCIA. Inventor/es: LONGO,Giulia, SESSOLO,Michele, BOLINK,Henk, GIL ESCRIG,Lidon.
Método de obtención de capas delgadas de material fotovoltaico con estructura de tipo perovskita mediante la técnica de evaporación térmica de una sola fuente. Mediante el método aquí descrito, es posible obtener capas delgadas de perovskitas híbridas orgánicas-inorgánicas mediante la técnica de evaporación instantánea obteniendo unas capas delgadas uniformes y de elevada cristalinidad. Estas capas han sido ensayadas en dispositivos fotovoltáicos planos, mostrando una elevada eficiencia energética.
Método de obtención de capas delgadas de material fotoeléctrico con estructura de tipo perovskita y capas así obtenidas.
(30/05/2016). Solicitante/s: UNIVERSITAT DE VALENCIA. Inventor/es: BOLINK,Hendrik, LONGO,Giulia, SESSOLO,Michele, GIL ESCRIG,Lindon.
Método de obtención de capas delgadas de material fotovoltaico con estructura de tipo perovskita mediante la técnica de evaporación térmica de una sola fuente.
Mediante el método aquí descrito, es posible obtener capas delgadas de perovskitas hibridas orgánicas-inorgánicas mediante la técnica de evaporación instantánea obteniendo unas capas delgadas uniformes y de elevada cristalinidad. Estas capas han sido ensayadas en dispositivos fotovoltaicos planos, mostrando una elevada eficiencia energética.
PDF original: ES-2572131_B1.pdf
PDF original: ES-2572131_A1.pdf
FUENTE DE EVAPORACIÓN PARA EL TRANSPORTE DE PRECURSORES QUÍMICOS, Y MÉTODO DE EVAPORACIÓN PARA EL TRANSPORTE DE LOS MISMOS QUE UTILIZA DICHA FUENTE.
(03/07/2014). Ver ilustración. Solicitante/s: ABENGOA SOLAR NEW TECHNOLOGIES, S.A. Inventor/es: DELGADO SÁNCHEZ,José María, SÁNCHEZ-CORTEZÓN,Emilio, SANCHO MARTÍNEZ,Diego, MARQUEZ PRIETO,José Antonio.
La invención presenta una fuente de evaporación para el transporte de precursores químicos, hasta un sustrato en el cual se realiza la deposición de éstos mediante condensación, formada por un tubo principal que alberga en su parte inferior a los precursores, y que tiene medios de calentamiento . En la parte superior del tubo principal se dispone una entrada y una salida para gases portadores, estando situadas en la superficie lateral del tubo principal , opuestas la una frente a la otra y alineadas a lo largo de una línea común que atraviesa transversalmente la superficie lateral del tubo principal . La invención adicionalmente presenta un método de evaporación para el transporte de precursores químicos, en el que la introducción y extracción de los gases portadores del tubo principal se realizan alineados en dirección transversal a la superficie lateral de éste.
Dispositivo de deposición al vacío con depósito de recarga y procedimiento de deposición al vacío correspondiente.
(15/11/2013) Dispositivo de deposición al vacío que comprende un recinto adaptado para recibir un sustrato a tratar y para ser puesto al vacío y por lo menos un inyector para generar un chorro molecular de vapor de un material orgánico, comprendiendo dicho inyector un conducto que se encuentra en el interior de dicho recinto y que atraviesa una pared de inyección de dicho recinto para formar un terminal exterior adaptado para ser conectado herméticamente, de manera separable, a un medio de alimentación de material orgánico, caracterizado porque dicho medio de alimentación es una botella cuyo gollete está adaptado para ser introducido en dicho terminal , y porque dicho dispositivo de deposición comprende, a uno…
Inyector para una fuente de evaporación al vacío.
(14/11/2013) Inyector para una fuente de evaporación al vacío, que comprende:
- un conducto de inyección que presenta un eje longitudinal y que comprende un orificio de entrada que puede ser conectado a una fuente de evaporación al vacío y por lo menos una boquilla destinada adifundir un material vaporizado, presentando dicha boquilla una cara lateral y una cara superior ,caracterizado porque:
- dicha boquilla comprende un canal principal que emerge hacia el exterior de dicho conducto deinyección y por lo menos un canal de alimentación lateral que conecta el interior del conducto deinyección con el…
PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR CALCOGENUROS POR CO-EVAPORACIÓN FÍSICA.
(17/09/2013) Procedimiento para depositar calcogenuros por co-evaporación física.
La invención se refiere a un procedimiento de deposición de calcogenuros con control de la presión de gas mediante activación pulsada y continua de una válvula en la fuente de gas calcógeno. Gracias a la aplicación de estos pulsos se puede controlar la presión en la cámara de manera que la estequiometría es fácilmente controlable, mientras que se puede prescindir de válvulas complicadas.
PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR CALCOGENUROS POR CO-EVAPORACIÓN FÍSICA.
(04/07/2013). Solicitante/s: CENTRO DE INVESTIGACIONES ENERGETICAS, MEDIOAMBIENTALES Y TECNOLOGICAS (CIEMAT). Inventor/es: GUTIERREZ GARCIA,M. TERESA, HERRERO RUEDA,JOSE, TRIGO ESCALERA,Juan Francisco.
La invención se refiere a un procedimiento de deposición de calcogenuros con control de la presión de gas mediante activación pulsada y continua de una válvula en la fuente de gas calcógeno. Gracias a la aplicación de estos pulsos se puede controlar la presión en la cámara de manera que la estequiometría es fácilmente controlable, mientras que se puede prescindir de válvulas complicadas.
PROCEDIMIENTO PARA LA METALIZACIÓN DE FIBRAS DE NYLON Y CEPILLO PARA EL CABELLO DE FIBRAS DE NYLON METALIZADAS.
(07/09/2012). Solicitante/s: DOLS INDUSTRIAL DE PELUQUERIA, S.A.. Inventor/es: BERNAT I BERNAT,JOSE MARIA, BARRIGA BERROCAL,FRANCISCO JAVIER, RUIZ DE GOPEGUI LLONA,UNAI, MARQUEZ DEL AGUILA,Juan Carlos.
Procedimiento para la metalización de fibras de nylon, basado en la deposición de una fina capa de metal a nivel nanométrico sobre dichas fibras. La presente invención se aplica en concreto a las fibras de nylon presentes en los cepillos para el cabello, con el fin de eliminar la acumulación de electricidad estática durante el peinado y, con ello, el encrespamiento del cabello.
CÁPSULAS DE VAPORIZACIÓN CALENTADA POR RESISTENCIA.
(18/02/2011) Cápsula de vaporización de cerámica calentada por resistencia que comprende un cuerpo de vaporización alargado fabricado de un material cerámico homogéneo y que tiene un lado superior y superficies de los lados laterales planas las cuales no son paralelas entre sí, cada una de dichas superficies de los lados laterales está inclinada para comprender un ángulo de 45° con el lado superior , en el que el cuerpo de vaporización tiene una sección transversal trapezoidal de modo que el cuerpo de vaporización tiene un lado inferior el cual es paralelo al lado superior y la relación entre el ancho del lado superior y la altura del cuerpo…
USO DE COMPOSICIONES DE MAGNESIO Y COBRE PARA LA EVAPORACION DE MAGNESIO.
(28/07/2010) Uso de composiciones de magnesio y cobre para la evaporación de magnesio en la fabricación de pantallas orgánicas de emisión de luz (OLED), en el que dichas composiciones contienen hasta un 43,34% en peso de magnesio
LANZADERA DE EVAPORACION DE CERAMICA.
(16/11/2001). Solicitante/s: ELEKTROSCHMELZWERK KEMPTEN GMBH. Inventor/es: SEIFERT, MARTIN.
LA INVENCION TRATA DE LANZADERAS DE EVAPORACION DE CERAMICA PARA EVAPORAR METAL QUE COMPRENDE COMPONENTE CONDUCTOR Y COMPONENTE NO CONDUCTOR, CARACTERIZADO PORQUE EL COMPONENTE CONDUCTOR DEL MATERIAL CERAMICO ESTA ENRIQUECIDO EN LA SUPERFICIE DE LA LANZADERA DE EVAPORACION, EN LA CUAL SE REALIZA LA EVAPORACION DEL METAL. LAS LANZADERAS DE EVAPORACION TIENEN UN COMPORTAMIENTO MEJORADO DE IMPREGNACION INICIAL.
EVAPORACION TERMICA EN DOS PLANOS.
(16/07/1996). Solicitante/s: DAVIDSON TEXTRON INC.. Inventor/es: EISFELLER, RICHARD C.
LA METALIZACION AL VACIO DE SUSTRATOS CON SUPERFICIES TANTO VERTICALES COMO HORIZONTALES TIENE LUGAR DIRIGIENDO METAL DE DOS FUENTES REMOTAS POR EVAPORACION TERMICA. SE CONECTA UNA FUENTE HORIZONTALMENTE POR DEBAJO DEL OBJETO PARA DEPOSITAR METAL HACIA EL OBJETO VERTICALMENTE A SU SUPERFICIE HORIZONTAL. LA FUENTE SEGUNDA SE CONECTA VERTICALMENTE EL OBJETO PARA DEPOSITAR METAL HACIA EL OBJETO HORIZONTALMENTE A SU SUPERFICIE VERTICAL. UNA CAMARA DE VACIO CONTIENE UN CARRUSEL ROTATIVO QUE SUJETA LOS OBJETOS CON LAS FUENTES LOCALIZADAS FIJAS DENTRO DE LA CAMARA PARA EJECUTAR LA EVAPORACION TERMICA.
DISPOSITIVO PARA EL REVESTIMIENTO CONTINUO DE SUBSTRATOS EN FORMA DE BANDAS.
(16/08/1995). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: GRIMM, HELMUT, DR., RUBSAM, KLEMENS.
EN UN DISPOSITIVO PARA EL REVESTIMIENTO CONTINUO DE SUBSTRATOS EN FORMA DE BANDAS EN UN CAMARA DE REVESTIMIENTO AL VACIO, CON MUCHAS NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1',...), DISPUESTAS A LO LARGO DE LA DIRECCION DE LA BANDA (A) Y PARALELAMENTE EN DISTANCIAS APROXIMADAMENTE IGUALES ENTRE SI, QUE FORMAN UN BANCO DE EVAPORACION, CASI DE IGUAL TAMAÑO Y CONFIGURACION, LAS CUALES ESTAN TODAS COMPUESTAS DE UNA CERAMICA CONDUCTORA ELECTRICA PUDIENDOSE CALENTAR POR EL PASO DIRECTO DE LA CORRIENTE ELECTRICA, Y EN LAS QUE SE HA PREVISTO UN DISPOSITIVO PARA LA ALIMENTACION CONTINUA DEL ALAMBRE A EVAPORAR HACIA LAS NAVECILLAS DE EVAPORACION; LAS CAVIDADES (K, K',...) DE LAS DISTINTAS NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1'...) DEL BANCO DE EVAPORACION SE HAN DISPUESTO DE FORMA ALTERADA RESPECTIVAMENTE ENTRE SI, EN DONDE TODAS LAS CAVIDADES (K, K'...) CUBREN CONJUNTAMENTE UNA ZONA DE REVESTIMIENTO (B) DELGADA QUE SE EXTIENDE TRANSVERSALMENTE A LA DIRECCION DE MARCHA DE LA BANDA (A).
PROCESO PARA LA OBTENCION DE RECUBRIMIENTOS DE CARBONO Y CARBONO-METAL MEDIANTE DEPOSICION FISICA EN FASE VAPOR POR ARCO METALICO CON CATODO DE GRAFITO.
(16/06/1995). Solicitante/s: TEKNIKER. Inventor/es: LAUZARITA, JAVIER, ALBERDI, ALBERTO.
PROCESO PARA LA OBTENCION DE RECUBRIMIENTOS DE CARBONO Y CARBONO METAL MEDIANTE DEPOSICION FISICA EN FASE VAPOR POR ARCO ELECTRICO CON CATODO DE GRAFITO EN EL QUE LA DISPOSICION DEL ELECTRODO ES LA DE UNA BARRA ENMARCADA EN ANILLOS AISLANTES DE NITRURO DE BARO HEXAGONAL DE MODO QUE LA EVAPORACION POR ARCO ELECTRICO DEL ELECTRODO DE GRAFITO GENERA UN PLASMA DE CARBONO DENTRO DE UNA CAMARA DE VACIO PRODUCIENDO POR ESTA VIA RECUBRIMIENTOS DE CARBONO. EL PROCESO SE DIVIDE EN DOS ETAPAS EN CUANTO A LA POLARIZACION ELECTRICA NEGATIVA, UNA DE ALTA POLARIZACION DURANTE LA NUCLEACION DE LA CAPA, PARA MEJORAR LA ADHERENCIA Y OTRA DE BAJA POLARIZACION DURANTE SU CRECIMIENTO, PARA REDUCIR LAS TENSIONES INTERNAS. EN EL PROCESO SE UTILIZA SIMULTANEAMENTE CARBONO EVAPORADO POR ARCO ELECTRICO A PARTIR DE GRAFITO DE CARBONO Y UN METAL EVAPORADO POR PULVERIZACION CATODICA PARA SINTETIZAR RECUBRIMIENTOS DE CARBONO-METAL.
EVAPORADOR EN SERIE PARA INSTALACIONES DE EVAPORACION EN VACIO.
(01/02/1994) EN UN EVAPORADOR EN SERIE PARA INSTALACIONES DE EVAPORACION EN VACIO, CON VARIOS EVAPORADORES CONTROLABLES EN LA POTENCIA, CALENTADOS MEDIANTE EL PASO DE CORRIENTE, FIJADOS SOBRE CONDUCTOS DE ALIMENTACION ELECTRICA CONFIGURADOS EN FORMA DE TUBO, ESTANDO RETENIDOS LOS CONDUCTOS EN FORMA DE TUBO POR UN CUERPO DE SOPORTE CONDUCTOR ELECTRICO, QUE SE EXTIENDE SOBRE TODA LA LONGITUD DEL EVAPORADOR EN SERIE Y ESTANDO CONECTADOS LOS CONDUCTOS DE UNA POLARIDAD DE FORMA CONDUCTORA ELECTRICA CON EL CUERPO DE SOPORTE , MIENTRAS QUE LOS CONDUCTOS DE LA OTRA POLARIDAD ESTAN CONDUCIDOS AISLADOS POR EL CUERPO DE SOPORTE Y ESTAN CONECTADOS CON ALAMBRES CONDUCTORES DISPUESTOS AISLADOS, LOS CONDUCTOS EN FORMA DE TUBO CONDUCIDOS CON JUEGO (A, B) A TRAVES DEL CUERPO…
DISPOSITIVO DE EVAPORACION BAJO VACIO DE UN METAL EN PROCESO CONTINUO.
(01/04/1993). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL D'ETUDES SPATIALES. Inventor/es: PAILLER, RENE, REMONDIERE, OLIVIER, BOURQUIN, PATRICK.
EL SUSTRATO A REVESTIR DESFILA EN EL INTERIOR DE UN RECINTO A VACIO . EL MATERIAL A DEPOSITAR ESTA ALMACENADO EN UN TANQUE CERRADO EN SU PARTE INFERIOR POR UNA PLACA . UN CABLE UNE AQUELLA A UNA VALVULA QUE CIERRA EL ORIFICIO DE ALIMENTACION DE UN CRISOL CALENTADO A UNA TEMPERATURA QUE PERMITE LA EVAPORACION DEL MATERIAL . UN DISPOSITIVO DE MANDO CON ELECTROIMANES PERMITE HACER BASCULAR LA PLACA Y BAJAR LA VALVULA ; UNA CIERTA CANTIDAD DE POLVO CAE EN EL CRISOL Y DESPUES LA PLACA Y LA VALVULA SE LLEVAN A LA POSICION DE CIERRE. UNA REJILLA CUYAS MALLAS TIENEN DIMENSIONES INFERIORES A AQUELLAS DE LOS GRANOS DE POLVO PRESENTES EN EL CRISOL PERMITE EL PASO DEL VAPOR Y EL DEPOSITO SOBRE EL SUSTRATO . APLICACION A LA REALIZACION DE FIBRAS DE CARBONO RECUBIERTAS DE MAGNESIO.
UN DISPOSITIVO DE EVAPORACION.
(16/04/1965). Ver ilustración. Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE.
Resumen no disponible.
